论文目录 | |
摘要 | 第1-5
页 |
ABSTRACT | 第5-11
页 |
第一章 文献综述 | 第11-40
页 |
· 引言 | 第11-12
页 |
· 二茂铁基聚合物的合成 | 第12-20
页 |
· 支化状二茂铁基聚合物的合成 | 第12-13
页 |
· 线形高分子量二茂铁基聚合物的合成 | 第13-20
页 |
· 环状二茂铁的热ROP(TROP) | 第14
页 |
· 环状二茂铁的阴离子ROP | 第14-15
页 |
· 环状二茂铁的过渡金属催化ROP | 第15-16
页 |
· 环状二茂铁的阳离子ROP | 第16
页 |
· 环状二茂铁的紫外光引发ROP | 第16
页 |
· 环状二茂铁的γ辐照ROP | 第16-17
页 |
· 环状二茂铁的开环移位聚合(ROMP) | 第17
页 |
· 环状二茂铁的修饰及ROP | 第17-18
页 |
· 二茂铁基聚合物的化学反应 | 第18-19
页 |
· 其它合成方法 | 第19-20
页 |
· 二茂铁基聚合物的性能及应用 | 第20-28
页 |
· 聚二茂铁的电性能 | 第20-21
页 |
· 聚二茂铁的光性能 | 第21-24
页 |
· 聚二茂铁的磁性能 | 第24-25
页 |
· 聚二茂铁的自组装 | 第25-27
页 |
· 其它性能及应用 | 第27-28
页 |
· 课题的提出及意义 | 第28
页 |
参考文献 | 第28-40
页 |
第二章 实验部分 | 第40-51
页 |
· 主要试剂的规格、来源及精制 | 第40-41
页 |
· 主要试剂的规格和来源 | 第40-41
页 |
· 主要试剂的精制 | 第41
页 |
· 合成实验装置 | 第41-42
页 |
· 二茂铁基聚合物的合成 | 第42-46
页 |
· 聚二茂铁二甲基硅烷的合成 | 第42
页 |
· 聚二茂铁甲基苯基硅烷的合成 | 第42
页 |
· 聚二茂铁甲基丁基硅烷(PFMBS-a)的合成 | 第42-43
页 |
· 聚二茂铁甲基丁基硅烷(PFMBS-b)的合成 | 第43
页 |
· 甲氧基丁基聚二茂铁硅烷(MeO-Bu-PFS)的合成 | 第43-44
页 |
· 萘乙氧基丁基聚二茂铁硅烷(Np-Bu-PFS)的合成 | 第44
页 |
· 丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷(HEMA-PFS)的合成 | 第44
页 |
· 甲氧基丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷(MeO-HEMA-PFS-a和-b)的合成 | 第44
页 |
· 萘乙氧基丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷(Np-HEMA-PFS)的合成 | 第44-45
页 |
· 正丁基丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷(Bu-HEMA-PFS)的合成 | 第45
页 |
· 稳定自由基丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷(TEMPOL-HEMA-PFS)的合成 | 第45
页 |
· 含硼聚二茂铁(PBF)的合成 | 第45-46
页 |
· 样品制备、仪器及测试方法 | 第46-49
页 |
· 氢-核磁共振谱(~1H-NMR) | 第46
页 |
· 凝胶渗透色谱(GPC) | 第46
页 |
· 紫外/可见光谱(UV/Vis) | 第46
页 |
· 聚二茂铁硅烷薄膜的制备 | 第46-47
页 |
· 聚二茂铁硅烷薄膜的碘扩散掺杂 | 第47
页 |
· 聚二茂铁硅烷薄膜的导电性能 | 第47-48
页 |
· 聚二茂铁硅烷的电化学性能测试 | 第48
页 |
· 电极处理 | 第48
页 |
· 电化学iR电位降补偿 | 第48
页 |
· 聚二茂铁硅烷薄膜的光刻 | 第48-49
页 |
· 聚二茂铁硅烷的自组装 | 第49
页 |
· 透射电镜(TEM) | 第49
页 |
· 扫描电镜(SEM) | 第49
页 |
参考文献 | 第49-51
页 |
第三章 二茂铁基聚合物的合成、电子性能和电性能研究 | 第51-68
页 |
· 聚二茂铁硅烷的合成与表征 | 第51-54
页 |
· 聚二茂铁二甲基硅烷的合成及表征 | 第51-52
页 |
· 聚二茂铁甲基苯基硅烷的合成及表征 | 第52
页 |
· 聚合时间对聚二茂铁硅烷分子量和分子量分布的影响 | 第52-54
页 |
· 聚二茂铁硅烷薄膜的制备及UV/Vis研究 | 第54-57
页 |
· 聚二茂铁硅烷薄膜的制备及其结晶性能 | 第54-55
页 |
· 聚二茂铁硅烷薄膜的碘扩散掺杂 | 第55
页 |
· 聚二茂铁二甲基硅烷和聚二茂铁甲基苯基硅烷薄膜碘掺杂前后的UV/Vis谱 | 第55-57
页 |
· 掺杂聚二茂铁硅烷薄膜的导电性能 | 第57-62
页 |
· 掺杂聚二茂铁硅烷薄膜的导电性能测试 | 第57-59
页 |
· 碘摻杂聚二茂铁二甲基硅烷的电导率和载流子浓度及迁移率 | 第59-61
页 |
· 碘掺杂对聚二茂铁二甲基硅烷薄膜电导率的影响 | 第59-60
页 |
· 碘掺杂对聚二茂铁二甲基硅烷载流子浓度的影响 | 第60
页 |
· 碘掺杂对聚二茂铁二甲基硅烷空穴迁移率的影响 | 第60-61
页 |
· 掺杂聚二茂铁硅烷导电机理探讨 | 第61-62
页 |
· 小结 | 第62
页 |
参考文献 | 第62-68
页 |
