高线密度X射线自支撑闪耀透射光栅的制作

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高线密度X射线自支撑闪耀透射光栅的制作

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高线密度X射线自支撑闪耀透射光栅的制作

论文目录
摘要	第1-7页
Abstract	第7-9页
目录	第9-12页
第一章绪论	第12-26页
· 引言	第12-13页
· 传统金自支撑透射光栅	第13-14页
· 传统金自支撑透射光栅的制作方法	第13页
· 传统金自支撑透射光栅的局限	第13-14页
· 新型自支撑闪耀透射光栅	第14-23页
· 闪耀透射光栅基本原理	第14-16页
· 闪耀透射光栅的特点	第16-17页
· 自支撑闪耀透射光栅制作方法简介	第17-19页
· 自支撑闪耀透射光栅国内外研究进展	第19-23页
· 选题意义与论文构成	第23-26页
· 选题意义	第23页
· 论文构成	第23-26页
第二章 5000 1/mm光栅掩模的制作	第26-44页
· 引言	第26页
· 全息光刻制作50001/mm光栅掩模	第26-37页
· 全息光路类型的选择	第26-28页
· 劳埃镜全息光路的设计	第28-29页
· 提高干涉条纹稳定性	第29-31页
· 干涉条纹对比度的分析	第31-36页
· 曝光显影条件的控制	第36-37页
· 纳米压印制作50001/mm光栅掩模	第37-43页
· 纳米压印工艺方案的确定	第39-41页
· 具体工艺步骤	第41页
· 实验结果及讨论	第41-43页
· 本章小结	第43-44页
第三章光栅掩模与垂直{111}面的精确对准	第44-62页
· 引言	第44-48页
· 光栅掩模与垂直{111}面精确对准的作用	第44-45页
· 对准方法回顾	第45-48页
· 劳埃镜全息光刻制作光栅掩模的对准方法	第48-59页
· 对准流程总述	第49页
· 定位<110>硅片的垂直{111}面	第49-52页
· 制作参考光栅	第52-53页
· 优化劳埃镜全息光路	第53-55页
· 参考光栅与干涉条纹的对准	第55-56页
· 干涉条纹与垂直{111}面的对准误差及误差验证	第56-59页
· 纳米压印制作光栅掩模的对准方法	第59-61页
· 参考光栅与PUA/PET印模的对准	第59-60页
· PUA/PET印模与垂直{111}面的对准误差	第60-61页
· 本章小结	第61-62页
第四章各向异性湿法刻蚀工艺	第62-72页
· 引言	第62页
· 各向异性湿法刻蚀剂	第62页
· 各向异性湿法刻蚀的工艺宽容度	第62-64页
· 改善湿法刻蚀均匀性	第64-68页
· 湿法刻蚀均匀性的影响因素	第64-65页
· 改善湿法刻蚀均匀性的措施	第65-68页
· 湿法刻蚀条件的选择	第68-69页
· 湿法刻蚀后的光栅侧壁粗糙度	第69-71页
· 本章小结	第71-72页
第五章自支撑闪耀透射光栅的制作	第72-86页
· 引言	第72页
· SOI硅片	第72-73页
· 自支撑闪耀透射光栅制作工艺	第73-82页
· 对准标志的制作	第73页
· 光栅样品单元及自支撑结构掩模的制作	第73-75页
· 氮化硅湿法保护掩模的制作	第75-80页
· 背面去衬底	第80-81页
· 正面高高宽比硅光栅的制作及干燥	第81-82页
· 实验结果	第82-83页
· 存在的问题	第83页
· 本章小结	第83-86页
第六章总结与展望	第86-88页
· 论文总结	第86-87页
· 论文的主要创新点	第87页
· 后续工作	第87-88页
参考文献	第88-98页
攻读博士学位期间发表的论文	第98-100页
致谢	第100-101页

本篇论文共101页，点击这进入下载页面。

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