论文目录 | |
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 1.引言 | 第12-37页 |
| 1.1 选题背景及研究意义 | 第12-14页 |
| 1.2 真空镀膜技术 | 第14-31页 |
| 1.2.1 真空镀膜 | 第14-15页 |
| 1.2.2 溅射技术 | 第15-22页 |
| 1.2.3 物理气相沉积（PVD） | 第22-26页 |
| 1.2.4 化学气相沉积（CVD） | 第26-31页 |
| 1.3 彩色纳米薄膜 | 第31-34页 |
| 1.4 论文研究的内容、目标及主要章节 | 第34-37页 |
| 1.4.1 论文研究的内容、目标 | 第34-35页 |
| 1.4.2 本论文章节安排 | 第35-37页 |
| 2.实验设备和研究方法 | 第37-49页 |
| 2.1 实验设备 | 第37-40页 |
| 2.1.1 中频交流孪生靶溅射 | 第37-39页 |
| 2.1.2 偏压系统 | 第39页 |
| 2.1.3 真空系统 | 第39-40页 |
| 2.2 基片材料和预处理 | 第40-41页 |
| 2.3 薄膜沉积工艺 | 第41-42页 |
| 2.4 测量仪器及方法 | 第42-49页 |
| 2.4.1 分光测色仪 CM2600d | 第42-43页 |
| 2.4.2 干涉显微镜 | 第43页 |
| 2.4.3 膜基结合力测试 | 第43-45页 |
| 2.4.4 盐雾试验机 | 第45页 |
| 2.4.5 润湿角测定仪 | 第45-46页 |
| 2.4.6 扫描电子显微镜（SEM） | 第46-47页 |
| 2.4.7 X-射线能量色散谱仪（X-ray Energy Dispersive Spectroscopy,EDS） | 第47-48页 |
| 2.4.8 X 射线衍射分析仪（X-ray Diffractometer，XRD） | 第48-49页 |
| 3.工艺参数对薄膜光学特性的影响 | 第49-64页 |
| 3.1 薄膜沉积工艺的研究 | 第49-50页 |
| 3.2 工艺参数对 ZrN 薄膜光学特性的影响 | 第50-57页 |
| 3.2.1 工艺参数对 ZrN 薄膜颜色的影响 | 第52-53页 |
| 3.2.2 工艺参数对色差ΔE*值的影响 | 第53-55页 |
| 3.2.3 工艺参数对反射率的影响 | 第55-57页 |
| 3.2.4 ZrN 薄膜的光学特性分析 | 第57页 |
| 3.3 工艺参数对 TiN 薄膜光学特性的影响 | 第57-60页 |
| 3.4 工艺参数对 TiCN 薄膜光学特性的影响 | 第60-62页 |
| 3.5 不同工艺参数下 ZrN、TiN、TiCN 薄膜光学特性的分析 | 第62-64页 |
| 4.薄膜微观组织及成膜机理的研究 | 第64-92页 |
| 4.1 ZrN、TiN、TiCN 成膜机理的研究 | 第65-70页 |
| 4.1.1 薄膜形核特点 | 第65-67页 |
| 4.1.2 薄膜生长方式 | 第67-69页 |
| 4.1.3 Zr/ZrN、Ti/TiN、Ti/TiCN 成膜机理分析 | 第69-70页 |
| 4.2 采用 SEM 观察 ZrN、TiN、TiCN 薄膜微观结构 | 第70-74页 |
| 4.3 ZrN、TiN、TiCN 薄膜 XRD 特征分析 | 第74-86页 |
| 4.3.1 不同氮气流量下的 XRD 特征分析 | 第74-80页 |
| 4.3.2 不同基片偏压下的 XRD 特征分析 | 第80-86页 |
| 4.4 基于负偏压下的 ZrN、TiN、TiCN 薄膜择优取向的研究 | 第86-90页 |
| 4.5 总结 | 第90-92页 |
| 5.工艺参数对薄膜性能的影响 | 第92-113页 |
| 5.1 工参数对 ZrN 薄膜性能的影响 | 第92-97页 |
| 5.1.1 工艺参数对 ZrN 薄膜厚度影响的分析 | 第94-95页 |
| 5.1.2 工艺参数对 ZrN 薄膜结合力影响的分析 | 第95-96页 |
| 5.1.3 工艺参数对 ZrN 薄膜耐蚀性影响的分析 | 第96-97页 |
| 5.2 工参数对 TiN 薄膜性能的影响 | 第97-101页 |
| 5.2.1 工艺参数对 TiN 薄膜厚度影响的分析 | 第98-99页 |
| 5.2.2 工艺参数对 TiN 薄膜结合力影响的分析 | 第99-100页 |
| 5.2.3 工艺参数对 TiN 薄膜耐蚀性影响的分析 | 第100-101页 |
| 5.3 工参数对 TiCN 薄膜性能的影响 | 第101-107页 |
| 5.3.1 工艺参数对 TiCN 薄膜厚度影响的分析 | 第102-103页 |
| 5.3.2 工艺参数对 TiCN 薄膜结合力影响的分析 | 第103-104页 |
| 5.3.3 工艺参数对 TiCN 薄膜耐蚀性影响的分析 | 第104-107页 |
| 5.4 薄膜疏水特性的研究 | 第107-111页 |
| 5.5 分析与总结 | 第111-113页 |
| 6.磁控溅射 Zr/ZrN、Ti/TiN、Ti/TiCN 彩色纳米薄膜的研究 | 第113-118页 |
| 6.1 薄膜厚度与折射率、颜色之间的关系 | 第113-114页 |
| 6.2 薄膜择优取向与性能之间的关系 | 第114-115页 |
| 6.3 薄膜生长方式与性能之间的关系 | 第115-116页 |
| 6.4 总结 | 第116-118页 |
| 7.结论与创新 | 第118-124页 |
| 7.1 结论 | 第118-121页 |
| 7.1.1 ZrN、TiN、TiCN 薄膜光学特性的研究 | 第118-119页 |
| 7.1.2 ZrN、TiN、TiCN 薄膜成膜机理和生长方式的研究 | 第119-120页 |
| 7.1.3 ZrN、TiN、TiCN 薄膜性能的分析 | 第120-121页 |
| 7.2 创新性 | 第121-124页 |
| 参考文献 | 第124-134页 |
| 作者简介 | 第134-136页 |
| 致谢 | 第136-137页 |
