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电子设备电磁屏蔽特性分析与设计方法研究
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电子设备电磁屏蔽特性分析与设计方法研究
论文目录
摘要
第1-7页
ABSTRACT
第7-16页
第一章 绪论
第16-27页
1.1 课题的提出和研究目的
第16-17页
1.2 电磁屏蔽研究的主要内容
第17-18页
1.3 国内外研究现状
第18-23页
1.4 论文的研究内容及创新点
第23-26页
1.4.1 研究内容
第23-25页
1.4.2 创新点
第25-26页
1.5 论文的结构安排
第26-27页
第二章 理论基础
第27-44页
2.1 电磁场基本理论概述
第27-31页
2.1.1 Maxwell方程
第27-28页
2.1.2 本构关系
第28-29页
2.1.3 媒质表面边界条件
第29页
2.1.4 时谐电磁场
第29页
2.1.5 静电场与静磁场
第29页
2.1.6 矢量波动方程
第29-30页
2.1.7 辐射边界条件
第30页
2.1.8 高频传输线
第30-31页
2.1.8.1 传输线方程
第30-31页
2.1.8.2 带负载无耗传输线
第31页
2.2 时域传输线矩阵法
第31-39页
2.2.1 基本原理
第31-34页
2.2.2 波的TLM表示
第34-35页
2.2.3 对称凝缩节点
第35-38页
2.2.4 TLM的求解步骤
第38-39页
2.3 电磁屏蔽原理
第39-44页
2.3.1 屏蔽效果的定量评价
第39-40页
2.3.2 电磁屏蔽的干扰源
第40页
2.3.3 全屏蔽屏蔽效能的计算
第40-44页
2.3.3.1 吸收损耗A
第41-42页
2.3.3.2 反射损耗R
第42-43页
2.3.3.3 多次反射损耗B
第43页
2.3.3.4 非理想屏蔽结构
第43-44页
第三章 屏蔽效能计算的解析法研究
第44-59页
3.1 带孔缝矩形屏蔽腔
第44-54页
3.1.1 Robinson模型
第44-46页
3.1.2 Farhana模型
第46-48页
3.1.3 Dan模型
第48-49页
3.1.4 波导隔膜模型
第49-54页
3.1.4.1 波导隔膜理论
第50-51页
3.1.4.2 孔处于面板中央
第51-53页
3.1.4.3 孔处于偏置位置
第53-54页
3.1.4.4 高次模式
第54页
3.2 带孔阵矩形屏蔽腔
第54-57页
3.2.1 Dehkhoda模型
第54-55页
3.2.2 Chen模型
第55-56页
3.2.3 模型验证
第56-57页
3.3 本章小结
第57-59页
第四章 带孔缝屏蔽腔屏蔽设计方法及实验研究
第59-82页
4.1 带孔缝屏蔽腔辐射的理论分析
第59-63页
4.2 带孔缝屏蔽腔的谐振
第63-64页
4.2.1 腔体谐振
第63-64页
4.2.2 孔缝谐振
第64页
4.2.3 腔体—孔缝耦合谐振
第64页
4.2.4 腔体—源耦合谐振
第64页
4.3 带孔缝屏蔽腔屏蔽性能分析
第64-72页
4.3.1 缝隙屏蔽结构
第65页
4.3.2 计算设置
第65-67页
4.3.2.1 TLM时间步
第65-66页
4.3.2.2 TLM网格信息
第66页
4.3.2.3 传输功率与三米远电场
第66-67页
4.3.3 计算结果与分析
第67-72页
4.3.3.1 计算结果验证
第67-68页
4.3.3.2 缝隙长度对谐振的影响
第68-69页
4.3.3.3 缝隙位置对谐振的影响
第69页
4.3.3.4 缝隙宽度对谐振的影响
第69-70页
4.3.3.5 干扰源特性对谐振的影响
第70-71页
4.3.3.6 损耗材料对谐振的影响
第71-72页
4.3.3.7 腔体尺寸对谐振的影响
第72页
4.4 主动屏蔽与被动屏蔽
第72-73页
4.5 内部源激励下机箱屏蔽分析及测试
第73-80页
4.5.1 几何建模与网格剖分
第73-74页
4.5.2 仿真计算
第74-77页
