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Mn掺杂Ⅳ族稀磁半导体的X射线吸收谱学研究
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Mn掺杂Ⅳ族稀磁半导体的X射线吸收谱学研究
论文目录
摘要
第1-7 页
Abstract
第7-13 页
第一章 绪论
第13-35 页
· XAFS 技术
第13-18 页
· XAFS 的发展历史
第13-16 页
· XAFS 方法的特点
第16-17 页
· XAFS 方法在稀磁半导体材料领域的应用
第17-18 页
· 自旋电子学发展概述
第18-21 页
· 稀磁半导体
第21-26 页
· 稀磁半导体研究的历史与现状
第22-24 页
· 稀磁半导体原理与理论体系
第24-26 页
· Ⅳ族稀磁半导体薄膜研究意义及现状
第26-28 页
· 本论文的主要研究内容
第28-30 页
参考文献
第30-35 页
第二章 XAFS 基本理论,数据分析及实验方法
第35-61 页
· EAXFS 基本理论
第35-42 页
· X 射线吸收
第35-39 页
· XAFS 基本方程的推导
第39-41 页
· EXAFS 基本方程的一些修正
第41-42 页
· EXAFS 数据分析
第42-49 页
· EXAFS 数据分析的基本步骤
第42-45 页
· EXAFS 数据中的信息量
第45-46 页
· EXAFS 数据分析软件
第46-49 页
· XAFS 实验
第49-58 页
· 同步辐射XAFS 光束线和实验站
第49-53 页
· 透射式XAFS
第53-55 页
· 荧光式XAFS
第55-58 页
参考文献
第58-61 页
第三章 磁控溅射装置的搭建与调试
第61-73 页
· 磁控溅射原理
第61-62 页
· MS500B型超高真空磁控溅射设备技术方案
第62-65 页
· 磁控溅射实验方法
第65-68 页
· 系统从大气开始抽真空
第65-66 页
· 样品安装
第66-67 页
· 磁控溅射镀膜
第67-68 页
· 取出样品
第68 页
· 停泵关机
第68 页
· 影响薄膜质量的工艺因素
第68-72 页
· 溅射时工作压力对薄膜的影响
第68-69 页
· 工件转速对金属膜的影响
第69-71 页
· 溅射功率对膜的影响
第71-72 页
参考文献
第72-73 页
第四章 Si_(1-x)Mn_x 稀磁半导体薄膜的结构和磁性研究
第73-93 页
· 样品的制备
第73-74 页
· 测试手段及设备
第74-75 页
· X 射线衍射(XRD)
第74 页
· 超导量子干涉仪(SQUID)
第74 页
· Mn K 边X 射线吸收谱(XAFS)
第74-75 页
· Mn L 边X 射线吸收谱(XAFS)
第75 页
· 实验结果分析
第75-81 页
· XRD 结果与分析
第75-76 页
· SQUID 结果与分析
第76-77 页
· Mn K 边XAFS 结果与分析
第77-80 页
· Mn L 边XAFS 结果与分析
第80-81 页
· 讨论
第81-88 页
· Si_(1-x)Mn_x 稀磁半导体薄膜样品中Mn 原子占位的讨论
第81-84 页
· Si_(1-x)Mn_x稀磁半导体薄膜样品中结构扭曲的讨论
第84-85 页
· Si_(1-x)Mn_x稀磁半导体薄膜样品结构与磁性的讨论
第85-88 页
· 结论
第88-90 页
参考文献
第90-93 页
第五章 Ge_(1-x)Mn_x稀磁半导体薄膜的结构研究
第93-108 页
· 样品的制备
第93-94 页
· 测试手段及设备
第94-97 页
· X 射线衍射(XRD)
第94 页
· 原子力显微镜(AFM)
第94-96 页
· 拉曼光谱
第96 页
· X 射线吸收谱(XAFS)
第96-97 页
· 实验结果与分析
第97-102 页
· XRD 结果与分析
第97-98 页
· AFM 结果与分析
第98 页
· 拉曼光谱结果与分析
第98-100 页
· XAFS 结果与分析
第100-102 页
· 讨论
第102-105 页
· 结论
第105-106 页
参考文献
第106-108 页
在读期间发表的学术论文
第108-109 页
致谢
第109-110页
本篇论文共
110
页,
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