论文目录 | |
致谢 | 第1-7页 |
摘要 | 第7-8页 |
Abstract | 第8-13页 |
1 绪论 | 第13-30页 |
1.1 研究背景 | 第13-14页 |
1.2 透明导电氧化物研究概述 | 第14-24页 |
1.2.1 种透明导电氧化物简要介绍 | 第14-16页 |
1.2.2 透明导电氧化物的应用 | 第16-24页 |
1.3 基于透明导电氧化物的TCO/Metal复合结构研究概述 | 第24-28页 |
1.3.1 TCO/Metal复合结构简要介绍 | 第24-26页 |
1.3.2 TCO/Metal复合结构用于等离子体激元领域 | 第26-28页 |
1.4 本文主要研究内容和创新意义 | 第28-30页 |
2 实验设备及测试方法 | 第30-44页 |
2.1 引言 | 第30页 |
2.2 脉冲激光沉积(PLD)法制备微纳薄膜 | 第30-36页 |
2.2.1 脉冲激光沉积制备微纳薄膜原理 | 第30-32页 |
2.2.2 脉冲激光沉积设备介绍 | 第32-36页 |
2.3 磁控溅射设备制备微纳薄膜 | 第36-39页 |
2.3.1 磁控溅射方法沉积薄膜原理 | 第36-37页 |
2.3.2 磁控溅射镀膜设备介绍 | 第37-39页 |
2.4 ITO微纳结构制备方法 | 第39-40页 |
2.5 测试方法 | 第40-43页 |
2.5.1 结构分析 | 第40-41页 |
2.5.2 薄膜成分测试 | 第41-42页 |
2.5.3 光学性能 | 第42页 |
2.5.4 电学特性 | 第42-43页 |
2.6 本章小结 | 第43-44页 |
3 透明导电氧化物ITO薄膜的生长及性能研究 | 第44-75页 |
3.1 单层透明导电氧化物ITO薄膜的制备 | 第44-46页 |
3.1.1 透明导电氧化物ITO薄膜的特性介绍 | 第44-45页 |
3.1.2 单层透明导电氧化物ITO薄膜的制备 | 第45-46页 |
3.2 ITO薄膜的测试结果与讨论 | 第46-61页 |
3.2.1 制备环境对ITO薄膜微结构的影响 | 第46-50页 |
3.2.2 制备工艺对ITO薄膜电学性能的影响 | 第50-54页 |
3.2.3 制备工艺对ITO薄膜光学性能的影响 | 第54-61页 |
3.3 ITO微纳结构的制备与表征 | 第61-74页 |
3.3.1 EBL结合ICP-RIE法制备ITO微纳结构 | 第62-68页 |
3.3.2 Lift-off工艺制备ITO微纳结构 | 第68-74页 |
3.4 本章小结 | 第74-75页 |
4 基于椭圆偏振光谱技术对ITO薄膜及金薄膜光学特性的研究 | 第75-92页 |
4.1 椭圆偏振测量技术 | 第75-79页 |
4.1.1 椭圆偏振测量技术基本原理 | 第75-78页 |
4.1.2 基于Semilab GES5E椭偏仪简要介绍 | 第78-79页 |
4.2 椭圆偏振测试技术的数据分析方法及常用模型 | 第79-83页 |
4.2.1 单一材料的几种常用拟合模型 | 第80-82页 |
4.2.2 混合材料的拟合模型 | 第82-83页 |
4.3 透明导电ITO薄膜,金属Au薄膜及ITO/Au复合薄膜光学性能的椭圆偏振光谱研究 | 第83-91页 |
4.3.1 玻璃衬底光学特性研究 | 第83-84页 |
4.3.2 玻璃衬底上ITO薄膜的椭圆偏振光谱研究 | 第84-88页 |
4.3.3 玻璃衬底上金属Au薄膜的椭圆偏振光谱研究 | 第88-89页 |
4.3.4 玻璃衬底上ITO/Au复合薄膜的椭圆偏振光谱研究 | 第89-91页 |
4.4 本章小结 | 第91-92页 |
5 ITO/Au/ITO复合薄膜的光电及等离子体特性研究 | 第92-112页 |
5.1 ITO/Au/ITO复合薄膜的制备 | 第93-94页 |
5.2 ITO/Au/ITO复合薄膜的测试结果与讨论 | 第94-111页 |
5.2.1 ITO/Au/ITO复合薄膜的微结构表征 | 第94-96页 |
5.2.2 ITO/Au/ITO复合薄膜表面形貌表征 | 第96-98页 |
5.2.3 ITO/Au/ITO复合薄膜表面形貌表征 | 第98-99页 |
5.2.4 ITO/Au/ITO复合薄膜光学特性表征 | 第99-105页 |
5.2.5 ITO/Au/ITO的等离子体特性研究 | 第105-111页 |
5.3 本章小结 | 第111-112页 |
参考文献 | 第112-129页 |
攻读博士学位期间主要的研究成果 | 第129-130页 |
作者简介 | 第130页 |