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ZnO薄膜的表面形貌与应力特性研究

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ZnO薄膜的表面形貌与应力特性研究
论文目录
 
中文摘要第1-11页
Abstract第11-15页
第一章 绪论第15-33页
  · 概述第15-16页
  · ZnO 薄膜的性质第16-20页
    · 结构性质第16-17页
    · 电学和光学性质第17-19页
    · 其它特性和应用第19-20页
  · 薄膜的表面形貌统计特性描述及ZnO 薄膜的应力研究第20-22页
    · 薄膜的表面形貌统计特性描述第20-22页
    · ZnO 薄膜的应力研究第22页
  · ZnO 薄膜的制备第22-27页
    · 化学气相沉积法(CVD)第22-23页
    · 物理气相沉积法(PVD)第23-24页
    · 分子束外延法(MBE)第24-25页
    · 溶胶-凝胶法(sol-gel)第25-26页
    · 喷雾热分解法第26-27页
  · ZnO 薄膜的研究现状第27-29页
  · 选题动机第29-33页
第二章 薄膜生长设备和测试分析方法第33-47页
  · 射频磁控溅射法第33-36页
    · 溅射原理第33页
    · 溅射的特点第33-34页
    · 磁控溅射系统第34-36页
  · 脉冲激光沉积法(PLD 方法)第36-40页
    · 脉冲激光沉积法基本原理第36-38页
    · 脉冲激光沉积技术的特点第38页
    · PLD 薄膜生长实验系统第38-40页
  · 测试分析方法第40-47页
    · 薄膜表面形貌结构测试第40-44页
    · 电学和光学性质测量第44-47页
第三章 脉冲激光沉积制备的ZnO:Ga 表面形貌及光电性质研究第47-65页
  · GZO 薄膜的制备第47-48页
    · 靶材和衬底清洗第47页
    · 激光光路系统调节第47-48页
    · 薄膜制备第48页
  · 沉积时间对GZO 薄膜形貌特性的影响分析第48-57页
  · 沉积时间对GZO 薄膜结构与光电特性影响第57-61页
    · GZO 薄膜的结构特性第58-59页
    · GZO 薄膜的电学特性和光学透过特性第59-61页
  · GZO 薄膜的表面粗糙度、薄膜厚度与薄膜光电特性的关系第61-65页
第四章 柔性衬底ZnO 薄膜应力以及光学特性研究第65-89页
  · 衬底温度对射频磁控溅射聚四氟乙烯衬底上生长的ZnO 薄膜特性的影响第65-72页
    · 薄膜的制备及测试第65-66页
    · 衬底温度对ZnO 薄膜结构和形貌的影响第66-70页
    · 衬底温度对ZnO 薄膜发光特性的影响第70-72页
  · 压强对Teflon 衬底上生长的ZnO 薄膜应力以及发光特性的影响第72-78页
    · 样品的制备和测试第72页
    · 不同压强对ZnO 薄膜结构、应力和形貌特性的影响第72-78页
  · 缓冲层对Teflon 衬底生长的ZnO 薄膜的特性影响第78-83页
    · 薄膜的制备和测量第78页
    · 缓冲层对ZnO 薄膜的结构、应力和形貌特性的影响第78-82页
    · 缓冲层对ZnO 薄膜光学特性的影响第82-83页
  · 溅射功率和溅射时间对Teflon 衬底上制备的ZnO 薄膜性能的影响第83-89页
    · 薄膜的制备及测试第83页
    · 溅射功率和时间对Teflon 衬底上生长的ZnO 薄膜结构及形貌特性影响第83-89页
第五章 衬底与生长温度对ZnO:Co 薄膜结构、形貌和应力的影响第89-111页
  · ZnO 薄膜的制备和测量第89-90页
  · 衬底温度对ZnO:Co 薄膜结构及应力特性的影响第90-98页
    · 温度对蓝宝石衬底ZnO:Co 薄膜结构及应力特性的影响第90-92页
    · 温度对硅衬底ZnO:Co 薄膜结构及应力特性的影响第92-95页
    · 温度对玻璃衬底上生长的ZnO:Co 薄膜结构及应力特性的影响第95-97页
    · 衬底材料对ZnO:Co 薄膜结构及应力特性的影响第97-98页
  · 衬底及生长温度对ZnO:Co 薄膜表面形貌特性的影响第98-111页
    · 温度对蓝宝石衬底ZnO:Co 薄膜表面形貌特性的影响第99-102页
    · 温度对玻璃衬底ZnO:Co 薄膜表面形貌特性的影响第102-104页
    · 温度对硅衬底上ZnO:Co 薄膜表面形貌特性的影响第104-107页
    · 衬底材料对ZnO:Co 薄膜表面形貌特性的影响第107-111页
结论第111-115页
参考文献第115-123页
攻读博士学位期间完成的论文第123-124页
致谢第124-125 页

本篇论文共125页,点击这进入下载页面
 
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