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高品质低温多晶硅薄膜晶体管的制作与周边一体化设计
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高品质低温多晶硅薄膜晶体管的制作与周边一体化设计
论文目录
 
摘要第1-5 页
Abstract第5-8 页
1 引言第8-16 页
　　· 平板显示器件的发展第8-11 页
　　　　· TFT-LCD仍占据主流地位第9-10 页
　　　　· OLED开始冲击小尺寸显示应用第10-11 页
　　· 低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)技术的发展第11-13 页
　　　　· LTPS TFT的特点第11-12 页
　　　　· 低温多晶硅的制备技术第12-13 页
　　· 本论文的研究内容及意义第13-14 页
　　参考文献第14-16 页
2 多晶硅薄膜材料的低温制备第16-36 页
　　· 多晶硅薄膜材料的表征手段第16-19 页
　　· 紫外辅助晶化(UV-assisted Crystallization)第19-25 页
　　　　· 紫外辅助晶化设备第19-20 页
　　　　· 紫外辅助晶化非晶硅薄膜第20 页
　　　　· 紫外辅助晶化制备的多晶硅薄膜的表征第20-25 页
　　· 金属诱导晶化(MIC/MILC)第25-28 页
　　　　· 金属诱导晶化非晶硅薄膜第25-26 页
　　　　· 金属诱导晶化法低温制备多晶硅薄膜的表征第26-28 页
　　· 金属诱导与激光退火晶化相结合(MIC/MILC+ELA)第28-33 页
　　　　· 激光退火MIC/MILC多晶硅第28-31 页
　　　　· 金属诱导—双次激光退火晶化(MI bi-ELA)第31-33 页
　　· 本章小结第33-35 页
　　参考文献第35-36 页
3 金属诱导晶化非晶硅薄膜的机理和模型第36-57 页
　　· 非晶硅薄膜的金属诱导晶化机理第36-39 页
　　· 金属诱导晶化非晶硅薄膜的模型第39-55 页
　　　　· 一维假设第41 页
　　　　· MILC晶粒生长与NiSi_2的宽度第41-43 页
　　　　· 扩散控制生长阶段第43-45 页
　　　　· 表面反应控制生长阶段第45-49 页
　　　　· 理论结果第49-55 页
　　· 本章小结第55-56 页
　　参考文献第56-57 页
4 Poly-Si TFTs 的电学特性与模型第57-87 页
　　· 概述第57-65 页
　　　　· 多晶硅薄膜中的缺陷第57-58 页
　　　　· 晶粒结构对载流子输运的影响第58-60 页
　　　　· 器件参数及其实验提取第60-65 页
　　· Poly-Si TFT模型第65-77 页
　　　　· Poly-Si TFT模型参数第67-68 页
　　　　· I-V模型第68-72 页
　　　　· 阈值电压模型第72-75 页
　　　　· C-V模型第75-77 页
　　· Poly-Si TFT模型改进第77-84 页
　　　　· Poly-Si TFT模型改进第77-79 页
　　　　· 参数提取第79-81 页
　　　　· 仿真结果与实验数据对比第81-84 页
　　· 本章小结第84-85 页
　　参考文献第85-87 页
5 基于LTPS TFT的AMOLED象素与周边集成设计与仿真第87-108 页
　　· AMOLED象素电路及工作原理第87-98 页
　　　　· 2-TFT OLED电压型象素驱动电路第88-89 页
　　　　· 电流型OLED象素驱动电路第89-90 页
　　　　· AMOLED象素电路仿真分析第90-98 页
　　· 基于LTPS TFT的周边驱动电路设计与仿真第98-105 页
　　　　· 基本逻辑单元第98-103 页
　　　　· 栅驱动电路设计与仿真第103-104 页
　　　　· 源驱动电路设计与仿真第104-105 页
　　· 本章小结第105-107 页
　　参考文献第107-108 页
6 总结第108-110 页
附录第110-111 页
　　个人简历第110 页
　　在攻读博士学位期间发表的论文目录第110-111 页
致谢第111-113 页

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