强流脉冲电子束处理对过共晶铝硅合金表面微观组织及性能影响研究 |
论文目录 | | | 摘要 | 第1-7页 | | Abstract | 第7-14页 | | 第1章 绪论 | 第14-34页 | | 1.1 选题背景 | 第14-15页 | | 1.2 过共晶铝硅合金 | 第15-20页 | | 1.2.1 过共晶铝硅合金组织特征 | 第15-16页 | | 1.2.2 过共晶铝硅合金硅相形态 | 第16-17页 | | 1.2.3 过共晶铝硅合金性能特点 | 第17-20页 | | 1.3 过共晶铝硅合金应用现状及存在问题 | 第20-22页 | | 1.3.1 应用现状 | 第20-21页 | | 1.3.2 存在问题 | 第21-22页 | | 1.4 过共晶铝硅合金性能强化的主要途径 | 第22-25页 | | 1.4.1 细化变质处理 | 第22-23页 | | 1.4.2 半固态搅拌 | 第23-24页 | | 1.4.3 快速凝固工艺 | 第24-25页 | | 1.5 电子束表面改性技术 | 第25-29页 | | 1.5.1 电子束表面改性的优势所在 | 第26-27页 | | 1.5.2 电子束表面改性技术的分类 | 第27-29页 | | 1.5.3 电子束表面改性的应用现状 | 第29页 | | 1.6 强流脉冲电子束(HCPEB) | 第29-31页 | | 1.6.1 HCPEB表面改性特点 | 第29-30页 | | 1.6.2 纯铝及其合金HCPEB表面改性研究进展 | 第30-31页 | | 1.7 本文研究目的及内容 | 第31-34页 | | 1.7.1 研究目的 | 第31-32页 | | 1.7.2 研究内容 | 第32-34页 | | 第2章 实验方法与过程 | 第34-53页 | | 2.1 实验原材料及过共晶铝硅合金成分的选择 | 第34页 | | 2.2 过共晶铝硅合金的制备工艺 | 第34-39页 | | 2.2.1 基本原理 | 第34-35页 | | 2.2.2 熔炼设备 | 第35页 | | 2.2.3 制备过程 | 第35-37页 | | 2.2.4 去气精炼 | 第37-39页 | | 2.3 强流脉冲电子束(HCPEB)改性装置 | 第39-44页 | | 2.3.1 改性装置组成 | 第39页 | | 2.3.2 工作原理 | 第39-42页 | | 2.3.3 工艺参数 | 第42页 | | 2.3.4 装置测试 | 第42-44页 | | 2.4 强流脉冲电子束表面改性处理 | 第44-46页 | | 2.4.1 实验流程图 | 第44-45页 | | 2.4.2 电子束处理前的样品准备 | 第45-46页 | | 2.4.3 电子束表面改性处理过程 | 第46页 | | 2.5 分析检测方法 | 第46-51页 | | 2.5.1 微观组织分析方法 | 第46-49页 | | 2.5.2 性能测试 | 第49-51页 | | 2.6 本章小结 | 第51-53页 | | 第3章 强流脉冲电子束作用下过共晶铝硅合金表面形貌及微观组织 | 第53-76页 | | 3.1 引言 | 第53页 | | 3.2 原始组织形貌 | 第53-54页 | | 3.3 HCPEB处理后初生硅特征形貌 | 第54-61页 | | 3.3.1 典型“晕圈”结构 | 第54-58页 | | 3.3.2 “晕圈”结构成分分析 | 第58-60页 | | 3.3.3 “晕圈”结构形成机理 | 第60-61页 | | 3.4 改性表面铝基体形貌 | 第61-65页 | | 3.4.1 纯Al颗粒形貌与分布 | 第61-63页 | | 3.4.2 α(Al)枝晶细化 | 第63-65页 | | 3.5 合金表面XRD分析 | 第65-69页 | | 3.5.1 衍射峰的宽化及偏移 | 第65-68页 | | 3.5.2 择优取向 | 第68-69页 | | 3.6 HCPEB处理后合金截面组织研究 | 第69-74页 | | 3.6.1 重熔层形貌特征 | 第69-72页 | | 3.6.2 重熔层元素分布 | 第72-74页 | | 3.7 本章小结 | 第74-76页 | | 第4章 强流脉冲电子束诱发合金表层亚稳态结构的形成 | 第76-98页 | | 4.1 引言 | 第76页 | | 4.2 原始组织TEM显微观察 | 第76-77页 | | 4.3 纳米硅 | 第77-82页 | | 4.3.1 合金表层游离存在的纳米硅晶粒 | 第78-79页 | | 4.3.2 合金表层析出的细小纳米硅晶粒 | 第79-82页 | | 4.4 过饱和固溶体 | 第82-86页 | | 4.4.1 铝硅置换固溶体 | 第82-83页 | | 4.4.2 过饱和固溶体形成及固溶度计算 | 第83-86页 | | 4.4.3 硅在铝中的过饱和固溶行为 | 第86页 | | 4.5 非晶态固体 | 第86-92页 | | 4.5.1 非晶氧化铝 | 第87-88页 | | 4.5.2 非晶硅 | 第88-92页 | | 4.6 铝基体位错结构 | 第92-96页 | | 4.7 本章小结 | 第96-98页 | | 第5章 强流脉冲电子束处理对过共晶铝硅合金表面性能的影响 | 第98-114页 | | 5.1 引言 | 第98页 | | 5.2 合金表面及截面硬度分析 | 第98-108页 | | 5.2.1 维氏硬度测试原理及单位换算 | 第99页 | | 5.2.2 合金表面显微硬度分析 | 第99-106页 | | 5.2.3 合金截面显微硬度分析 | 第106-108页 | | 5.3 合金表面摩擦磨损性能分析 | 第108-112页 | | 5.3.1 磨损量变化 | 第109-111页 | | 5.3.2 摩擦系数分析 | 第111-112页 | | 5.4 本章小结 | 第112-114页 | | 第6章 结论与展望 | 第114-117页 | | 参考文献 | 第117-131页 | | 攻读博士学位期间取得的学术成果 | 第131-134页 | | 创新点 | 第134-135页 | | 致谢 | 第135页 |
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