论文目录 | |
| 摘要 | 第1-11页 |
| ABSTRACT | 第11-14页 |
| 第一章 前言 | 第14-59页 |
| §1.1 介孔材料简介 | 第14-21页 |
| 1.1.1 介孔材料的概念、结构与组成 | 第14-15页 |
| 1.1.2 介孔材料的合成路线与机理 | 第15-18页 |
| 1.1.2.1 软模板合成路线 | 第16-17页 |
| 1.1.2.2 硬模板合成路线 | 第17-18页 |
| 1.1.3 介孔材料的形貌控制 | 第18-21页 |
| 1.1.3.1 介孔薄膜材料 | 第18-19页 |
| 1.1.3.2 纤维状、棒状介孔材料 | 第19页 |
| 1.1.3.3 介孔单片材料 | 第19-20页 |
| 1.1.3.4 球状介孔材料 | 第20页 |
| 1.1.3.5 介孔单晶材料 | 第20-21页 |
| §1.2 介孔薄膜材料概述 | 第21页 |
| §1.3 介孔薄膜材料的制备方法 | 第21-25页 |
| 1.3.1 化学溶液沉积法 | 第22-23页 |
| 1.3.2 共聚物层浸渍法 | 第23页 |
| 1.3.3 界面生长法和自支撑介孔薄膜 | 第23-24页 |
| 1.3.4 电沉积法 | 第24页 |
| 1.3.5 脉冲激光沉积法 | 第24页 |
| 1.3.6 膜厚度控制 | 第24-25页 |
| §1.4 介孔薄膜材料的合成机理 | 第25-31页 |
| 1.4.1 镀膜溶液(骨架前躯物与模板剂) | 第25-26页 |
| 1.4.2 薄膜形成过程与溶剂挥发诱导自组装 | 第26-27页 |
| 1.4.3 薄膜后处理 | 第27-29页 |
| 1.4.3.1 高温热处理法与收缩引起的结构畸变 | 第27-28页 |
| 1.4.3.2 溶剂萃取模板剂法 | 第28-29页 |
| 1.4.3.3 紫外辐射处理法 | 第29页 |
| 1.4.4 定向排列的孔道结构 | 第29-31页 |
| 1.4.4.1 外场法 | 第29-30页 |
| 1.4.4.2 限制空间法 | 第30页 |
| 1.4.4.3 基底表面修饰法与外延生长 | 第30-31页 |
| 1.4.4.4 其他方法 | 第31页 |
| §1.5 介孔薄膜材料的组成 | 第31-37页 |
| 1.5.1 介孔氧化硅薄膜 | 第32页 |
| 1.5.2 介孔金属氧化物薄膜 | 第32-33页 |
| 1.5.3 介孔金属单质薄膜 | 第33-34页 |
| 1.5.4 介孔碳薄膜 | 第34页 |
| 1.5.5 介孔高分子薄膜 | 第34-36页 |
| 1.5.6 介孔复合薄膜 | 第36-37页 |
| §1.6 介孔薄膜材料的修饰与改性 | 第37-39页 |
| 1.6.1 原位掺杂法 | 第37-38页 |
| 1.6.2 后修饰法 | 第38-39页 |
| §1.7 介孔薄膜材料的应用 | 第39-42页 |
| 1.7.1 传感器 | 第39-40页 |
| 1.7.2 光能转化和利用 | 第40-41页 |
| 1.7.3 电化学应用/电致发光 | 第41-42页 |
| 1.7.4 过滤分离膜系统 | 第42页 |
| §1.8 论文选题 | 第42-45页 |
| 参考文献 | 第45-59页 |
| 第二章 有序介孔高分子及介孔碳薄膜的合成与介观结构控制 | 第59-76页 |
| §2.1 引言 | 第59-61页 |
| §2.2 实验部分 | 第61-63页 |
| §2.3 结果与讨论 | 第63-73页 |
| 2.3.1 介孔高分子/介孔碳薄膜的形貌 | 第63页 |
| 2.3.2 以F127为模板剂的介孔高分子/介孔碳薄膜的介观结构研究 | 第63-68页 |
| 2.3.3 以P123为模板剂的介孔高分子/介孔碳薄膜的介观结构研究 | 第68-71页 |
| 2.3.4 介孔高分子/介孔碳薄膜结构调变的讨论和相图 | 第71-72页 |
| 2.3.5 介孔高分子/介孔碳薄膜的孔性质研究 | 第72-73页 |
| §2.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 第三章 自支撑介孔碳薄膜的合成及其在纳米器件中的应用 | 第76-97页 |
| §3.1 引言 | 第76-77页 |
| §3.2 实验部分 | 第77-80页 |
| §3.3 结果与讨论 | 第80-94页 |
| 3.3.1 自支撑介孔碳薄膜的宏观形貌 | 第80-82页 |
| 3.3.2 自支撑介孔碳膜的介观结构及孔性质 | 第82-90页 |
| 3.3.2.1 介观结构研究 | 第82-89页 |
| 3.3.2.2 孔性质研究 | 第89页 |
