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低碳钢表面Ni基W系合金层制备及其性能研究

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低碳钢表面Ni基W系合金层制备及其性能研究
论文目录
 
摘要第1-9页
ABSTRACT第9-12页
目录第12-16页
第一章 绪论第16-36页
  1.1 引言第16-17页
  1.2 合金电沉积理论研究第17-22页
    1.2.1 电镀简介第17页
    1.2.3 电沉积机理研究意义第17-18页
    1.2.4 电沉积机理研究方法第18-19页
    1.2.5 Fe 族金属的电沉积机理研究简介第19-22页
  1.3 新型合金镀层的研究第22-26页
    1.3.1 纳米合金镀层的研究第22-23页
    1.3.2 非晶合金镀层的研究第23-25页
    1.3.3 纳米复合镀层的研究第25-26页
  1.4 镍钨合金镀层的研究进展第26-30页
    1.4.1 Ni 基合金的优点第26-27页
    1.4.2 镍钨合金镀层共沉积的研究第27-28页
    1.4.3 镍钨合金镀层的影响因素第28-30页
    1.4.4 钨合金镀层的性能第30页
  1.5 金属表面钝化层研究进展第30-34页
    1.5.1 金属的钝化第30-31页
    1.5.2 Fe 族金属材料表面钝化的研究第31-34页
  1.6 本文的选题意义和研究内容第34-36页
第二章 实验方法第36-45页
  2.1 引言第36页
  2.2 实验试剂与仪器第36-38页
    2.2.1 实验试剂第36-37页
    2.2.2 实验设备和仪器第37-38页
  2.3 镀层的制备第38-42页
    2.3.1 电镀装置图第38页
    2.3.2 镀液成分及工艺条件第38-40页
    2.3.3 镀液配制第40-41页
    2.3.4 基体金属电镀前的表面处理第41页
    2.3.5 电镀过程第41页
    2.3.6 镀层热处理过程第41-42页
  2.4 电沉积过程分析方法第42-43页
  2.5 镀层表征分析及其相关性能测试方法第43-45页
    2.5.1 镀层外观检查第43页
    2.5.2 显微组织观察和分析第43页
    2.5.3 表面粗糙度和硬度测试第43页
    2.5.4 腐蚀电化学测试第43-45页
第三章 工艺条件和镀液成分对 Ni-W 合金镀层结构及性能的影响第45-84页
  3.1 引言第45页
  3.2 pH 值对 Ni-W 合金镀层的影响第45-57页
    3.2.1 镀液 pH值对镀层结构及 W 的存在形态的影响第46-49页
    3.2.2 镀液 pH值对镀层表面形貌的影响第49-52页
    3.2.3 Ni-W 合金镀层截面 SEM照片分析第52页
    3.2.4 镀液 pH值对镀层 W含量及电流效率的影响第52-53页
    3.2.5 镀液 pH值对镀层表面粗糙度的影响第53-54页
    3.2.6 镀液 pH值对 Ni-W镀层显微硬度的影响第54-55页
    3.2.7 镀液 pH值对 Ni-W镀层腐蚀电化学的影响第55-57页
  3.3 电流密度对 Ni-W 合金镀层的影响第57-68页
    3.3.1 电流密度对 Ni-W 合金镀层结构的影响第58-59页
    3.3.2 电流密度对 Ni-W 合金镀层表面形貌的影响第59-62页
    3.3.3 电流密度对 Ni-W 合金镀层 W含量及电流效率的影响第62-63页
    3.3.4 电流密度对 Ni-W 合金镀层的表面粗糙度的影响第63-64页
    3.3.5 电流密度对 Ni-W 合金镀层表面显微硬度的影响第64-65页
    3.3.6 电流密度对 Ni-W 合金镀层腐蚀电化学的影响第65-68页
  3.4 镀液成分对 Ni-W 合金镀层的影响第68-76页
    3.4.1 镀液成分对 Ni-W 合金镀层结构的影响第69-70页
    3.4.2 镀液成分对 Ni-W 合金镀层表面形貌的影响第70-71页
    3.4.3 镀液成分对 Ni-W 合金镀层 W含量及电流效率的影响第71-72页
    3.4.4 镀液成分对 Ni-W 合金镀层粗糙度的影响第72-73页
    3.4.5 镀液成分对 Ni-W 合金镀层硬度的影响第73-74页
    3.4.6 镀液成分对 Ni-W 合金镀层腐蚀电化学的影响第74-76页
  3.5 人工神经网络优化电沉积条件第76-82页