第四章 二茂铁基聚合物的合成及溶液电化学研究 | 第68-97
页 |
· 聚二茂铁的合成与表征 | 第68-75
页 |
· 聚二茂铁甲基丁基硅烷(PFMBS-a)的合成 | 第68-69
页 |
· 聚二茂铁甲基丁基硅烷(PFMBS-b)的合成 | 第69-70
页 |
· 甲氧基丁基聚二茂铁硅烷(MeO-Bu-PFS)的合成 | 第70-71
页 |
· 萘乙氧基丁基聚二茂铁硅烷(Np-Bu-PFS)的合成 | 第71-72
页 |
· 含硼聚二茂铁(PBF)的合成 | 第72-75
页 |
· Na盐和硼烷原料的预处理 | 第73
页 |
· 中间体双-(三甲硅基)-氨基-二氯硼烷的合成 | 第73-74
页 |
· 聚二茂铁硼烷的合成 | 第74-75
页 |
· 聚二茂铁的溶液电化学 | 第75-91
页 |
· 不同电位降补偿(iR)对CV谱的影响 | 第75
页 |
· 不同有机溶剂对CV谱的影响 | 第75-77
页 |
· 不同聚合物浓度对CV谱的影响 | 第77-80
页 |
· PFS溶液的电化学反应机理 | 第80-82
页 |
· PFS分子量对CV行为的影响 | 第82
页 |
· 扫描速率对CV谱的影响 | 第82-86
页 |
· 不同取代基团对CV谱的影响 | 第86
页 |
· 二茂铁基聚合物上桥原子的不同对其CV行为的影响 | 第86-88
页 |
· PFS溶液的表观扩散系数 | 第88-91
页 |
· 小结 | 第91
页 |
参考文献 | 第91-97
页 |
第五章 丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的合成及性能研究 | 第97-125
页 |
· 系列丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的合成与表征 | 第97-103
页 |
· 丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷(HEMA-PFS)的合成 | 第97-98
页 |
· 甲氧基丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷(MeO-HEMA-PFS-a和-b)的合成 | 第98-99
页 |
· 萘乙氧基丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷(Np-HEMA-PFS)的合成 | 第99-101
页 |
· 正丁基丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷(Bu-HEMA-PFS)的合成 | 第101-102
页 |
· 稳定自由基丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷(TEMPOL-HEMA-PFS)的合成 | 第102-103
页 |
· 系列丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的性能研究 | 第103-120
页 |
· 系列丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的UV/Vis研究 | 第103-105
页 |
· 具有不同数量丙烯酸酯基的聚二茂铁硅烷溶液的UV/Vis研究 | 第103-104
页 |
· 硅上具有不同基团的聚二茂铁硅烷溶液的UV/Vis研究 | 第104-105
页 |
· 系列丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的溶液电化学研究 | 第105-106
页 |
· 丙烯酸酯基数量对聚二茂铁硅烷CV谱的影响 | 第105
页 |
· 硅上具有不同基团的聚二茂铁硅烷溶液的CV研究 | 第105-106
页 |
· 丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的光交联研究 | 第106-108
页 |
· 丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的光刻工艺 | 第107
页 |
· 丙烯酸基聚二茂铁硅烷的光刻性能 | 第107-108
页 |
· 丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的自组装研究 | 第108-120
页 |
· 丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的溶液自组装 | 第108-113
页 |
· 甲氧基丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的溶液自组装 | 第113
页 |
· 萘乙氧基丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷的溶液自组装 | 第113-119
页 |
· 丙烯酸酯基聚二茂铁硅烷自组装体的SEM观察 | 第119-120
页 |
· 小结 | 第120-121
页 |
参考文献 | 第121-125
页 |
第六章 结论 | 第125-127
页 |
· 主要结论 | 第125-126
页 |
· 主要创新点 | 第126-127
页 |
攻读博士学位期间已发表和待发表的论文 | 第127-129
页 |
致谢 | 第129-130
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