大口径主镜薄膜制备及其特性研究

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大口径主镜薄膜制备及其特性研究

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大口径主镜薄膜制备及其特性研究

论文目录
摘要	第1-6页
abstract	第6-16页
第1章绪论	第16-36页
1.1 研究背景	第16-17页
1.2 大口径主镜膜系的国内外研究现状	第17-24页
1.3 大口径主镜银反射膜制备的相关问题	第24-34页
1.3.1 金属银膜的光学性质及其制备	第24-27页
1.3.2 银反射镜的环境稳定性	第27-32页
1.3.3 薄膜厚度分布均匀性的修正	第32-34页
1.4 本论文主要研究内容	第34-36页
第2章磁控溅射制备大口径主镜银反射镜工艺研究	第36-58页
2.1 引言	第36-37页
2.2 磁控溅射制备银反射镜工艺参数优化	第37-43页
2.2.1 实验样品制备	第37-38页
2.2.2 单层膜工艺参数优化	第38-42页
2.2.3 多层膜样品实验制备	第42-43页
2.3 银反射镜反射率偏低原因分析	第43-49页
2.3.1 银反射镜样品微观结构分析	第43-45页
2.3.2 银反射镜样品的元素分析	第45-49页
2.4 N_2/Ar混合溅射银靶制备持久性银反射镜	第49-57页
2.4.1 N_2/Ar混合溅射制备单层银膜	第49-53页
2.4.2 N_2对银反射镜样品性能的影响	第53-57页
2.5 本章小结	第57-58页
第3章银反射镜膜层厚度优化及环境稳定性研究	第58-92页
3.1 引言	第58-59页
3.2 实验	第59-61页
3.2.1 薄膜样品制备	第59页
3.2.2 加速环境实验	第59-60页
3.2.3 样品特性表征	第60-61页
3.3 NiCrN_x过渡层厚度优化	第61-70页
3.3.1 光学性质	第61-63页
3.3.2 湿热试验	第63-67页
3.3.3 盐雾试验	第67-70页
3.4 SiN_x保护层厚度优化	第70-80页
3.4.1 光学性质	第71-73页
3.4.2 湿热试验	第73-76页
3.4.3 盐雾试验	第76-80页
3.5 银基膜系的腐蚀机理	第80-84页
3.5.1 单层银膜的腐蚀特征	第81页
3.5.2 四层结构银反射镜的腐蚀机理	第81-84页
3.6 SiN_x的环境稳定性	第84-89页
3.6.1 厚SiN_x薄膜的环境稳定性	第85页
3.6.2 薄SiN_x薄膜的环境稳定性	第85-89页
3.7 本章小结	第89-92页
第4章大口径磁控溅射镀膜机膜厚均匀性分析	第92-108页
4.1 引言	第92-93页
4.2 磁控溅射膜厚分布理论基础	第93-94页
4.3 磁控溅射膜厚分布的理论计算模型	第94-99页
4.4 Deimos5500磁控溅射镀膜机均匀性分析	第99-106页
4.4.1 无修正挡板时不同曲率光学元件的膜厚均匀性分析	第100-102页
4.4.2 修正挡板校正平面主镜薄膜厚度均匀性	第102-105页
4.4.3 曲面主镜的膜厚分布校正	第105-106页
4.5 本章小结	第106-108页
第5章逆向热蒸发制备大口径主镜银反射镜	第108-130页
5.1 引言	第108-109页
5.2 实验	第109-117页
5.2.1 ZZS3200高真空镀膜机结构	第109-110页
5.2.2 膜系设计	第110-112页
5.2.3 逆向热蒸发制备银膜	第112-115页
5.2.4 银反射镜的制备	第115-116页
5.2.5 薄膜样品的测试	第116-117页
5.3 银加介质保护反射镜的实验结果分析	第117-122页
5.3.1 薄膜样品的光谱特性	第117-118页
5.3.2 薄膜样品的剖面形貌	第118-119页
5.3.3 薄膜样品的环境稳定性	第119-121页
5.3.4 Ф500mm口径银反射镜样品镀制	第121-122页
5.4 银加介质增强膜系的可行性研究	第122-129页
5.4.1 材料选择	第122-123页
5.4.2 CeF_3与ZnS介质增强膜堆	第123-124页
5.4.3 LaF_3与ZnS介质增强膜堆	第124-125页
5.4.4 SiO_x与ZnS介质增强膜堆	第125-129页
5.5 本章小结	第129-130页
第6章总结与展望	第130-134页
6.1 论文主要工作	第130-131页
6.2 论文创新点	第131-132页
6.3 存在的问题和对后续工作的建议	第132-134页
参考文献	第134-148页
致谢	第148-150页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果	第150页

本篇论文共150页，点击这进入下载页面。

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