论文目录 | |
| 摘要 | 第1-10页 |
| ABSTRACT | 第10-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-19页 |
| 第二章 文献综述 | 第19-47页 |
| 2.1 本课题研究的目的和意义 | 第19-21页 |
| 2.2 硅钢的研究进展 | 第21-22页 |
| 2.3 硅钢的性能要求及特性 | 第22-26页 |
| 2.3.1 硅钢的性能要求 | 第22-23页 |
| 2.3.2 硅钢相图 | 第23-24页 |
| 2.3.3 硅钢的磁学性能 | 第24-26页 |
| 2.4 高硅钢的特点和应用前景 | 第26-29页 |
| 2.4.1 高硅钢的特点 | 第26-28页 |
| 2.4.2 高硅钢的应用前景 | 第28-29页 |
| 2.5 高硅钢的制备工艺 | 第29-38页 |
| 2.5.1 传统轧制法 | 第30页 |
| 2.5.2 冷轧轧制法 | 第30-31页 |
| 2.5.3 快速凝固法 | 第31-33页 |
| 2.5.4 粉末冶金法 | 第33-34页 |
| 2.5.5 包埋渗硅法 | 第34页 |
| 2.5.6 沉积扩散法 | 第34-38页 |
| 2.6 复合电沉积技术 | 第38-45页 |
| 2.6.1 复合电沉积技术 | 第38-39页 |
| 2.6.2 磁场下复合电沉积技术 | 第39-41页 |
| 2.6.3 磁场对复合电沉积的影响 | 第41-45页 |
| 2.7 本文研究内容 | 第45-47页 |
| 第三章 试验方法和装置 | 第47-58页 |
| 3.1 前言 | 第47页 |
| 3.2 实验仪器设备与材料 | 第47-52页 |
| 3.2.1 水平磁场实验设备 | 第47-49页 |
| 3.2.2 竖直强磁场实验设备 | 第49-51页 |
| 3.2.3 其它实验设备和器材 | 第51-52页 |
| 3.3 复合镀液组分及其表征 | 第52-56页 |
| 3.3.1 电镀液成分及工作条件 | 第52页 |
| 3.3.2 Fe-Si 合金粉及纯硅粉的制备及表征 | 第52-55页 |
| 3.3.3 镀件表面加工和预处理 | 第55-56页 |
| 3.4 分析测试方法 | 第56-57页 |
| 3.4.1 镀层形貌及镀层元素含量的测定 | 第56页 |
| 3.4.2 电化学测试 | 第56-57页 |
| 3.5 镀层制备试验方案 | 第57-58页 |
| 第四章 无磁场下 Fe-Si 镀层的制备 | 第58-75页 |
| 4.1 竖直电极电镀 | 第58-61页 |
| 4.1.1 搅拌速度对镀层硅含量的影响 | 第58-59页 |
| 4.1.2 电流密度对镀层硅含量的影响 | 第59页 |
| 4.1.3 颗粒浓度对镀层硅含量的影响 | 第59-61页 |
| 4.2 水平电极电镀 | 第61-62页 |
| 4.3 分析与讨论 | 第62-73页 |
| 4.4 结论 | 第73-75页 |
| 第五章 水平磁场对制备 Fe-Si 复合镀层的影响 | 第75-108页 |
| 5.1 磁场对复合镀层的影响 | 第75-98页 |
| 5.1.1 平行磁场对竖直电极复合镀层形貌及硅含量的影响 | 第75-87页 |
| 5.1.2 垂直磁场对竖直电极复合镀层形貌及硅含量的影响 | 第87-90页 |
| 5.1.3 垂直磁场对水平电极复合镀层形貌及硅含量的影响 | 第90-96页 |
| 5.1.4 电流密度对镀层硅含量的影响 | 第96-98页 |
| 5.2 分析与讨论 | 第98-106页 |
| 5.2.1 磁场与电流排布方向对 Fe-Si 镀层形貌及硅含量的影响 | 第98-101页 |
| 5.2.2 电极边缘梯度磁场效应 | 第101-104页 |
| 5.2.3 影响颗粒进入复合镀层的微观 MHD 效应 | 第104-106页 |
| 5.3 本章结论 | 第106-108页 |
| 第六章 竖直强磁场对 Fe-Si 复合电沉积的影响 | 第108-131页 |
| 6.1 强垂直磁场对竖直电极镀层表面形貌及硅含量的影响 | 第108-118页 |
| 6.2 强平行磁场对水平电极镀层表面形貌及硅含量的影响 | 第118-122页 |
| 6.3 强磁场下电流密度对镀层硅含量的影响 | 第122页 |
| 6.4 磁场对阴极电流效率的影响 | 第122-124页 |
| 6.5 颗粒在磁场中受到的电磁力的计算 | 第124-125页 |
| 6.6 磁感应强度对镀层结构的影响 | 第125-129页 |
| 6.7 本章结论 | 第129-131页 |
| 第七章 磁场下电化学研究电沉积铁过程 | 第131-152页 |
| 7.1 复合电沉积过程理论基础 | 第132-140页 |
| 7.1.1 复合电沉积放电过程 | 第132-133页 |
| 7.1.2 金属沉积过程的电化学反应 | 第133-137页 |
| 7.1.3 复合沉积的结晶形核过程 | 第137-140页 |
| 7.2 磁场下对纯铁镀电沉积过程的电化学分析研究 | 第140-150页 |
| 7.2.1 磁场对极化曲线的影响 | 第141-143页 |
| 7.2.2 磁场对循环伏安曲线的影响 | 第143-145页 |
| 7.2.3 磁场对电位阶跃 i-t 曲线的影响 | 第145-147页 |
| 7.2.4 磁场对电化学阻抗谱的影响 | 第147-150页 |
| 7.3 本章结论 | 第150-152页 |
| 第八章 结论、创新点与展望 | 第152-156页 |
| 8.1 结论 | 第152-154页 |
| 8.2 创新点 | 第154-155页 |
| 8.3 展望 | 第155-156页 |
| 参考文献 | 第156-170页 |
| 作者在攻读博士学位期间公开发表的论文 | 第170-172页 |
| 致谢 | 第172页 |
