微纳结构中表面等离子体激元的放大与传播研究 |
论文目录 | | 摘要 | 第1-7页 | Abstract | 第7-15页 | 第1章 绪论 | 第15-29页 | · 课题背景及研究意义 | 第15-16页 | · SPPs 放大和传播的研究现状 | 第16-22页 | · 单一界面结构 | 第16-18页 | · 对称金属膜结构 | 第18-19页 | · 其他典型结构 | 第19-21页 | · 国内的典型研究 | 第21-22页 | · 表面等离子体的特性应用现状 | 第22-24页 | · SPPs 高衰减的改进方向 | 第24-25页 | · 电磁场数值计算方法 | 第25-27页 | · 本文主要研究内容 | 第27-29页 | 第2章 表面等离子体激元的特性与传播研究 | 第29-46页 | · 引言 | 第29页 | · 表面等离子体激元的基本特性 | 第29-33页 | · 表面等离子体激元的色散关系 | 第29-32页 | · 表面等离子体的特征长度 | 第32-33页 | · 电子束激发 SPPs | 第33-38页 | · 理论分析 | 第35-36页 | · 结构特性分析 | 第36-38页 | · 表面等离子体的光激发特性 | 第38-45页 | · 衰减全反射 | 第38-40页 | · 表面等离子体耦合的模型 | 第40-43页 | · Kretschmann 模型 | 第43-45页 | · 本章小结 | 第45-46页 | 第3章 典型表面等离子体激元波导结构的设计与分析 | 第46-66页 | · 引言 | 第46页 | · MIM 结构的波导特性 | 第46-52页 | · 计算模型 | 第47-50页 | · 特性分析 | 第50-52页 | · MSM 波导的结构 | 第52-57页 | · 计算模型 | 第53-54页 | · 特性分析 | 第54-57页 | · 带状表面等离子体的波导结构 | 第57-61页 | · 计算模型 | 第57-59页 | · 特性分析 | 第59-61页 | · 加载介质的波导结构特性 | 第61-65页 | · 计算模型 | 第61-62页 | · 结构的波导场分布分析 | 第62-64页 | · 结构的传输特性分析 | 第64-65页 | · 本章小结 | 第65-66页 | 第4章 金纳米线结构中表面等离子体激元的研究 | 第66-78页 | · 引言 | 第66页 | · 纳米线结构 SPPs 的理论分析 | 第66-69页 | · 光压效应 | 第67-68页 | · 电动势分析 | 第68-69页 | · 电场分析 | 第69页 | · Au 纳米线的生长分析 | 第69-71页 | · 纳米线常见的生长方法 | 第69-71页 | · DB 法处理的 Au 纳米线 | 第71页 | · 特性分析 | 第71-77页 | · 波导参数对电磁力的影响 | 第71-73页 | · 电动势的特性分析 | 第73-75页 | · 电场的特性分析 | 第75-77页 | · 本章小结 | 第77-78页 | 第5章 表面等离子体激元放大器的研究 | 第78-97页 | · 引言 | 第78-79页 | · SPASER 放大器的结构设计 | 第79-83页 | · 放大器的理论分析 | 第80-82页 | · 放大器结构设计 | 第82-83页 | · SPASER 放大器的制作工艺 | 第83-90页 | · 光刻技术 | 第84-85页 | · 纳米压印光刻技术 | 第85-86页 | · 扫描式电子显微镜与电子束光刻系统 | 第86-87页 | · 工艺过程 | 第87-89页 | · 样品的制备 | 第89-90页 | · 实验结果分析 | 第90-96页 | · 模型计算结果 | 第90-93页 | · 纳米金粒子薄膜的形貌组织 | 第93页 | · 表面等离子激子数结果分析 | 第93-96页 | · 本章小结 | 第96-97页 | 结论 | 第97-99页 | 参考文献 | 第99-110页 | 攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第110-112页 | 致谢 | 第112-113页 | 作者简介 | 第113页 |
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