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Mn掺杂Ⅳ族稀磁半导体的X射线吸收谱学研究
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Mn掺杂Ⅳ族稀磁半导体的X射线吸收谱学研究
论文目录
 
摘要第1-7 页
Abstract第7-13 页
第一章 绪论第13-35 页
　　· XAFS 技术第13-18 页
　　　　· XAFS 的发展历史第13-16 页
　　　　· XAFS 方法的特点第16-17 页
　　　　· XAFS 方法在稀磁半导体材料领域的应用第17-18 页
　　· 自旋电子学发展概述第18-21 页
　　· 稀磁半导体第21-26 页
　　　　· 稀磁半导体研究的历史与现状第22-24 页
　　　　· 稀磁半导体原理与理论体系第24-26 页
　　· Ⅳ族稀磁半导体薄膜研究意义及现状第26-28 页
　　· 本论文的主要研究内容第28-30 页
　　参考文献第30-35 页
第二章 XAFS 基本理论，数据分析及实验方法第35-61 页
　　· EAXFS 基本理论第35-42 页
　　　　· X 射线吸收第35-39 页
　　　　· XAFS 基本方程的推导第39-41 页
　　　　· EXAFS 基本方程的一些修正第41-42 页
　　· EXAFS 数据分析第42-49 页
　　　　· EXAFS 数据分析的基本步骤第42-45 页
　　　　· EXAFS 数据中的信息量第45-46 页
　　　　· EXAFS 数据分析软件第46-49 页
　　· XAFS 实验第49-58 页
　　　　· 同步辐射XAFS 光束线和实验站第49-53 页
　　　　· 透射式XAFS第53-55 页
　　　　· 荧光式XAFS第55-58 页
　　参考文献第58-61 页
第三章 磁控溅射装置的搭建与调试第61-73 页
　　· 磁控溅射原理第61-62 页
　　· MS500B型超高真空磁控溅射设备技术方案第62-65 页
　　· 磁控溅射实验方法第65-68 页
　　　　· 系统从大气开始抽真空第65-66 页
　　　　· 样品安装第66-67 页
　　　　· 磁控溅射镀膜第67-68 页
　　　　· 取出样品第68 页
　　　　· 停泵关机第68 页
　　· 影响薄膜质量的工艺因素第68-72 页
　　　　· 溅射时工作压力对薄膜的影响第68-69 页
　　　　· 工件转速对金属膜的影响第69-71 页
　　　　· 溅射功率对膜的影响第71-72 页
　　参考文献第72-73 页
第四章 Si_(1-x)Mn_x 稀磁半导体薄膜的结构和磁性研究第73-93 页
　　· 样品的制备第73-74 页
　　· 测试手段及设备第74-75 页
　　　　· X 射线衍射（XRD）第74 页
　　　　· 超导量子干涉仪（SQUID）第74 页
　　　　· Mn K 边X 射线吸收谱（XAFS）第74-75 页
　　　　· Mn L 边X 射线吸收谱（XAFS）第75 页
　　· 实验结果分析第75-81 页
　　　　· XRD 结果与分析第75-76 页
　　　　· SQUID 结果与分析第76-77 页
　　　　· Mn K 边XAFS 结果与分析第77-80 页
　　　　· Mn L 边XAFS 结果与分析第80-81 页
　　· 讨论第81-88 页
　　　　· Si_(1-x)Mn_x 稀磁半导体薄膜样品中Mn 原子占位的讨论第81-84 页
　　　　· Si_(1-x)Mn_x稀磁半导体薄膜样品中结构扭曲的讨论第84-85 页
　　　　· Si_(1-x)Mn_x稀磁半导体薄膜样品结构与磁性的讨论第85-88 页
　　· 结论第88-90 页
　　参考文献第90-93 页
第五章 Ge_(1-x)Mn_x稀磁半导体薄膜的结构研究第93-108 页
　　· 样品的制备第93-94 页
　　· 测试手段及设备第94-97 页
　　　　· X 射线衍射（XRD）第94 页
　　　　· 原子力显微镜（AFM）第94-96 页
　　　　· 拉曼光谱第96 页
　　　　· X 射线吸收谱（XAFS）第96-97 页
　　· 实验结果与分析第97-102 页
　　　　· XRD 结果与分析第97-98 页
　　　　· AFM 结果与分析第98 页
　　　　· 拉曼光谱结果与分析第98-100 页
　　　　· XAFS 结果与分析第100-102 页
　　· 讨论第102-105 页
　　· 结论第105-106 页
　　参考文献第106-108 页
在读期间发表的学术论文第108-109 页
致谢第109-110页

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