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超高压力条件半导体材料导热实验研究
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超高压力条件半导体材料导热实验研究
论文目录
摘要
第1-7页
ABSTRACT
第7-17页
符号说明表
第17-19页
第1章 绪论
第19-35页
1.1 课题研究背景及意义
第19-22页
1.1.1 地球环境演化预测及资源开发
第19-20页
1.1.2 高压高温超导体
第20-22页
1.1.3 功能材料的高压合成及改性
第22页
1.2 课题研究的科学依据
第22-25页
1.2.1 导热的宏观描述
第22-23页
1.2.2 导热的微观描述
第23-24页
1.2.3 超高压条件导热
第24-25页
1.3 超高压导热实验研究现状
第25-33页
1.3.1 超高压力实现方法
第25-26页
1.3.2 测压方法研究现状
第26-28页
1.3.3 超高压导热研究
第28-31页
1.3.4 超高压TDTR导热研究现状
第31-33页
1.4 研究目的及研究内容
第33-35页
1.4.1 研究目的
第33页
1.4.2 研究内容
第33-35页
第2章 TDTR测试原理及超高压实验系统
第35-70页
2.1 TDTR测试原理
第35-50页
2.1.1 TDTR传热模型
第37-39页
2.1.2 TDTR信号的来源与转化
第39-42页
2.1.3 TDTR测试样品的温度响应
第42-47页
2.1.4 不确定度及敏感度分析
第47-50页
2.2 超高压DAC样品的制备
第50-57页
2.2.1 DAC技术简介
第50-51页
2.2.2 超高压DAC装配
第51-56页
2.2.3 样品压力测量
第56-57页
2.3 TDTR+DAC实验系统
第57-64页
2.3.1 TDTR系统的优化
第57-62页
2.3.2 超高压样品台的设计
第62-63页
2.3.3 超高压原位成像系统的设计
第63-64页
2.4 TDTR信号的测量
第64-69页
2.4.1 TDTR超快过程信号
第64-66页
2.4.2 测试点的选择
第66-67页
2.4.3 超高压TDTR信号
第67-69页
2.5 本章小结
第69-70页
第3章 超高压TDTR实验数据处理方法
第70-96页
3.1 超高压TDTR测量中DAC内部传热模型
第70-75页
3.1.1 双向传热模型的建立
第71-73页
3.1.2 双向传热模型的验证
第73-75页
3.2 超高压工况自由参数处理分析
第75-81页
3.3 布里渊信号和回声信号分析
第81-83页
3.3.1 布里渊频率信号
第81-82页
3.3.2 回声信号
第82-83页
3.4 实验数据处理方法
第83-95页
3.4.1 两步拟合法
第84-87页
3.4.2 传热模型的简化
第87-95页
3.5 本章小结
第95-96页
第4章 半导体材料热导率的压力依存性研究
第96-128页
4.1 超高压单晶Si热导率的压力依存性研究
第96-113页
4.1.1 超高压下单晶Si热导率的实验测量
第96-99页
4.1.2 实验误差分析
第99-108页
4.1.3 单晶Si热导率压力依存性计算分析
第108-113页
4.2 超高压GAAS热导率的压力依存性研究
第113-125页
4.2.1 超高压下GaAs晶格结构变化
第114页
4.2.2 超高压下GaAs热导率的实验测量
第114-116页
4.2.3 实验误差分析
第116-119页
4.2.4 GaAs热导率压力依存性计算分析
第119-125页
4.3 界面热导的压力依存性研究
第125-126页
4.4 本章小结
第126-128页
第5章 结论与展望
第128-131页
5.1 本文研究结论
第128-129页
5.2 本文创新点
第129页
5.3 对未来工作的展望
第129-131页
参考文献
第131-140页
致谢
第140-141页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果
第141-142页
本篇论文共
142
页,
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