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光学镜面离子束加工材料去除机理与基本工艺研究
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光学镜面离子束加工材料去除机理与基本工艺研究
论文目录
 
摘要第12-14 页
ABSTRACT第14-16 页
第一章 绪论第16-33 页
　　· 课题的来源及意义第16-19 页
　　　　· 课题的来源第16 页
　　　　· 课题研究的背景和意义第16-19 页
　　· 国内外研究现状第19-31 页
　　　　· 离子溅射理论综述第19-21 页
　　　　· 离子束修形技术综述第21-27 页
　　　　· 表面粗糙度演变综述第27-29 页
　　　　· 微观表面形貌演变综述第29-31 页
　　· 论文的主要研究内容第31-33 页
第二章 KDIFS-500系统设计第33-46 页
　　· CCOS 成型原理第33-35 页
　　　　· CCOS 成型原理的提出第33-34 页
　　　　· CCOS 成型原理一般化描述第34-35 页
　　· KDIFS-500 加工系统设计第35-37 页
　　· KDIFS-500 系统后置算法第37-45 页
　　　　· 系统建模第37-39 页
　　　　· 后置算法和误差分析第39-42 页
　　　　· 误差补偿第42-45 页
　　　　· 极坐标扫描方式后置算法第45 页
　　· 本章小结第45-46 页
第三章 离子束加工材料去除机理和特征第46-63 页
　　· 离子溅射理论第46-49 页
　　　　· 离子溅射过程描述第46-48 页
　　　　· Sigmund 溅射理论第48-49 页
　　　　· 溅射过程的数值仿真第49 页
　　· 材料去除效率第49-57 页
　　　　· 理论分析第49-52 页
　　　　· 仿真分析第52-53 页
　　　　· 实验研究第53-56 页
　　　　· 去除效率小结第56-57 页
　　· 材料扰动层分析第57-59 页
　　　　· 理论分析第57 页
　　　　· 仿真研究第57-59 页
　　· 热效应分析第59-62 页
　　　　· 仿真分析第59-60 页
　　　　· 实验研究第60-62 页
　　　　· 热效应研究小结第62 页
　　· 本章小结第62-63 页
第四章 去除函数多参数建模与实验研究第63-81 页
　　· 去除函数理论建模第63-71 页
　　　　· 法向去除率普遍形式第63-65 页
　　　　· 理论模型第65-70 页
　　　　· 表面粗糙度影响分析第70-71 页
　　· 去除函数特征分析第71-73 页
　　　　· 去除函数相似性第72 页
　　　　· 入射角度鲁棒性第72 页
　　　　· 时间关系第72-73 页
　　　　· 束流特性第73 页
　　　　· 束能鲁棒性第73 页
　　· 去除函数特征实验研究第73-77 页
　　　　· 实验方法第73-74 页
　　　　· 短时重复性第74 页
　　　　· 去除函数相似性第74-75 页
　　　　· 入射角度鲁棒性第75 页
　　　　· 时间关系第75-76 页
　　　　· 束流关系第76-77 页
　　　　· 束能鲁棒性第77 页
　　· 去除函数其它特性实验研究第77-79 页
　　　　· 屏栅电流大范围调节第77-78 页
　　　　· 屏栅电压大范围调节第78 页
　　　　· 与靶距的关系第78-79 页
　　· 本章小结第79-81 页
第五章 离子束作用下表面粗糙度演变实验研究第81-89 页
　　· 表面粗糙度演变实验设计第81-83 页
　　· 束能对表面粗糙度的影响第83-84 页
　　　　· 微晶玻璃第83 页
　　　　· 石英玻璃第83-84 页
　　· 去除深度对表面粗糙度的影响第84-86 页
　　　　· 微晶玻璃第84 页
　　　　· 石英玻璃第84-85 页
　　　　· CVD SiC 材料第85-86 页
　　· 表面粗糙度演变讨论第86-88 页
　　· 本章小结第88-89 页
第六章 面形误差离子束修正技术第89-111 页
　　· 成型过程理论分析第90-96 页
　　　　· 成型过程的双级数模型第90-91 页
　　　　· 去除函数扰动对成型的影响第91-93 页
　　　　· 定位精度影响第93-94 页
　　　　· 采样间隔影响第94-96 页
　　· 面形误差全口径线性扫描方式修正技术第96-103 页
　　　　· 面形控制算法第96-97 页
　　　　· 驻留时间实现与求解优化第97-100 页
　　　　· 低陡度曲面路径规划第100-103 页
　　· 面形误差极轴扫描方式修正技术第103-105 页
　　　　· 工艺过程模型第103-104 页
　　　　· 驻留时间求解与实现第104-105 页
　　· 面形误差区域拼接方式修正技术第105-109 页
　　　　· 过程模型第106-107 页
　　　　· 驻留时间算法第107-108 页
　　　　· 参数辨识第108-109 页
　　· 本章小结第109-111 页
第七章 离子束修形基本工艺方法实验研究第111-124 页
　　· 离子束修形实验设计第111-112 页
　　· 平面修形工艺实验第112-115 页
　　　　· 微晶平面修形实验第112-113 页
　　　　· CVD SiC 平面修形实验第113-115 页
　　· 曲面修形实验第115-118 页
　　　　· Φ200 球面修形实验一第115-116 页
　　　　· Φ200 球面修形实验二第116-118 页
　　　　· 抛物面修形实验第118 页
　　· 极轴方式修形实验第118-121 页
　　　　· 微晶平面修形实验第118-120 页
　　　　· 抛物面修形实验第120-121 页
　　· 拼接方式修形实验第121-123 页
　　　　· 工艺参数辨识第121-122 页
　　　　· 拼接加工第122-123 页
　　· 本章小结第123-124 页
第八章 结论与展望第124-128 页
　　· 全文总结第124-125 页
　　· 研究展望第125-128 页
致谢第128-129 页
作者在学期间取得的学术成果第129-130 页
参考文献表第130-137 页
附录第137-144 页
　　附录A：两维Hermite 级数第137-139 页
　　附录B：两维 Fouier 级数第139-141 页
　　附录C：驻留时间双级数模型求解第141-143 页
　　附录D：驻留时间双级数模型求解误差分析第143-144 页

本篇论文共144页，点击这进入下载页面。
 
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