论文目录 | |
摘要 | 第1-7页 |
abstract | 第7-13页 |
第1章 统计力学与分子模拟 | 第13-35页 |
1.1 分子模拟的简介 | 第13-19页 |
1.1.1 分子动力学模拟(MD) | 第13-17页 |
1.1.2 蒙特卡罗模拟(MC) | 第17-19页 |
1.2 平均场方法简介 | 第19-28页 |
1.2.1 LMF理论 | 第19-26页 |
1.2.2 对称保持平均场(SPMF)方法 | 第26-28页 |
1.3 统计力学 | 第28-31页 |
1.4 论文选题思路 | 第31页 |
参考文献 | 第31-35页 |
第2章 平均场方法的比较 | 第35-49页 |
2.1 关于LMF和SPMF的讨论 | 第35-41页 |
2.2 三种近似方法的应用 | 第41-47页 |
参考文献 | 第47-49页 |
第3章 静电相互作用的处理方法及其问题 | 第49-69页 |
3.1 常用的静电处理方法及存在的问题 | 第49-59页 |
3.1.1 截断类型的方法 | 第49-51页 |
3.1.2 Ewald类型的方法 | 第51-58页 |
3.1.3 平均场方法 | 第58-59页 |
3.2 Ewald2D处理二维周期性体系(平面、界面体系) | 第59-65页 |
3.3 本章小结 | 第65页 |
参考文献 | 第65-69页 |
第4章 平均场方法理解静电边界 | 第69-103页 |
4.1 Ewald3D求和与Ewald2D求和公式的联系及它们的性质 | 第70-80页 |
4.1.1 Ewald2D的性质 | 第71-74页 |
4.1.2 Ewald3D求和以及它的无限边界项 | 第74-76页 |
4.1.3 φ~(2D)和φ~(3D)之间的关系 | 第76-77页 |
4.1.4 α→∞的极限 | 第77-78页 |
4.1.5 连续化极限 | 第78-80页 |
4.2 e2d与e3dtf用于平面体系的模拟 | 第80-91页 |
4.2.1 分子液体限制在两个平面板之间 | 第80-86页 |
4.2.2 任意介电的液体 | 第86-89页 |
4.2.3 球形对称的性质 | 第89-91页 |
4.3 e3dtf处理离子体系的结果 | 第91-96页 |
4.4 本章小结 | 第96-97页 |
参考文献 | 第97-103页 |
第5章 结论与展望 | 第103-105页 |
附录 | 第105-149页 |
A. 周期性边界条件(Periodic boundary conditions) | 第105-106页 |
B. BBGKY级联方程和YBG级联方程的推导 | 第106-113页 |
C. 高斯分布(Gaussian distribution) | 第113-116页 |
D. 误差函数和补充误差函数(Error function and complementary error function) | 第116-119页 |
E. 泊松求和公式(Poisson summation formula) | 第119-120页 |
F. Ewald3D倒易空间项和Ewald2D倒易空间项的关系 | 第120-123页 |
G. 平面界面体系e3dtf处理静电,电场的修正项E_(corr) | 第123-124页 |
H. 泛函(Functional)的定义和泛函的微分(functional differentiation) | 第124-130页 |
I. 密度泛函理论 | 第130-131页 |
J. 直接相关函数(direct correlation functions) | 第131-135页 |
K. Ewald3D和Ewald2D的pairwise形式表达式 | 第135-147页 |
参考文献 | 第147-149页 |
作者简历 | 第149-151页 |
致谢 | 第151页 |