论文目录 | |
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 本论文主要创新点 | 第9-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-51页 |
| 1.1 引言 | 第15-17页 |
| 1.2 可见光催化的净还原反应的研究进展 | 第17-21页 |
| 1.2.1 还原脱卤素反应 | 第17-19页 |
| 1.2.2 锍盐和砜的还原断裂反应 | 第19-20页 |
| 1.2.3 环氧乙烷和氮杂环丙烷的还原开环反应 | 第20-21页 |
| 1.3 可见光催化的净氧化反应的研究进展 | 第21-34页 |
| 1.3.1 氧化产生亚胺离子中间体 | 第21-30页 |
| 1.3.2 光催化官能团的氧化反应 | 第30-33页 |
| 1.3.3 其他类型的净氧化反应 | 第33-34页 |
| 1.4 可见光催化的氧化还原中性反应的研究进展 | 第34-47页 |
| 1.4.1 原子转移自由基加成反应 | 第34-35页 |
| 1.4.2 羰基化合物α或β-位官能化反应 | 第35-38页 |
| 1.4.3 (杂)芳环的官能化反应 | 第38-42页 |
| 1.4.4 其他π体系的官能化反应 | 第42-47页 |
| 1.5 可见光催化的能量转移反应研究进展 | 第47-49页 |
| 1.6 小结与立题思想 | 第49-51页 |
| 第二章 可见光诱导手性二胺的分子内环化反应：一种构建四氢咪唑衍生物的新方法 | 第51-79页 |
| 2.1 引言 | 第51-53页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第53-58页 |
| 2.2.1 反应条件优化 | 第53-54页 |
| 2.2.2 底物适用范围 | 第54-56页 |
| 2.2.3 克级规模反应 | 第56页 |
| 2.2.4 可能的立体诱导过程和异构化途径 | 第56-58页 |
| 2.3 小结 | 第58页 |
| 2.4 实验部分 | 第58-79页 |
| 2.4.1 仪器、试剂及方法 | 第58页 |
| 2.4.2 底物的制备及结构表征 | 第58-64页 |
| 2.4.3 四氢咪唑类衍生物的合成及结构表征 | 第64-68页 |
| 2.4.4 化合物Ⅱ-10a的晶体结构数据 | 第68-79页 |
| 第三章 可见光催化室温下合成异喹啉[2,1-α][3,1]噁嗪和异喹啉[2,1-α]嘧啶衍生物 | 第79-99页 |
| 3.1 引言 | 第79-81页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第81-84页 |
| 3.2.1 反应条件优化 | 第81-82页 |
| 3.2.2 底物适用范围 | 第82-83页 |
| 3.2.3 克级规模反应和无金属参与过程 | 第83-84页 |
| 3.3 小结 | 第84页 |
| 3.4 实验部分 | 第84-99页 |
| 3.4.1 仪器、试剂及方法 | 第84页 |
| 3.4.2 底物的制备及结构表征 | 第84-88页 |
| 3.4.3 异喹啉[2,1-α][3,1]噁嗪的合成及表征 | 第88-91页 |
| 3.4.4 异喹啉[2,1-α]嘧啶的合成及表征 | 第91-92页 |
| 3.4.5 化合物Ⅲ-16a的晶体结构数据 | 第92-99页 |
| 第四章 可见光诱导的形式上[3+2]环加成反应：无金属条件下合成毗咯衍生物 | 第99-117页 |
| 4.1 引言 | 第99-101页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第101-107页 |
| 4.2.1 反应条件优化 | 第101-102页 |
| 4.2.2 底物适用范围 | 第102-104页 |
| 4.2.3 羟甲基戊二酰辅酶A还原酶抑制剂的合成 | 第104页 |
| 4.2.4 产物Ⅳ-23a的合成转化 | 第104-105页 |
| 4.2.5 首例光催化能量转移和电子转移结合的吡咯合成反应 | 第105页 |
| 4.2.6 [3+2]环加成反应的机理研究 | 第105-107页 |
| 4.3 小结 | 第107页 |
| 4.4 实验部分 | 第107-117页 |
| 4.4.1 仪器、试剂及方法 | 第107-108页 |
