论文目录 | |
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第12-30页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第12-14页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第14-27页 |
| 1.2.1 金属表面激发的等离子体激元 | 第15-17页 |
| 1.2.2 基于人工电磁结构的微波吸波结构 | 第17-25页 |
| 1.2.3 基于表面等离子体激元的太赫兹成像系统研究现状 | 第25-27页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第27-30页 |
| 2 深紫外波段基于砷化镓的表面等离子体激元激发与光场增强 | 第30-50页 |
| 2.1 引言 | 第30页 |
| 2.2 表面等离子体激元理论 | 第30-35页 |
| 2.2.1 激发表面等离子体激元的条件 | 第30-34页 |
| 2.2.2 表面等离子体激元的特征 | 第34-35页 |
| 2.3 同心圆环砷化镓薄膜激发表面等离子体激元 | 第35-46页 |
| 2.3.1 介电系数比较 | 第35-38页 |
| 2.3.2 仿真计算及结果分析 | 第38-43页 |
| 2.3.3 表面等离子体激元的性能比较 | 第43-46页 |
| 2.4 线性凹槽结构砷化镓薄膜激发表面等离子体激元 | 第46-49页 |
| 2.4.1 仿真结构及结果讨论 | 第46-49页 |
| 2.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 3 微波波段基于氧化铟锡的人工电磁结构及透明超宽带吸波 | 第50-73页 |
| 3.1 引言 | 第50-51页 |
| 3.2 基于ITO玻璃的伪表面等离子体激元 | 第51-54页 |
| 3.2.1 ITO薄膜简介 | 第51-52页 |
| 3.2.2 ITO玻璃城墙结构 | 第52-54页 |
| 3.3 基于人工电磁结构的透明微波吸波结构 | 第54-68页 |
| 3.3.1 常见微波吸波结构 | 第54-55页 |
| 3.3.2 模型设计与仿真 | 第55-56页 |
| 3.3.3 表面电流和电场分布 | 第56-59页 |
| 3.3.4 斜入射波及不同极化角度分析 | 第59-61页 |
| 3.3.5 样品制备 | 第61-63页 |
| 3.3.6 测试方法及结果分析 | 第63-68页 |
| 3.4 ITO-玻璃吸波结构的等效电路 | 第68-72页 |
| 3.4.1 完美吸波结构理论推导 | 第68-70页 |
| 3.4.2 等效电路及阻抗计算 | 第70-72页 |
| 3.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 4 微波波段基于人工电磁结构的柔性透明超宽带吸波结构 | 第73-90页 |
| 4.1 引言 | 第73页 |
| 4.2 平面状态下的ITO-PET吸波结构性能 | 第73-82页 |
| 4.2.1 模型设计及仿真 | 第73-75页 |
| 4.2.2 表面电流、电场分布分析 | 第71-78页 |
| 4.2.3 微波波段和光波波段性能测试 | 第78-80页 |
| 4.2.4 等效电路及阻抗分析 | 第80-81页 |
| 4.2.5 不同极化角度下的吸波情况分析 | 第81-82页 |
| 4.3 弯曲状态下的ITO-PET吸波结构性能 | 第82-89页 |
| 4.3.1 不同弯曲半径下的吸波性能 | 第82-84页 |
| 4.3.2 原理分析与讨论 | 第84-89页 |
| 4.4 本章小结 | 第89-90页 |
| 5 太赫兹波段基于表面等离子体激元的精确定位及比例尺 | 第90-104页 |
| 5.1 引言 | 第90页 |
| 5.2 基于氧化铟锡薄膜的太赫兹成像精确定位结构 | 第90-96页 |
| 5.2.1 仿真模型及结果 | 第90-94页 |
| 5.2.2 样品制备工艺 | 第94-96页 |
| 5.3 太赫兹时域光谱技术简介 | 第96-98页 |
| 5.4 实验及结果分析 | 第98-101页 |
| 5.4.1 精确定位实验结果 | 第99-100页 |
| 5.4.2 分析及讨论 | 第100-101页 |
| 5.5 太赫兹成像中的精确比例尺 | 第101-103页 |
| 5.6 本章小结 | 第103-104页 |
| 6 结束语 | 第104-106页 |
| 致谢 | 第106-108页 |
| 参考文献 | 第108-117页 |
| 附录 | 第117-118页 |
