论文目录 | |
| 摘要 | 第1-5
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| ABSTRACT | 第5-11
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| 1 绪论 | 第11-19
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| · 引言 | 第11-12
页 |
| · TiO_2 的晶体结构及性质 | 第12-13
页 |
| · 杂质掺入对TiO_2 气敏性质的影响 | 第13-14
页 |
| · 掺杂金属氧化物的TiO_2 薄膜 | 第13
页 |
| · 贵金属掺杂修饰的TiO_2 薄膜 | 第13
页 |
| · 部分还原TiO_2 薄膜(TiO_(2-x)) | 第13-14
页 |
| · 金红石型TiO_2 的薄膜表面 | 第14-15
页 |
| · 锐钛矿型TiO_2 的薄膜表面 | 第15-16
页 |
| · TiO_2 气敏传感器的传感原理 | 第16-17
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| · 本论文研究的主要内容 | 第17-18
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| · 本章小结 | 第18-19
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| 2 TiO_2 气敏传感薄膜的制备与特性研究 | 第19-60
页 |
| · 实验方法 | 第19-36
页 |
| · 反应溅射法制备TiO_2 薄膜 | 第19-21
页 |
| · 化学气象沉积法制备TiO_2 薄膜 | 第21-22
页 |
| · 溶胶－凝胶法制备TiO_2 薄膜 | 第22-24
页 |
| · 真空蒸发镀膜 | 第24-26
页 |
| · X 射线光电子能谱（XPS）分析CVD 法制备的气敏薄膜 | 第26-29
页 |
| · 扫描电镜 | 第29-31
页 |
| · 透射电镜 | 第31-32
页 |
| · X 射线衍射分析 | 第32-35
页 |
| · 气敏效应的检测装置 | 第35-36
页 |
| · 反应射频溅射制备W/TiO_2 薄膜气敏效应研究 | 第36-41
页 |
| · 薄膜制备 | 第36-37
页 |
| · 薄膜形貌分析 | 第37
页 |
| · 气敏测试与分析 | 第37-41
页 |
| · 结论 | 第41
页 |
| · 超声雾化热分解气相沉积法制备TiO_2 薄膜的气敏特性研究 | 第41-45
页 |
| · 薄膜制备 | 第41-43
页 |
| · 气敏测试 | 第43-45
页 |
| · 结论 | 第45
页 |
| · 火焰喷雾热分解法制备TiO_2 薄膜的气敏特性研究 | 第45-50
页 |
| · 样品制备 | 第45-47
页 |
| · 样品形貌分析 | 第47
页 |
| · 气敏特性 | 第47-50
页 |
| · 结论 | 第50
页 |
| · 溶胶-凝胶和旋涂法制备TiO_2--KTaO_3 薄膜的气敏特性研究 | 第50-55
页 |
| · 薄膜样品的制备 | 第51-52
页 |
| · 样品结构分析 | 第52-53
页 |
| · 湿敏检测系统 | 第53-54
页 |
| · 样品测试 | 第54-55
页 |
| · 结论 | 第55
页 |
| · 电子束蒸发制备TiO_2-WO_3 复合气敏传感薄膜的性质研究 | 第55-58
页 |
| · 实验方法与测试 | 第55-57
页 |
| · 气敏效应测试 | 第57-58
页 |
| · 结论 | 第58
页 |
| · 本章小结 | 第58-60
页 |
| 3 TiO_2 的表面性质和表面过程及杂质对TiO_2 性质的影响 | 第60-79
页 |
| · 金属氧化物的表面电子性质 | 第60-65
页 |
| · 表面态 | 第60-61
页 |
| · 表面空间电荷层的形成 | 第61-62
页 |
| · 表面空间电荷层中电场、电荷密度和电容的计算（一维处理） | 第62-63
页 |
| · 薄膜表面的气—气、气—固反应 | 第63-64
页 |
| · 空间电荷层厚度和Weisz 限制 | 第64-65
页 |
| · 表面的化学性质 | 第65-69
页 |
| · 吸附 | 第65-68
页 |
| · 表面晶格氧和吸附氧 | 第68-69
页 |
| · 催化和其它表面反应过程 | 第69-70
页 |
| · 均匀反应和不均匀反应 | 第69
页 |
| · 氧化物的催化剂活性金属 | 第69-70
页 |
| · 离子交换 | 第70
页 |
| · 金属氧化物点缺陷理论化 | 第70-74
页 |
| · 金属氧化物的点缺陷及其K-V 符号 | 第70-72
页 |
| · 质量作用定律与点缺陷理论 | 第72-73
页 |
| · K-V 图与材料电性能的关系 | 第73-74
页 |
| · 金属氧化物半导体和金属氧化物固体电解质 | 第74
页 |
| · TiO_2 的气敏机理 | 第74-77
页 |
| · 氧敏元件的技术特性及其影响 | 第77
页 |
| · 本章小结 | 第77-79
页 |
| 4 TiO_2 气敏特性的第一性原理研究 | 第79-131
页 |
| · 密度泛函理论的简述 | 第79-92
页 |
| · 三个基本近似 | 第80-84
页 |
| · Hohenberg-Kohn 定理 | 第84-85
页 |
| · Kohn-Sham 方程 | 第85-86
页 |
| · 自洽计算 | 第86
页 |
| · 局域密度近似和广义梯度近似 | 第86-88
页 |
| · 赝势法 | 第88-91
页 |
| · CASTEP 软件包功能特点 | 第91-92
页 |
| · 金红石型TiO_2 的空位缺陷研究 | 第92-97
页 |
| · 计算方法 | 第93-94
页 |
| · 结果分析 | 第94-96
页 |
| · 结论 | 第96-97
页 |
| · 锐钛矿型TiO_2 空位缺陷性质研究 | 第97-106
页 |
| · 计算方法 | 第97-98
页 |
| · 计算结果与分析 | 第98-106
页 |
| · N、C、S 等非金属元素掺杂对锐钛矿TiO_2 晶体性质影响的理论研究 | 第106-117
页 |
| · 理论模型与计算方法 | 第106-107
页 |
| · 计算结果与分析 | 第107-116
页 |
| · 结论 | 第116-117
页 |
| · Si 掺杂对金红石TiO_2 晶体性质影响的理论研究 | 第117-120
页 |
| · 计算方法 | 第117-118
页 |
| · 计算结果 | 第118-120
页 |
| · 结论 | 第120
页 |
| · 金红石型纳米TiO_2(110)表面原子结构和电子结构 | 第120-124
页 |
| · 模型构建与模拟方法 | 第121-122
页 |
| · 金红石型纳米TiO_2(110)表面原子结构性质 | 第122-123
页 |
| · 金红石型纳米TiO_2(110)表面电子结构性质 | 第123-124
页 |
| · 结论 | 第124
页 |
| · 氢气在金红石型TiO_2(110)薄膜面吸附的第一性原理研究 | 第124-129
页 |
| · 计算方法 | 第125
页 |
| · 计算结果 | 第125-128
页 |
| · 结论 | 第128-129
页 |
| · 本章小结 | 第129-131
页 |
| 5 结论与展望 | 第131-135
页 |
| · 主要结论 | 第131-133
页 |
| · 展望 | 第133-135
页 |
| 致谢 | 第135-136
页 |
| 参考文献 | 第136-148
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| 附录 | 第148-149
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| A.博士期间发表的论文 | 第148-149
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| B.博士期间参与的科研项目 | 第149页 |