| 3.3.2.3 介观结构和孔性质调变 | 第89-90页 |
| 3.3.3 高分子层辅助的镀膜-刻蚀法合成自支撑介孔碳薄膜 | 第90-91页 |
| 3.3.4 自支撑介孔碳薄膜在纳米器件中的应用 | 第91-94页 |
| 3.3.4.1 电化学超级电容器器件 | 第91-93页 |
| 3.3.4.2 纳米过滤器件用于蛋白分离 | 第93-94页 |
| §3.4 本章小结 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-97页 |
| 第四章 以碳纤维布为基底的介孔碳膜的合成及其在电化学电容器中的应用 | 第97-112页 |
| §4.1 引言 | 第97-98页 |
| §4.2 实验部分 | 第98-100页 |
| §4.3 结果与讨论 | 第100-109页 |
| 4.3.1 碳纤维布和碳纤维布@介孔碳膜的形貌 | 第100-101页 |
| 4.3.2 以碳纤维布为基底的介孔碳膜的介观结构调控 | 第101-104页 |
| 4.3.3 以碳纤维布为基底的介孔碳膜的孔性质 | 第104-106页 |
| 4.3.4 碳纤维布@介孔碳膜的电化学性能研究 | 第106-109页 |
| 4.3.4.1 介孔孔道结构对电化学性能的影响 | 第106-108页 |
| 4.3.4.2 介孔碳层厚度对电化学性能的影响 | 第108-109页 |
| 4.3.4.3 碳化温度对电化学性能的影响 | 第109页 |
| §4.4 本章小结 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-112页 |
| 第五章 有序介孔碳/硅复合薄膜的合成与性质研究 | 第112-130页 |
| §5.1 引言 | 第112-113页 |
| §5.2 实验部分 | 第113-115页 |
| §5.3 结果与讨论 | 第115-127页 |
| 5.3.1 有序介孔碳硅复合薄膜的形貌 | 第115-116页 |
| 5.3.2 有序介孔碳硅复合薄膜的介观结构 | 第116-120页 |
| 5.3.3 有序介孔碳硅复合薄膜的孔性质 | 第120-122页 |
| 5.3.4 有序介孔碳硅复合薄膜物理化学性质的研究与讨论 | 第122-127页 |
| 5.3.4.1 骨架组成的讨论 | 第122-124页 |
| 5.3.4.2 硅组成对骨架抗收缩性的影响 | 第124-125页 |
| 5.3.4.3 介孔碳硅复合薄膜机械性能研究 | 第125-126页 |
| 5.3.4.4 介孔碳硅复合薄膜导电性研究 | 第126-127页 |
| §5.4 本章小结 | 第127-128页 |
| 参考文献 | 第128-130页 |
| 第六章 有序介孔氧化钛薄膜的合成及在量子点敏化光电化学电池中的应用 | 第130-153页 |
| §6.1 引言 | 第130-132页 |
| §6.2 实验部分 | 第132-135页 |
| §6.3 结果与讨论 | 第135-149页 |
| 6.3.1 有序介孔氧化钛薄膜的介观结构和取向性研究 | 第136-140页 |
| 6.3.2 合成调控介孔氧化钛薄膜的宏观形貌 | 第140-142页 |
| 6.3.3 有序介孔氧化钛薄膜的孔性质 | 第142-144页 |
| 6.3.4 硫化镉量子点敏化有序介孔氧化钛薄膜的结构与性质 | 第144-145页 |
| 6.3.5 光电化学(PEC)太阳能电池性能研究 | 第145-149页 |
| §6.4 本章小结 | 第149页 |
| 参考文献 | 第149-153页 |
| 第七章 掺杂过渡金属离子的有序介孔氧化钛薄膜及其在光催化中的应用 | 第153-168页 |
| §7.1 引言 | 第153-154页 |
| §7.2 实验部分 | 第154-156页 |
| §7.3 结果与讨论 | 第156-165页 |
| 7.3.1 掺杂金属离子介孔氧化钛薄膜的结构与孔性质 | 第158-161页 |
| 7.3.2 掺杂金属离子含量对介孔氧化钛薄膜结构的影响 | 第161-162页 |
| 7.3.3 被掺杂金属元素在骨架中的状态研究 | 第162-163页 |
| 7.3.4 掺杂金属离子介孔氧化钛薄膜的吸光性质 | 第163-164页 |
| 7.3.5 掺杂金属离子介孔氧化钛薄膜光催化性能研究 | 第164-165页 |
| §7.4 本章小结 | 第165-166页 |
| 参考文献 | 第166-168页 |
| 第八章 全文总结 | 第168-170页 |
| 附录1 论文中所涉及的缩写说明 | 第170-171页 |
| 附录2 作者简历及论文发表情况 | 第171-173页 |
| 致谢 | 第173-174页 |
