射频容性耦合反应性气体SiH_4/Ar放电中电子动理学特性混合模拟

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射频容性耦合反应性气体SiH_4/Ar放电中电子动理学特性混合模拟

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射频容性耦合反应性气体SiH_4/Ar放电中电子动理学特性混合模拟

论文目录
摘要	第1-6页
ABSTRACT	第6-7页
主要符号表	第19-20页
1 绪论	第20-39页
1.1 低温等离子体简介	第20-26页
1.1.1 低温等离子体与微电子工业	第20-21页
1.1.2 低温等离子体表面处理技术	第21-22页
1.1.3 容性耦合等离子体源简介	第22-24页
1.1.4 半导体工艺气体放电研究过程遇到的困难	第24-26页
1.2 反应性气体放电中电子非平衡分布的研究进展	第26-29页
1.3 射频容性耦合等离子体源中反转电场的研究进展	第29-32页
1.4 脉冲调制射频等离子体源的研究进展	第32-37页
1.5 本文研究内容与安排	第37-39页
2 流体/电子蒙特卡罗混合模拟方法	第39-53页
2.1 概述	第39页
2.2 流体模块	第39-44页
2.3 电子蒙特卡罗模型	第44-48页
2.4 化学模块	第48-51页
2.5 模块自洽耦合	第51-53页
3 SiH_4/Ar放电中电子非平衡分布的研究	第53-65页
3.1 引言	第53页
3.2 模拟结果与讨论	第53-64页
3.2.1 电子非平衡分布的产生机制	第51-60页
3.2.2 电子非平衡分布随放电参数的变化趋势	第60-64页
3.3 模拟结果与讨论	第61-65页
4 反转电场所引起的电子动理学演化特性	第65-84页
4.1 引言	第65页
4.2 反转电场的产生机制	第65-69页
4.3 反转电场随放电参数的变化	第69-82页
4.3.1 气体组分效应	第69-73页
4.3.2 气压效应	第73-78页
4.3.3 电压效应	第78-82页
4.4 本章小结	第82-84页
5 脉冲调制射频电子动理学演化特性	第84-105页
5.1 引言	第84页
5.2 模拟方法	第84-86页
5.3 模拟结果与讨论	第86-104页
5.3.1 脉冲调制容性耦合Ar放电中脉冲调制参数的作用	第86-93页
5.3.2 脉冲调制容性耦合Ar及SiH_4/Ar等离子体的研究	第93-104页
5.4 本章小结	第104-105页
6 结论与展望	第105-108页
6.1 结论	第105-106页
6.2 创新点	第106-107页
6.3 展望	第107-108页
参考文献	第108-117页
攻读博士学位期间科研项目及科研成果	第117-119页
致谢	第119-120页
作者简介	第120页

本篇论文共120页，点击这进入下载页面。

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