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二维硅烯的电学性能以及金属纳米线的输运性质的第一原理计算

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二维硅烯的电学性能以及金属纳米线的输运性质的第一原理计算
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-29页
  1.1 集成电路的发展第10-12页
  1.2 硅烯的性能和制备第12-23页
    1.2.1 石墨烯的性质第12-13页
    1.2.2 硅烯的结构第13-14页
    1.2.3 硅烯的电学性质第14-16页
    1.2.4 硅烯的制备第16-22页
    1.2.5 硅烯的表面功能化第22-23页
  1.3 内连线的发展第23-27页
    1.3.1 内连线的发展和问题第24-27页
  1.4 本文研究内容第27-29页
第2章 计算机模拟方法第29-35页
  2.1 密度泛函理论第29-31页
  2.2 密度泛函理论的色散修正第31-33页
  2.3 Dmol3 和 CASTEP 模块简介第33-35页
第3章 密度泛函理论计算表面卤族功能化的硅烯第35-44页
  3.1 引言第35-36页
  3.2 模拟方法第36-37页
  3.3 结果与讨论第37-43页
  3.4 小结第43-44页
第4章 基底对硅烯能隙的作用第44-63页
  4.1 基底导致硅烯能隙打开第44-53页
    4.1.1 引言第44-45页
    4.1.2 模拟方法第45-46页
    4.1.3 结果与讨论第46-52页
    4.1.4 小结第52-53页
  4.2 硅烯/硫化钼异质结构的结构和电学性能计算第53-63页
    4.2.1 前言第53-54页
    4.2.2 模拟方法第54-55页
    4.2.3 结果与讨论第55-62页
    4.2.4 小结第62-63页
第5章 密度泛函理论计算铝和铜纳米线的电子输运性质第63-72页
  5.1 前言第63页
  5.2 计算模型和模拟方法第63-65页
  5.3 结果与讨论第65-71页
  5.4 结论第71-72页
第6章 主要结论第72-74页
参考文献第74-94页
攻博期间发表的学术论文第94-95页
致谢第95页

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