论文目录 | |
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| · 研究背景 | 第9-11页 |
| · 纳米磁性薄膜的研究现状 | 第11-16页 |
| · 本文的研究动机以及主要工作 | 第16-18页 |
| 参考文献 | 第18-21页 |
| 第二章 基本理论 | 第21-43页 |
| · 磁各向异性 | 第21-23页 |
| · 磁晶各向异性 | 第21-22页 |
| · 表面和界面磁各向异性 | 第22-23页 |
| · 交换耦合作用 | 第23-25页 |
| · Herzer模型 | 第23-24页 |
| · 层间耦合作用 | 第24-25页 |
| · 铁磁共振理论 | 第25-28页 |
| · 常规材料的磁损耗 | 第28-29页 |
| · 铁磁薄膜的磁损耗机制 | 第29-32页 |
| · Gilbert本征损耗 | 第29-30页 |
| · 非本征损耗 | 第30-32页 |
| · 双磁子散射模型 | 第32-37页 |
| · 内部杂散场理论 | 第37-41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
| 第三章 样品的制备与性能表征 | 第43-56页 |
| · 样品的制备 | 第43-47页 |
| · 磁控溅射的基本原理 | 第43-45页 |
| · 基片的选择与清洗 | 第45-46页 |
| · 实验设备与制备程序 | 第46-47页 |
| · 热退火处理 | 第47页 |
| · 样品的结构与成分表征 | 第47-50页 |
| · X射线衍射(XRD) | 第47-48页 |
| · 高分辨率透射电镜(HR-TEM) | 第48-49页 |
| · X射线荧光光谱仪(XRF) | 第49页 |
| · 台阶仪 | 第49-50页 |
| · 样品的性能表征 | 第50-55页 |
| · 振动样品磁强计(VSM) | 第50-52页 |
| · 铁磁共振测量(FMR) | 第52页 |
| · 微波电磁参量测试 | 第52-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第四章 [Fe_(65)Co_(35)/SiO_2]多层膜静磁特性与微波损耗机制研究 | 第56-74页 |
| · [Fe_(65)Co_(35)/SiO_2]多层膜系列样品的制备 | 第56页 |
| · [Fe_(65)Co_(35)/SiO_2]多层膜系列样品的静磁特性 | 第56-63页 |
| · [Fe_(65)Co_(35)/SiO_2]多层膜系列样品的动态磁性测量结果与分析 | 第63-72页 |
| · [Fe_(65)Co_(35)/SiO_2]多层膜系列样品的磁谱测量结果与分析 | 第63-66页 |
| · [Fe_(65)Co_(35)/SiO_2]多层膜系列样品的微波损耗线宽测量结果与分析 | 第66-72页 |
| · 本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-74页 |
| 第五章 多磁结构单层膜的静磁特性与微波损耗机制研究 | 第74-93页 |
| · 多磁结构单层膜样品的制备与处理 | 第74-75页 |
| · 样品系列S1的制备-多靶交替循环磁控溅射 | 第74-75页 |
| · 样品系列S2的制备与处理-复合靶溅射与后续热处理退火 | 第75页 |
| · 多磁结构单层膜样品的静磁性能与微观结构表征 | 第75-78页 |
| · 样品系列S1的静磁特性与微观结构表征 | 第75-76页 |
| · 样品系列S2的静磁特性与微观结构表征 | 第76-78页 |
| · 多磁结构单层膜样品的磁谱表征与多磁成分模型分析 | 第78-85页 |
| · 样品系列S1的磁谱表征与多磁成分模型分析 | 第78-81页 |
| · 样品系列S2的磁谱表征与多磁成分模型分析 | 第81-85页 |
| · 多磁结构单层膜样品的内部杂散场理论计算与分析 | 第85-90页 |
| · 本章小结 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-93页 |
| 攻读博士学位期间发表以及待发表的论文 | 第93-95页 |
| 感谢 | 第95-96
页 |
