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FeCo共掺Ge非晶磁性半导体的磁性和电输运研究

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FeCo共掺Ge非晶磁性半导体的磁性和电输运研究
论文目录
 
摘要第1-12页
ABSTRACT第12-17页
第一章 绪论第17-43页
  第一节 自旋电子学简介第17-22页
  第二节 磁性半导体简介第22-24页
  第三节 Ⅳ族Ge基磁性半导体的研究现状第24-31页
  第四节 氢化磁性半导体的研究现状第31-35页
  第五节 研究动机和内容第35-38页
  参考文献第38-43页
第二章 薄膜制备与测试分析第43-53页
  第一节 样品制备技术第43-46页
    · 薄膜技术第43页
    · 磁控溅射工作原理第43-45页
    · 本论文使用的磁控溅射仪简介第45-46页
  第二节 样品的测试分析仪器及原理第46-53页
    · X射线衍射仪(XRD)第46-47页
    · X射线光电子能谱仪(XPS)第47-48页
    · 交流梯度磁强计(AGM)第48-49页
    · 超导量子干涉仪(SQUID)第49-52页
    · 铁磁共振(FMR)第52-53页
第三章 非晶FeCoGe-H及FeCoGe薄膜的制备及成分分析第53-63页
  第一节 引言第53-54页
  第二节 薄膜的制备第54-60页
    · 薄膜的制备第54-55页
    · 结构及成分分析第55-60页
  第三节 小结第60-61页
  参考文献第61-63页
第四章 非晶FeCoGe-H薄膜的静态磁性测量及分析第63-73页
  第一节 引言第63页
  第二节 实验结果与分析第63-70页
    · 非晶(FeCo)_xGe_(1-x)-H薄膜的磁性第63-67页
    · 非晶(FeCo)_xGe_(1-x)-H薄膜的电输运第67-70页
  第三节 小结第70-71页
  参考文献第71-73页
第五章 非晶FeCoGe-H薄膜的动态磁性测量及分析第73-86页
  第一节 引言第73页
  第二节 实验结果与分析第73-83页
    · 自旋波共振场H_r与角度θ_H的依赖关系第74-78页
    · 自旋波劲度系数的定量研究第78-81页
    · 分析与讨论第81-83页
  第三节 小结第83-85页
  参考文献第85-86页
第六章 非晶FeCoGe薄膜的电输运性质第86-96页
  第一节 引言第86-87页
  第二节 实验结果与分析第87-94页
    · 非晶FeCoGe薄膜的霍尔效应第87-90页
    · 非晶FeCoGe薄膜的纵向电阻率第90-91页
    · 非晶FeCoGe薄膜霍尔电阻率与纵向电阻率的关联第91-94页
  第三节 小结第94-95页
  参考文献第95-96页
第七章 总结与展望第96-99页
  第一节 本论文的主要内容和结果第96-97页
  第二节 本论文的特色与创新第97页
  第三节 下一步的工作与展望第97-99页
致谢第99-101页
在学期间发表的论文第101页
参加的学术会议第101-102页
附件第102页

本篇论文共102页,点击这进入下载页面
 
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