论文目录 | |
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 紫外探测器概述 | 第14-18页 |
| 1.2.1 紫外探测器的原理 | 第14页 |
| 1.2.2 紫外探测器的类型 | 第14-15页 |
| 1.2.3 紫外探测器的结构 | 第15-17页 |
| 1.2.4 紫外探测器的应用 | 第17-18页 |
| 1.3 MSM 型紫外探测器概述 | 第18-20页 |
| 1.3.1 MSM 型光探测器的特点 | 第18页 |
| 1.3.2 MSM 型紫外探测器的原理和结构 | 第18-19页 |
| 1.3.3 MSM 型紫外探测器的主要参数 | 第19-20页 |
| 1.4 宽禁带紫外探测器概述 | 第20-25页 |
| 1.4.1 宽禁带半导体材料的类型 | 第20-21页 |
| 1.4.2 宽禁带半导体材料的特点 | 第21页 |
| 1.4.3 宽禁带半导体材料的应用 | 第21-22页 |
| 1.4.4 宽禁带紫外探测器的结构 | 第22页 |
| 1.4.5 宽禁带半导体探测器的研究进展 | 第22-25页 |
| 1.5 提高紫外探测器性能途径 | 第25-29页 |
| 1.6 本论文的设计思想及主要内容 | 第29-31页 |
| 第二章 TiO_2薄膜制备及紫外探测器的制作 | 第31-49页 |
| 2.1 TiO_2结构与性质 | 第31-32页 |
| 2.2 TiO_2薄膜的制备 | 第32-34页 |
| 2.3 TiO_2薄膜的表征 | 第34-40页 |
| 2.3.1 X 射线衍射分析 | 第34-35页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜分析 | 第35-36页 |
| 2.3.3 原子力显微镜分析 | 第36-37页 |
| 2.3.4 紫外-可见吸收光谱分析 | 第37-38页 |
| 2.3.5 X 射线光电子能谱分析 | 第38-39页 |
| 2.3.6 紫外光电能谱分析 | 第39-40页 |
| 2.4 TiO_2紫外探测器的制作和性能测试 | 第40-46页 |
| 2.4.1 器件的制作 | 第40-43页 |
| 2.4.2 器件 I-V 特性测试 | 第43-44页 |
| 2.4.3 器件光谱响应特性测试 | 第44-45页 |
| 2.4.4 器件响应时间测试 | 第45-46页 |
| 2.5 本章小结 | 第46-49页 |
| 第三章 聚乙烯亚胺表面修饰对 TiO_2紫外探测器性能的影响 | 第49-81页 |
| 3.1 PEI 的概述 | 第49-50页 |
| 3.1.1 PEI 的结构 | 第49-50页 |
| 3.1.2 PEI 的特性 | 第50页 |
| 3.2 PEI/TiO_2的紫外探测器制作 | 第50-75页 |
| 3.2.1 PEI 和 KOH 溶液的制备 | 第51-52页 |
| 3.2.2 TiO_2薄膜的羟基化处理 | 第52页 |
| 3.2.3 PEI/K-TiO_2薄膜的器件制作及性能测试 | 第52-67页 |
| 3.2.4 PEI/U-TiO_2薄膜的器件制作及性能测试 | 第67-75页 |
| 3.3 PEI/K-TiO_2、PEI/U-TiO_2和 TiO_2器件性能对比 | 第75-78页 |
| 3.4 本章小结 | 第78-81页 |
| 第四章 PEI 表面修饰对 Zr_(0.2)Ti_(0.8)O_2紫外探测器性能的影响 | 第81-95页 |
| 4.1 Zr_(0.2)Ti_(0.8)O_2薄膜的制备 | 第81-82页 |
| 4.2 Zr_(0.2)Ti_(0.8)O_2薄膜的表征 | 第82-85页 |
| 4.2.1 X 射线衍射分析 | 第82页 |
| 4.2.2 X 射线光电子能谱分析 | 第82-84页 |
| 4.2.3 紫外-可见吸收分析 | 第84-85页 |
| 4.2.4 扫描电子显微镜分析 | 第85页 |
| 4.3 PEI/Zr_(0.2)Ti_(0.8)O_2的紫外探测器的制作 | 第85-86页 |
| 4.3.1 PEI 和 KOH 溶液的制备 | 第85-86页 |
| 4.3.2 Zr_(0.2)Ti_(0.8)O_2薄膜的羟基化处理 | 第86页 |
| 4.3.3 PEI/Zr_(0.2)Ti_(0.8)O_2器件的制作 | 第86页 |
| 4.4 PEI/Zr_(0.2)Ti_(0.8)O_2器件的性能测试和对比分析 | 第86-92页 |
| 4.4.1 KOH 羟基化处理时间对器件性能的影响 | 第86-88页 |
| 4.4.2 UV/O_3照射羟基化时间对器件性能的影响 | 第88-90页 |
| 4.4.3 两种羟基化处理方式对器件性能影响的对比 | 第90-92页 |
| 4.5 本章小结 | 第92-95页 |
| 第五章 PMMA 表面修饰对 TiO_2紫外探测器湿度稳定性的影响 | 第95-109页 |
| 5.1 PMMA 的概述 | 第95-96页 |
| 5.2 PMMA/TiO_2紫外探测器的制作 | 第96-98页 |
| 5.2.1 实验试剂及仪器 | 第96页 |
| 5.2.2 PMMA 溶液的配制 | 第96页 |
| 5.2.3 PMMA 的表征 | 第96-98页 |
| 5.2.4 PMMA/TiO_2器件的制备 | 第98页 |
| 5.3 PMMA/TiO_2紫外探测器的性能测试 | 第98-106页 |
| 5.3.1 紫外吸收测试 | 第98-99页 |
| 5.3.2 器件 I-V 特性测试 | 第99-100页 |
| 5.3.3 器件响应时间特性测试 | 第100-101页 |
| 5.3.4 PMMA/TiO_2对湿度的影响 | 第101-106页 |
| 5.4 本章小结 | 第106-109页 |
| 第六章 总结 | 第109-111页 |
| 参考文献 | 第111-123页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第123-125页 |
| 致谢 | 第125页 |
