论文目录 | |
| 本论文的创新点 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-12页 |
| ABSTRACT | 第12-18页 |
| 第一章 绪论 | 第18-49页 |
| 1.1 硬质涂层和涂层刀具概述 | 第18-23页 |
| 1.2 硬质涂层的分类和发展历程 | 第23-49页 |
| 1.2.1 硬质涂层的分类 | 第23-31页 |
| 1.2.1.1 普通硬质涂层 | 第24-27页 |
| 1.2.1.2 超硬涂层 | 第27-31页 |
| 1.2.2 涂层的发展历程 | 第31-49页 |
| 1.2.2.1 单一涂层 | 第31-32页 |
| 1.2.2.2 多元涂层 | 第32-34页 |
| 1.2.2.3 梯度和多层涂层 | 第34-37页 |
| 1.2.2.4 纳米涂层 | 第37-42页 |
| 1.2.2.5 涂层的生长理论 | 第42-49页 |
| 第二章 涂层主要沉积方法 | 第49-64页 |
| 2.1 涂层的制备方法 | 第49-64页 |
| 2.1.1 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition) | 第49-52页 |
| 2.1.2 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition) | 第52-64页 |
| 2.1.2.1 真空蒸镀 | 第53-54页 |
| 2.1.2.2 溅射沉积 | 第54-56页 |
| 2.1.2.3 离子镀 | 第56-64页 |
| 2.1.2.3.1 多弧离子镀 | 第59页 |
| 2.1.2.3.2 多弧离子镀技术特点 | 第59-62页 |
| 2.1.2.3.3 本论文使用的多弧离子镀系统 | 第62-64页 |
| 第三章 多弧离子镀制备TiBN基涂层 | 第64-90页 |
| 3.1 引言 | 第64-65页 |
| 3.2 TiBN/TN纳米多层涂层的制备和性能研究 | 第65-77页 |
| 3.2.1 概述 | 第65-66页 |
| 3.2.2 实验 | 第66-76页 |
| 3.2.2.1 涂层的制备 | 第66-67页 |
| 3.2.2.2 涂层结构和性能表征 | 第67-70页 |
| 3.2.2.3 实验结果分析和讨论 | 第70-76页 |
| 3.2.3 小结 | 第76-77页 |
| 3.3 TiBN/CrN纳米多层涂层的制备和性能研究 | 第77-88页 |
| 3.3.1 概述 | 第77-78页 |
| 3.3.2 实验 | 第78-88页 |
| 3.3.2.1 TiBN/CrN涂层的制备 | 第78-80页 |
| 3.3.2.2 实验结果分析与讨论 | 第80-88页 |
| 3.3.3 小结 | 第88页 |
| 3.4 本章小结 | 第88-90页 |
| 第四章 多弧离子镀制备TI-B-N基纳米复合涂层 | 第90-120页 |
| 4.1 引言 | 第90-91页 |
| 4.2 阴极电弧离子镀制备Ti-B-C-N复合涂层 | 第91-103页 |
| 4.2.1 概述 | 第91-92页 |
| 4.2.2 实验 | 第92-103页 |
| 4.2.2.1 Ti-B-C-N涂层的制备 | 第92-94页 |
| 4.2.2.2 涂层结构和性能表征 | 第94页 |
| 4.2.2.3 实验结果和讨论 | 第94-103页 |
| 4.2.3 小结 | 第103页 |
| 4.3 Ti-Si-B-N纳米复合涂层的制备和性能研究 | 第103-113页 |
| 4.3.1 概述 | 第103-104页 |
| 4.3.2 实验 | 第104-112页 |
| 4.3.2.1 Ti-Si-B-N涂层的制备 | 第104-106页 |
| 4.3.2.2 涂层结构和性能表征 | 第106-107页 |
| 4.3.2.3 实验结果和分析 | 第107-112页 |
| 4.3.3 小结 | 第112-113页 |
| 4.4 纳米超硬涂层机理探索 | 第113-118页 |
| 4.4.1 引言 | 第113页 |
| 4.4.2 纳米涂层致硬机理探索 | 第113-118页 |
| 4.4.3 小结 | 第118页 |
| 4.5 本章小结 | 第118-120页 |
| 第五章 结论和展望 | 第120-123页 |
| 5.1 本文结论 | 第120-122页 |
| 5.2 未来展望 | 第122-123页 |
| 参考文献 | 第123-136页 |
| 攻博期间发表的与学位论文相关的科研成果目录 | 第136-137页 |
| 致谢 | 第137页 |
