论文目录 | |
摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-12页 |
第1章 绪论 | 第12-22页 |
1.1 激光间接驱动惯性约束聚变简介 | 第12-13页 |
1.2 黑腔等离子体基本特征 | 第13-15页 |
1.3 黑腔等离子体填充对辐射场性质的影响 | 第15-17页 |
1.4 黑腔等离子体填充的抑制方法 | 第17-20页 |
1.5 论文主要内容 | 第20页 |
参考文献 | 第20-22页 |
第2章 时变黑腔辐射场导致时变内爆不对称性的研究 | 第22-32页 |
2.1 引言 | 第22页 |
2.2 实验安排 | 第22-24页 |
2.3 实验结果与分析 | 第24-28页 |
2.4 小结 | 第28-29页 |
参考文献 | 第29-32页 |
第3章 神光Ⅲ原型束匀滑注入条件下最优黑腔长度的研究 | 第32-54页 |
3.1 引言 | 第32-33页 |
3.2 理论预估 | 第33-34页 |
3.3 实验结果与分析 | 第34-50页 |
3.4 讨论与小结 | 第50-53页 |
参考文献 | 第53-54页 |
第4章 真空、衬CH、充气等条件下黑腔等离子体填充的实验研究 | 第54-72页 |
4.1 引言 | 第54页 |
4.2 神光Ⅱ不同尺寸的真空黑腔等离子体填充实验研究 | 第54-59页 |
4.3 神光Ⅱ黑腔内壁衬CH抑制等离子体填充的实验研究 | 第59-62页 |
4.4 神光Ⅲ原型真空黑腔中的射流 | 第62-67页 |
4.5 神光Ⅲ原型充气黑腔中的流体力学不稳定性和密度壳现象 | 第67-69页 |
4.6 小结 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-72页 |
第5章 低密度泡沫金壁改善黑腔辐射场的实验研究 | 第72-86页 |
5.1 引言 | 第72页 |
5.2 低密度泡沫金壁减弱等离子体填充的实验研究 | 第72-77页 |
5.3 低密度泡沫金壁提高再发射率的实验研究 | 第77-84页 |
5.4 小结 | 第84页 |
参考文献 | 第84-86页 |
第6章 辐射烧蚀小孔等离子体填充的实验研究 | 第86-97页 |
6.1 引言 | 第86页 |
6.2 实验排布 | 第86-88页 |
6.3 实验结果与分析 | 第88-94页 |
6.4 小结 | 第94-95页 |
参考文献 | 第95-97页 |
第7章 总结和展望 | 第97-100页 |
7.1 总结 | 第97-98页 |
7.2 创新点 | 第98-99页 |
7.3 展望 | 第99-100页 |
附录 高功率激光实验室中产生兆高斯量级强磁场的方法研究 | 第100-118页 |
1. 高功率激光实验室中强磁场的应用和产生方法概述 | 第100-101页 |
2. 电容-线圈靶产生强磁场的研究 | 第101-106页 |
3. 脉冲放电装置产生强磁场的研究 | 第106-116页 |
参考文献 | 第116-118页 |
致谢 | 第118-120页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第120-121页 |