4.5.2.1 求解设置
第74-75页
4.5.2.2 屏蔽特性仿真分析
第75-77页
4.5.3 实验分析
第77-80页
4.6 本章小结
第80-82页
第五章 带孔阵屏蔽腔屏蔽设计方法及实验研究
第82-103页
5.1 带孔阵屏蔽腔屏蔽性能分析
第82-95页
5.1.1 对比验证
第82-84页
5.1.2 孔阵模型
第84-86页
5.1.3 干扰波性质
第86-91页
5.1.3.1 干扰波极化方向
第87-88页
5.1.3.2 干扰波入射方向
第88-91页
5.1.4 孔参数
第91-94页
5.1.4.1 孔间距
第91-93页
5.1.4.2 孔形状
第93-94页
5.1.5 讨论
第94-95页
5.2 平面波激励下机箱屏蔽分析及测试
第95-102页
5.2.1 几何建模与网格剖分
第96页
5.2.2 仿真计算
第96-99页
5.2.2.1 求解设置
第96-97页
5.2.2.2 屏蔽特性仿真分析
第97-99页
5.2.3 实验分析
第99-102页
5.3 本章小结
第102-103页
第六章 基于FETD的屏蔽建模与分析方法研究
第103-122页
6.1 时域有限元法
第103-111页
6.1.1 基本原理
第103-105页
6.1.2 三维矢量基函数
第105-109页
6.1.3 吸收边界条件
第109-110页
6.1.4 波导边界条件
第110页
6.1.5 集总电阻模型
第110-111页
6.2 FETD建模理论
第111-113页
6.2.1 FETD流程
第111-112页
6.2.2 建模的一般步骤
第112页
6.2.3 建模的一般原则
第112-113页
6.2.3.1 保证计算精度
第112-113页
6.2.3.2 控制模型规模
第113页
6.3 数值结果
第113-121页
6.3.1 屏蔽结构
第113-114页
6.3.2 屏蔽分析的FETD
第114-115页
6.3.3 计算配置
第115-117页
6.3.3.1 FETD参数配置
第115-116页
6.3.3.2 FETD网格配置
第116-117页
6.3.4 计算结果与分析
第117-121页
6.3.4.1 结果验证
第117-119页
6.3.4.2 带孔阵屏蔽腔的辐射特性
第119-121页
6.3.4.3 频率的影响
第121页
6.4 本章小结
第121-122页
第七章 基于FETD和PRONY法的强谐振结构屏蔽分析方法研究
第122-133页
7.1 扩展Prony外推算法
第123-125页
7.2 结果分析与验证
第125-130页
7.2.1 外推必要性的说明
第125-126页
7.2.2 外推过程
第126-128页
7.2.3 验证
第128-130页
7.3 外推效率
第130-131页
7.4 讨论
第131-132页
7.5 本章小结
第132-133页
第八章 基于GPU加速FETD的屏蔽分析方法研究
第133-149页
8.1 GPU与CUDA架构
第134-136页
8.2 ILU预条件
第136页
8.3 GPU加速组装集成
第136-142页
8.3.1 传统CPU算法的瓶颈
第137-138页
8.3.2 线程对应于单元
第138页
8.3.3 线程对应于棱边
第138-140页
8.3.4 线程对应于未知量——多GPU
第140-142页
8.4 GPU加速求解器
第142-143页
8.5 GPU加速比
第143-147页
8.5.1 计算环境
第144页
8.5.2 带孔缝屏蔽腔计算的加速比
第144-145页
8.5.3 带孔阵屏蔽腔计算的加速比
第145-147页
8.5.4 不同ILU参数组合的效果
第147页
8.6 本章小结
第147-149页
第九章 全文总结与展望
第149-152页
9.1 全文总结
第149-151页
9.2 后续展望
第151-152页
致谢
第152-153页
参考文献
第153-164页
攻读博士学位期间取得的成果
第164-166页
本篇论文共
166
页,
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