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偏压调控笼形空心阴极放电特性及Si-DLC厚膜结构与性能研究

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偏压调控笼形空心阴极放电特性及Si-DLC厚膜结构与性能研究
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-16页
第1章 绪论第16-34页
  1.1 引言第16-17页
  1.2 DLC膜分类第17-18页
  1.3 DLC研究现状第18-25页
    1.3.1 DLC膜的失效第18页
    1.3.2 提高膜基结合力措施第18-24页
    1.3.3 DLC厚膜制备工艺第24-25页
  1.4 空心阴极放电技术第25-32页
    1.4.1 空心阴极放电机理第25-28页
    1.4.2 空心阴极放电沉积DLC膜第28-30页
    1.4.3 笼形空心阴极沉积DLC膜第30-32页
  1.5 本文的研究内容第32-34页
第2章 试验材料及研究方法第34-41页
  2.1 试验材料及预处理第34-35页
  2.2 偏压调控笼形空心阴极沉积技术及实验设备第35页
  2.3 放电特性和光谱测试第35-37页
    2.3.1 等离子体放电特性测试第35-36页
    2.3.2 等离子体发射光谱诊断第36-37页
  2.4 显微结构测试第37-38页
    2.4.1 原子力显微镜第37页
    2.4.2 光学显微镜第37-38页
    2.4.3 扫描电子显微镜第38页
    2.4.4 拉曼光谱测试第38页
    2.4.5 X-射线光电子能谱分析第38页
    2.4.6 X-射线衍射分析第38页
  2.5 力学性能测试第38-39页
    2.5.1 纳米硬度测量第38-39页
    2.5.2 显微硬度测量第39页
  2.6 膜基结合力测试第39页
    2.6.1 洛氏压痕测试第39页
    2.6.2 划痕测试第39页
  2.7 摩擦磨损性能评价第39页
  2.8 氧化性能测试第39-40页
  2.9 腐蚀性能测试第40-41页
第3章 笼形空心阴极放电特性第41-52页
  3.1 辉光引燃特性第41-44页
    3.1.1 氩气辉光放电第41-43页
    3.1.2 乙炔辉光放电第43-44页
  3.2 放电伏安特性测试第44-48页
    3.2.1 氩气辉光放电第45-46页
    3.2.2 乙炔辉光放电第46页
    3.2.3 单个脉冲放电第46-48页
  3.3 笼网表面状态对放电的影响第48-51页
  3.4 本章小结第51-52页
第4章 不同气氛下气压和偏压对放电特性的影响第52-75页
  4.1 氩气笼形空心阴极放电第52-60页
    4.1.1 工作气压的影响第52-54页
    4.1.2 附加偏压的影响第54-57页
    4.1.3 氩气放电光谱测试第57-60页
  4.2 乙炔笼形空心阴极放电第60-67页
    4.2.1 工作气压的影响第60-64页
    4.2.2 附加偏压的影响第64-65页
    4.2.3 乙炔放电光谱测试第65-67页
  4.3 Ar和C_2H_2混合气体笼形空心阴极放电第67-72页
    4.3.1 气体比例变化对放电特性的影响第67-68页
    4.3.2 附加偏压对混合气体放电特性的影响第68-70页
    4.3.3 气体比例变化对光谱特性的影响第70-72页
  4.4 放电机制第72-73页
  4.5 本章小结第73-75页
第5章 偏压对基体表面结构及膜基结合力的影响第75-89页
  5.1 不锈钢基体偏压刻蚀处理第75-81页
    5.1.1 表面相结构及形貌第75-80页
    5.1.2 膜基结合力测试第80-81页
  5.2 不锈钢氮化层偏压刻蚀处理第81-87页
    5.2.1 不锈钢氮化及Ar~+和H~+离子刻蚀第81-85页
    5.2.2 膜基结合力测试第85-87页
  5.3 提高膜基结合力机制第87-88页
  5.4 本章小结第88-89页
第6章 偏压对Si-DLC膜结构和性能的影响第89-107页
  6.1 偏压调控Si-DLC膜验证实验第89-90页
  6.2 偏压调控Si-DLC膜工艺方案第90-91页
  6.3 Si-DLC膜显微结构及沉积速率第91-101页
    6.3.1 截面形貌及沉积速率第91-95页
    6.3.2 表面形貌及表面粗糙度第95-96页
    6.3.3 膜层结构和化学态分析第96-101页
  6.4 Si-DLC膜机械性能表征第101-105页
    6.4.1 力学性能测试分析第101-102页
    6.4.2 结合力测试分析第102-103页
    6.4.3 摩擦磨损测试分析第103-105页
  6.5 本章小结第105-107页
第7章 偏压调控Si-DLC膜制备及性能研究第107-130页
  7.1 Si-DLC膜层设计及制备工艺第107-108页
  7.2 Si-DLC膜微观结构和表面粗糙度第108-111页
  7.3 Si-DLC膜机械性能表征第111-120页
    7.3.1 显微硬度测试分析第111页
    7.3.2 膜基结合力测试分析第111-115页
    7.3.3 厚度对膜层韧性的影响第115-118页
    7.3.4 摩擦磨损性能分析第118-120页
  7.4 Si-DLC膜耐氧化性和耐腐蚀性第120-125页
    7.4.1 耐氧化性分析第120-122页
    7.4.2 耐腐蚀性分析第122-125页
  7.5 高结合力Si-DLC膜制备第125-127页
  7.6 152μmSi-DLC膜制备及应用实例第127-128页
  7.7 本章小结第128-130页
结论第130-133页
参考文献第133-145页
攻读博士学位期间发表的学术论文及其它成果第145-147页
致谢第147-148页
个人简历第148-149页
附件第149页

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