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高品质低温多晶硅薄膜晶体管的制作与周边一体化设计
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高品质低温多晶硅薄膜晶体管的制作与周边一体化设计
论文目录
摘要
第1-5 页
Abstract
第5-8 页
1 引言
第8-16 页
· 平板显示器件的发展
第8-11 页
· TFT-LCD仍占据主流地位
第9-10 页
· OLED开始冲击小尺寸显示应用
第10-11 页
· 低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)技术的发展
第11-13 页
· LTPS TFT的特点
第11-12 页
· 低温多晶硅的制备技术
第12-13 页
· 本论文的研究内容及意义
第13-14 页
参考文献
第14-16 页
2 多晶硅薄膜材料的低温制备
第16-36 页
· 多晶硅薄膜材料的表征手段
第16-19 页
· 紫外辅助晶化(UV-assisted Crystallization)
第19-25 页
· 紫外辅助晶化设备
第19-20 页
· 紫外辅助晶化非晶硅薄膜
第20 页
· 紫外辅助晶化制备的多晶硅薄膜的表征
第20-25 页
· 金属诱导晶化(MIC/MILC)
第25-28 页
· 金属诱导晶化非晶硅薄膜
第25-26 页
· 金属诱导晶化法低温制备多晶硅薄膜的表征
第26-28 页
· 金属诱导与激光退火晶化相结合(MIC/MILC+ELA)
第28-33 页
· 激光退火MIC/MILC多晶硅
第28-31 页
· 金属诱导—双次激光退火晶化(MI bi-ELA)
第31-33 页
· 本章小结
第33-35 页
参考文献
第35-36 页
3 金属诱导晶化非晶硅薄膜的机理和模型
第36-57 页
· 非晶硅薄膜的金属诱导晶化机理
第36-39 页
· 金属诱导晶化非晶硅薄膜的模型
第39-55 页
· 一维假设
第41 页
· MILC晶粒生长与NiSi_2的宽度
第41-43 页
· 扩散控制生长阶段
第43-45 页
· 表面反应控制生长阶段
第45-49 页
· 理论结果
第49-55 页
· 本章小结
第55-56 页
参考文献
第56-57 页
4 Poly-Si TFTs 的电学特性与模型
第57-87 页
· 概述
第57-65 页
· 多晶硅薄膜中的缺陷
第57-58 页
· 晶粒结构对载流子输运的影响
第58-60 页
· 器件参数及其实验提取
第60-65 页
· Poly-Si TFT模型
第65-77 页
· Poly-Si TFT模型参数
第67-68 页
· I-V模型
第68-72 页
· 阈值电压模型
第72-75 页
· C-V模型
第75-77 页
· Poly-Si TFT模型改进
第77-84 页
· Poly-Si TFT模型改进
第77-79 页
· 参数提取
第79-81 页
· 仿真结果与实验数据对比
第81-84 页
· 本章小结
第84-85 页
参考文献
第85-87 页
5 基于LTPS TFT的AMOLED象素与周边集成设计与仿真
第87-108 页
· AMOLED象素电路及工作原理
第87-98 页
· 2-TFT OLED电压型象素驱动电路
第88-89 页
· 电流型OLED象素驱动电路
第89-90 页
· AMOLED象素电路仿真分析
第90-98 页
· 基于LTPS TFT的周边驱动电路设计与仿真
第98-105 页
· 基本逻辑单元
第98-103 页
· 栅驱动电路设计与仿真
第103-104 页
· 源驱动电路设计与仿真
第104-105 页
· 本章小结
第105-107 页
参考文献
第107-108 页
6 总结
第108-110 页
附录
第110-111 页
个人简历
第110 页
在攻读博士学位期间发表的论文目录
第110-111 页
致谢
第111-113 页
本篇论文共
113
页,
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