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Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米结构能谱及其调控

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Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米结构能谱及其调控
论文目录
 
摘要第1-7页
Abstract第7-16页
第1章 绪论第16-24页
  1.1 引言第16-17页
  1.2 Ⅲ-Ⅴ族纳米材料生长机制及生长方法第17-18页
  1.3 Ⅲ-Ⅴ族几种半导体纳米材料的特点及应用第18-22页
  1.4 本文的研究内容第22-24页
第2章 理论基础和计算方法第24-37页
  2.1 引言第24页
  2.2 电子结构常用计算方法第24-32页
    2.2.1 k·p方法第25-27页
    2.2.2 密度泛函理论第27-28页
    2.2.3 紧束缚方法第28-31页
    2.2.4 纳米材料悬挂键的处理第31-32页
  2.3 大型稀疏矩阵的处理第32-34页
    2.3.1 Lanczos方法第32-34页
  2.4 对称性分析第34-37页
第3章 Ⅲ-Ⅴ族半导体中几种直接带隙材料制成的纳米线能谱结构的研究第37-64页
  3.1 计算方法和模型第38-39页
  3.2 InAs和InP纳米线电子结构的计算研究第39-46页
    3.2.1 InAs和InP纳米线的能带结构第40-43页
    3.2.2 InAs和InP纳米线的波函数第43-46页
  3.3 InSb和GaSb纳米线电子结构的计算研究第46-63页
    3.3.1 [001]方向正方形和长方形截面InSb和GaSb纳米线的能带结构第46-53页
    3.3.2 [001]方向正方形和长方形截面InSb和GaSb纳米线的波函数第53-57页
    3.3.3 [111]方向六边形截面InSb和GaSb纳米线的能带结构第57-60页
    3.3.4 [111]方向六边形截面InSb和GaSb纳米线的波函数第60-63页
  3.4 小结第63-64页
第4章 间接带隙GaP纳米线能谱及对称性分析第64-76页
  4.1 引言第64-65页
  4.2 计算方法和模型第65-66页
  4.3 [001]方向GaP纳米线的电子结构第66-71页
    4.3.1 GaP纳米线的能带结构第66-69页
    4.3.2 GaP纳米线的波函数第69-71页
  4.4 [111]方向GaP纳米线的电子结构第71-74页
    4.4.1 GaP纳米线的能带结构第71-73页
    4.4.2 GaP纳米线的波函数第73-74页
  4.5 小结第74-76页
第5章 InAs/GaSb和GaSb/InAs核壳纳米线带隙的调控第76-85页
  5.1 引言第76页
  5.2 计算模型和方法第76-78页
    5.2.1 计算模型及异质结的处理第76-78页
  5.3 InAs/GaSb核壳纳米线的电子结构第78-84页
    5.3.1 InAs/GaSb核壳纳米线的能带结构第79-81页
    5.3.2 GaSb/InAs核壳纳米线的能带结构第81-84页
  5.4 小结第84-85页
第6章 InAs/GaSb纳米线超晶格及层状结构能谱的调控研究第85-96页
  6.1 引言第85-86页
  6.2 超晶格纳米线模型第86-87页
  6.3 [001]方向InAs/GaSb纳米线超晶格的能带第87-89页
  6.4 [111]方向InAs/GaSb纳米线超晶格的能带第89-91页
  6.5 InAs/GaSb二维纳米薄片模型及理论基础第91-93页
  6.6 利用纳米薄层厚度的变化调控InAs/GaSb纳米薄片的能隙第93-94页
  6.7 利用外加电场调控InAs/GaSb纳米薄片的能隙第94-95页
  6.8 小结第95-96页
结论与展望第96-99页
1 结论第96-97页
2 下一步工作展望第97-99页
参考文献第99-113页
附录A 攻读学位期间发表的学术论文第113-114页
附录B 攻读学位期间参加的科研项目第114-115页
致谢第115页

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