高分辨电感耦合等离子体质谱在高纯金属分析中的应用研究

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高分辨电感耦合等离子体质谱在高纯金属分析中的应用研究

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高分辨电感耦合等离子体质谱在高纯金属分析中的应用研究

论文目录
摘要	第1-5 页
ABSTRACT	第5-12 页
第一章绪论	第12-32 页
· ICP-MS技术及发展	第12-23 页
· ICP-MS仪器结构及原理	第12-14 页
· 样品制备	第14 页
· 进样方法	第14-19 页
· ICP-MS干扰及其校正方法	第19-21 页
· ICP-MS的发展及应用	第21-23 页
· HR-ICP-MS分析技术	第23-28 页
· HR-ICP-MS仪器结构及原理	第23-24 页
· HR-ICP-MS的应用	第24-28 页
· 本论文的研究目的和主要研究内容	第28-32 页
· 研究目的	第28-29 页
· 主要研究内容	第29-32 页
第二章高分辨质谱法测定高纯氧化锌中的杂质元素	第32-49 页
· 引言	第32 页
· 实验部分	第32-34 页
· 仪器和试剂	第32-33 页
· 质谱仪工作参数	第33 页
· 样品处理	第33-34 页
· 结果与讨论	第34-47 页
· 样品消解酸的选择	第34 页
· 定性扫描	第34 页
· 质谱干扰	第34-43 页
· 非谱干扰	第43-45 页
· 标准物质NIST SRM 728的分析	第45-46 页
· 方法的检出限	第46-47 页
· 样品分析	第47 页
· 小结	第47-49 页
第三章高纯二氧化钛中痕量元素的高分辨质谱分析	第49-63 页
· 引言	第49 页
· 实验部分	第49-51 页
· 仪器及操作条件	第49-50 页
· 标准溶液及试剂	第50 页
· 样品处理	第50-51 页
· 结果与讨论	第51-62 页
· 仪器测定条件的优化	第51 页
· 同位素的选择和质谱干扰	第51-57 页
· 基体效应	第57-58 页
· 检出限、分析精度和回收率	第58-61 页
· 样品分析	第61-62 页
· 小结	第62-63 页
第四章高分辨质谱法直接测定高纯镓中的痕量元素	第63-75 页
· 引言	第63 页
· 实验部分	第63-65 页
· 仪器和试剂	第63-64 页
· 质谱仪工作参数	第64 页
· 样品处理	第64 页
· 内标混合液的引入	第64-65 页
· 结果与讨论	第65-73 页
· 仪器测定条件的优化	第65 页
· 同位素的选择和质谱干扰	第65-68 页
· 基体效应	第68-69 页
· 物理效应	第69-71 页
· 检出限、分析精度和回收率	第71-72 页
· 样品分析	第72-73 页
· 小结	第73-75 页
第五章高纯金属钴中痕量杂质的高分辨质谱分析	第75-85 页
· 引言	第75 页
· 实验部分	第75-78 页
· 仪器	第75-77 页
· 标准与试剂	第77-78 页
· 样品的处理	第78 页
· 内标混合液的引入	第78 页
· 结果与讨论	第78-84 页
· 质谱干扰	第78-80 页
· 非谱干扰	第80-81 页
· 检出限、精密度和加标回收率	第81-83 页
· 实际样品分析	第83-84 页
· 小结	第84-85 页
第六章有机酸在高分辨质谱中基体效应的研究	第85-98 页
· 引言	第85 页
· 实验部分	第85-86 页
· 主要仪器和试剂	第85-86 页
· 仪器工作参数	第86 页
· 实验方法	第86 页
· 结果与讨论	第86-97 页
· 有机酸的基体效应	第86-89 页
· 仪器参数与有机酸增强效应的关系	第89-94 页
· 有机酸增强效应的机制探讨	第94-95 页
· 检出限	第95-96 页
· 分析应用	第96-97 页
· 小结	第97-98 页
第七章结论与展望	第98-103 页
· 主要结论	第98-102 页
· 高纯氧化锌高分辨质谱分析	第98-99 页
· 高纯二氧化钛高分辨质谱分析	第99 页
· 高纯金属镓高分辨质谱分析	第99-100 页
· 高纯金属钴高分辨质谱分析	第100-101 页
· 有机酸高分辨质谱基体效应	第101-102 页
· 展望	第102-103 页
参考文献	第103-119 页
致谢	第119-120 页
攻读学位期间主要的研究成果目录	第120-121 页

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