    3.5.1 Ni-W 合金共沉积工艺神经网络模型构建第77-80页
    3.5.2 电沉积工艺神经网络模型预测第80-82页
  3.6 本章小结第82-84页
第四章 Ni-W 合金镀层电沉积机理的研究第84-98页
  4.1 引言第84-85页
  4.2 结果与讨论第85-97页
    4.2.1 Ni-W 合金的循环伏安曲线分析第85-89页
    4.2.2 Ni-W 合金镀层的电结晶行为的分析第89-94页
    4.2.3 Ni-W 共沉积电极表面电化学阻抗分析第94-97页
  4.3 本章小结第97-98页
第五章 热处理对 Ni-W 合金镀层的影响第98-113页
  5.1 引言第98-99页
  5.2 样品的表征第99-106页
    5.2.1 氢气气氛下热处理后样品的表面形貌第99-101页
    5.2.2 氢气气氛下热处理后样品的 XRD分析第101-103页
    5.2.3 氩气气氛下热处理后样品的表面形貌第103-105页
    5.2.4 氩气气氛下热处理后样品的 XRD分析第105-106页
  5.3 热处理后 Ni-W 合金样品的表面粗糙度分析第106-107页
  5.4 热处理后 Ni-W 合金样品的表面硬度分析第107-108页
  5.5 热处理后 Ni-W 合金样品的电化学分析第108-112页
    5.5.1 极化曲线测试第108-110页
    5.5.2 电化学阻抗第110-112页
  5.6 本章小结第112-113页
第六章 Ni-W 合金镀层表面钝化性能的研究第113-128页
  6.1 引言第113-114页
  6.2 样品的制备第114页
  6.3 合金镀层的钝化性能研究第114-120页
    6.3.1 动电位极化曲线分析第114-116页
    6.3.2 恒电位阳极钝化过程分析第116-117页
    6.3.3 电化学阻抗分析第117-120页
  6.4 合金层表面钝化膜的半导体性质第120-123页
  6.5 合金层表面钝化膜的点缺陷扩散系数第123-127页
  6.6 本章小结第127-128页
第七章 超疏水性 Ni-W-Cu 合金层制备第128-141页
  7.1 引言第128页
    7.2. Ni-W-Cu 三元合金镀层的制备第128-134页
    7.2.1 Ni-W-Cu 合金镀层的表面形貌第128-131页
    7.2.2 Ni-W-Cu 合金镀层的 EDS分析第131-132页
    7.2.3 Ni-W-Cu 合金镀层的 XRD分析第132-134页
  7.3 镀层粗糙度测试第134-135页
  7.4 镀层硬度测试第135-136页
  7.5 镀层接触角测试第136-137页
  7.6 镀层电化学测试第137-139页
    7.6.1 电化学阻抗第137-138页
    7.6.2 极化曲线第138-139页
  7.7 本章小结第139-141页
第八章 Ni-W- (Al2O3/SiO2/Cr2O3)纳米复合涂层制备第141-156页
  8.1 引言第141-142页
  8.2 纳米粉末的表征第142-143页
  8.3 Ni-W-纳米复合镀层的表面形貌第143-147页
    8.3.1 不同粉体浓度下制备的 Ni-W-Al2O3复合沉积层表面形貌第143-145页
    8.3.2 不同粉体浓度下制备的 Ni-W-SiO2复合沉积层表面形貌第145-146页
    8.3.3 不同粉体浓度下制备的 Ni-W-Cr2O3复合沉积层表面形貌第146-147页
  8.4 Ni-W-纳米复合镀层的 XRD 分析第147-149页
  8.5 Ni-W-纳米复合镀层的表面粗糙度分析第149-150页
  8.6 Ni-W-纳米复合镀层的显微硬度分析第150-151页
  8.7 Ni-W-纳米复合镀层的电化学分析第151-155页
    8.7.1 Ni-W-纳米复合镀层的极化曲线分析第151-153页
    8.7.2 Ni-W-纳米复合镀层的电化学阻抗分析第153-155页
  8.8 本章小结第155-156页
第九章 结论与展望第156-162页
  9.1 主要结论第156-159页
  9.2 创新之处第159-160页
  9.3 展望第160-162页
参考文献第162-183页
作者在攻读博士学位期间公开发表的论文及专利第183-184页
作者在攻读博士学位期间获得的荣誉第184-185页
致谢第185页

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