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化学气相沉积用铂、铱金属有机化合物的合成及其应用研究

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化学气相沉积用铂、铱金属有机化合物的合成及其应用研究
论文目录
 
摘要第1-7页
Abstract第7-13页
第一章 绪论第13-33页
  1.1 论文选题背景第13-15页
  1.2 铂、铱高温抗氧化薄膜的制备方法简介第15-18页
    1.2.1 电化学沉积法第15-16页
    1.2.2 物理气相沉积(PVD)第16-17页
    1.2.3 化学气相沉积(CVD)第17-18页
  1.3 金属有机化学气相沉积(MOCVD)概述第18-21页
    1.3.1 CVD的概念及原理第18-20页
    1.3.2 MOCVD制备涂层的影响因素第20-21页
  1.4 MOCVD铂、铱薄膜的前躯体研究现状第21-31页
    1.4.1 MOCVD铂的前躯体第21-25页
    1.4.2 MOCVD铱的前躯体第25-31页
  1.5 论文主要研究内容与意义第31-33页
    1.5.1 主要研究内容第31页
    1.5.2 论文的意义第31-33页
第二章 Ir(acac)_3的合成与表征第33-77页
  2.1 前言第33-34页
  2.2 实验方案第34-39页
    2.2.1 实验总体方案的选择第34页
    2.2.2 实验方法第34-38页
    2.2.3 样品性能测试与表征第38-39页
  2.3 乙酰丙酮铱的表征第39-49页
    2.3.1 乙酰丙酮铱的铱含量和元素分析第39-40页
    2.3.2 乙酰丙酮铱的EI-MS分析第40-42页
    2.3.3 乙酰丙酮铱的FI-TR分析第42-44页
    2.3.4 乙酰丙酮铱的UV-vis分析第44-47页
    2.3.5 配合物的~1HNMR分析第47-48页
    2.3.6 小结第48-49页
  2.4 乙酰丙酮铱产率的影响因素第49-63页
    2.4.1 三氯化铱的影响第49-53页
    2.4.2 碳酸氢钠的影响第53-56页
    2.4.3 乙酰丙酮的影响第56-57页
    2.4.4 溶剂量的影响第57-59页
    2.4.5 反应温度的影响第59-61页
    2.4.6 反应时间的影响第61-63页
  2.5 Ir(acac)_3水溶性研究第63-72页
    2.5.1 溶剂量对溶解的影响第63-64页
    2.5.2 溶解时间对溶解的影响第64-66页
    2.5.3 温度与溶解的关系第66-67页
    2.5.4 Ir(acac)_3溶解产物的表征第67-72页
  2.6 水溶液中合成Ir(acac)_3机理探讨第72-75页
  2.7 Ir(acac)_3合成工艺的改进第75-76页
    2.7.1 试验过程第75页
    2.7.2 结果第75-76页
  2.8 本章小结第76-77页
第三章 CpPt(CH_3)_3的合成第77-97页
  3.1 前言第77页
  3.2 实验方案第77-81页
    3.2.1 实验设备第77页
    3.2.2 实验试剂第77-78页
    3.2.3 实验方法第78-80页
    3.2.4 检测方法第80-81页
  3.3 三甲基碘化铂的表征第81-88页
    3.3.1 元素分析与铂含量分析第81页
    3.3.2 三甲基碘化铂的XPS第81-82页
    3.3.3 质谱(MS)第82-85页
    3.3.4 ~1H核磁共振谱和~(13)C核磁共振谱(~1H NMR、~(13)C NMR)第85-86页
    3.3.5 红外光谱(IR)第86-87页
    3.3.6 结果第87-88页
  3.4 三甲基(环戊二烯基)铂的表征第88-91页
    3.4.1 元素及铂含量分析第88页
    3.4.2 红外光谱(IR)第88-90页
    3.4.3 ~1H核磁共振谱(~1H NMR)第90-91页
    3.4.4 结果第91页
  3.5 Pt(Me)_3I的合成工艺研究第91-96页
    3.5.1 Pt(Me)_3I的合成工艺的选择第91-92页
    3.5.2 甲基锂用量对(CH_3)_3PtI的影响第92-95页
    3.5.3 (CH_3)_3PtI的反应机理第95-96页
  3.6 小结第96-97页
第四章 乙酰丙酮铱在MOCVD过程中的应用研究第97-117页
  4.1 实验设备及方法过程第97-98页
    4.1.1 实验设备第97-98页
    4.1.2 实验过程第98页
  4.2 乙酰丙酮铱升华速率测定第98-100页
    4.2.1 实验方案第99页
    4.2.2 结果第99-100页
  4.3 铱涂层的MOCVD过程第100-115页
    4.3.1 铱涂层形貌观察及成分分析第100-103页
    4.3.2 H_2分压对沉积速率的影响第103-104页
    4.3.3 反应温度对沉积速率的影响第104-106页
    4.3.4 动力学模型建立第106-115页
  4.4 本章小结第115-117页
第五章 MOCVD制备铂薄膜研究第117-139页
  5.1 前言第117页
  5.2 实验设备、仪器及试剂第117-120页
    5.2.1 实验设备第117-118页
    5.2.2 实验用试剂及材料第118-120页
  5.3 镍基高温合金上制备Pt薄膜研究第120-127页
    5.3.1 实验方案第120-121页
    5.3.2 结果讨论第121-127页
  5.4 Pt在不同基体表面的沉积研究第127-135页
    5.4.1 Pt在E、B和镍基高温合金基体表面的沉积第127-130页
    5.4.2 Pt在B、C、D表面的沉积第130-133页
    5.4.3 Pt在E、A、D表面的沉积第133-135页
  5.5 镍基高温合金表面Pt薄膜的制备第135-137页
    5.5.1 实验方案第135页
    5.5.2 实验结果第135-137页
  5.6 本章小结第137-139页
第六章 结论第139-143页
  6.1 研究结论第139-140页
  6.2 论文创新点第140-141页
  6.3 展望第141-143页
致谢第143-145页
参考文献第145-153页
附录A 在读博士期间学术成果第153-155页
附录B 英文缩写对照表第155页

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