| 4.4.2 底物的制备及结构表征 | 第108-110页 |
| 4.4.3 多取代毗咯的合成及表征 | 第110-114页 |
| 4.4.4 羟甲基戊二酰辅酶A还原酶抑制剂的合成及产物的结构表征 | 第114-115页 |
| 4.4.5 产物Ⅳ-23a的合成转化 | 第115-117页 |
| 第五章 可见光诱导酰胺N-S键的还原断裂：一种脱对甲苯磺酰基保护的新方法 | 第117-135页 |
| 5.1 引言 | 第117-119页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第119-122页 |
| 5.2.1 反应条件优化 | 第119-120页 |
| 5.2.2 底物适用范围 | 第120-121页 |
| 5.2.3 克级规模反应和太阳光照射反应 | 第121-122页 |
| 5.2.4 可能的反应机理 | 第122页 |
| 5.3 小结 | 第122页 |
| 5.4 实验部分 | 第122-135页 |
| 5.4.1 仪器、试剂及方法 | 第122-123页 |
| 5.4.2 底物的制备及结构表征 | 第123-129页 |
| 5.4.3 可见光诱导的N-S键断裂过程及产物的结构表征 | 第129-135页 |
| 第六章 可见光诱导的C-S键活化：从β-羰基砜合成1,4-二羰基化合物 | 第135-155页 |
| 6.1 引言 | 第135-137页 |
| 6.2 结果与讨论 | 第137-144页 |
| 6.2.1 反应条件优化 | 第137-138页 |
| 6.2.2 底物适用范围 | 第138-139页 |
| 6.2.3 从苯乙炔合成1,4-二酮 | 第139-140页 |
| 6.2.4 其他磺酰基保护的底物和太阳光照射反应 | 第140页 |
| 6.2.5 从β-羰基砜两步构建杂环化合物 | 第140页 |
| 6.2.6 反应机理探索 | 第140-144页 |
| 6.3 小结 | 第144页 |
| 6.4 实验部分 | 第144-155页 |
| 6.4.1 仪器、试剂及方法 | 第144页 |
| 6.4.2 底物的制备及结构表征 | 第144-147页 |
| 6.4.3 对称1,4-二酮的合成及表征 | 第147-150页 |
| 6.4.4 不对称1,4-二酮的合成及表征 | 第150-152页 |
| 6.4.5 从苯乙炔合成1,4-二酮 | 第152-153页 |
| 6.4.6 产物Ⅵ-21a的合成转化 | 第153-155页 |
| 第七章 金属钯和可见光光氧化还原共催化的胺α-位烯丙基化反应 | 第155-175页 |
| 7.1 引言 | 第155-157页 |
| 7.2 结果与讨论 | 第157-165页 |
| 7.2.1 反应条件优化 | 第157-159页 |
| 7.2.2 底物适用范围 | 第159-162页 |
| 7.2.3 方法学的合成应用 | 第162页 |
| 7.2.4 反应机理探索 | 第162-165页 |
| 7.3 小结 | 第165页 |
| 7.4 实验部分 | 第165-175页 |
| 7.4.1 仪器、试剂及方法 | 第165页 |
| 7.4.3 原料Ⅶ-15和Ⅶ-16的合成及结构表征 | 第165-166页 |
| 7.4.4 烯丙基化反应产物Ⅶ-19的合成及结构表征 | 第166-172页 |
| 7.4.5 小檗碱家族成员Ⅶ-22的形式上全合成及结构表征 | 第172-175页 |
| 第八章 室温下金属镍和可见光光氧化还原共催化的C-P键构建反应 | 第175-187页 |
| 8.1 引言 | 第175-176页 |
| 8.2 结果与讨论 | 第176-181页 |
| 8.2.1 反应条件优化 | 第176-178页 |
| 8.2.2 底物适用范围 | 第178-180页 |
| 8.2.3 可能的反应机理 | 第180-181页 |
| 8.3 小结 | 第181页 |
| 8.4 实验部分 | 第181-187页 |
| 8.4.1 仪器、试剂及方法 | 第181-182页 |
| 8.4.2 三芳基氧化膦的合成及其结构表征 | 第182-187页 |
| 参考文献 | 第187-213页 |
| 附录Ⅰ：典型化合物的NMR谱图 | 第213-275页 |
| 附录Ⅱ：攻读博士学位期间发表论文情况 | 第275-277页 |
| 致谢 | 第277页 |
