大视场X射线微分干涉相衬成像核心器件与系统研究

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大视场X射线微分干涉相衬成像核心器件与系统研究

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大视场X射线微分干涉相衬成像核心器件与系统研究

论文目录
摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-9页
第一章绪论	第9-31页
· X 射线成像系统发展概况	第9-12页
· X 射线相衬成像发展	第12-20页
· 同轴相衬成像系统	第12-13页
· 晶体干涉仪相衬成像系统	第13-14页
· 衍射增强相衬成像系统	第14-15页
· 基于光栅的 X 射线微分干涉相衬成像系统	第15-20页
· X 射线微分干涉相衬成像关键器件的研究进展	第20-29页
· 利用 LIGA 技术的 X 射线光栅概述	第22-24页
· X 射线光栅的湿法腐蚀法	第24-27页
· 基于荧光材料的 X 射线转换屏的发展	第27-29页
· 本文的研究内容与意义	第29-31页
第二章 X 射线吸收光栅结构制作	第31-53页
· 基于光栅的 X 射线微分干涉相衬成像系统的分析	第31-35页
· 相衬成像系统的泰伯效应描述	第31-32页
· 基于光栅的 X 射线相衬成像系统对空间相干性的要求	第32-34页
· 吸收光栅形貌确定	第34-35页
· 光助电化学刻蚀方法介绍	第35-38页
· X 射线源光栅结构的制作	第38-43页
· 源光栅基底的选取及刻蚀前期准备工作	第38-41页
· 刻蚀装置介绍	第41-43页
· 吸收光栅结构的 HF 电化学腐蚀	第43-51页
· 源光栅结构的 HF 腐蚀	第43-48页
· 分析光栅结构的 HF 腐蚀	第48-51页
· 本章小结	第51-53页
第三章吸收光栅结构的表面改性与填充	第53-76页
· 表面改性技术介绍及其必要性	第53-55页
· 表面改性技术分类	第53-54页
· 表面改性的必要性	第54-55页
· 硅基表面形成氧化膜的方法	第55-61页
· 化学气相沉积方法	第55-57页
· 溅射法、真空蒸发和阳极氧化方法	第57-58页
· 热氧化法	第58-61页
· 硅基光栅结构的表面改性	第61-66页
· 硅基结构的填充	第66-75页
· 填充装置介绍及操作	第66-67页
· 源光栅的填充	第67-71页
· 分析光栅的填充	第71-75页
· 本章小结	第75-76页
第四章相位光栅与具有分析光栅功能的 X 射线转换屏改进	第76-99页
· 相位光栅的改进	第76-80页
· 相位光栅的参数	第76-78页
· 硅基相位光栅的改进	第78-80页
· 结构化 X 射线转换屏的制作	第80-84页
· 填充方式与荧光材料分析	第84-91页
· 传统荧光材料填充	第85-86页
· 荧光材料其它填充方式探索	第86-90页
· 荧光材料 CsI(Tl)的分析	第90-91页
· 硅基深孔结构的化学抛光	第91-95页
· 硅基表面抛光技术	第91-93页
· 硅基光栅结构侧壁抛光	第93-95页
· 具有分析光栅功能的 X 射线转换屏结构改进	第95-97页
· 本章小结	第97-99页
第五章基于光栅的 X 射线微分干涉相衬成像实验	第99-105页
· 利用铋吸收光栅的成像实验	第99-104页
· 系统莫尔条纹	第99-101页
· 系统成像	第101-104页
· 本章小结	第104-105页
总结与展望	第105-109页
参考文献	第109-118页
发表论文和参与科研情况说明	第118-119页
致谢	第119页

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