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还原再氧化法制备ZnO压敏陶瓷及其叠层片式元件关键技术研究

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还原再氧化法制备ZnO压敏陶瓷及其叠层片式元件关键技术研究
论文目录
 
摘要第1-7页
Abstract第7-14页
1 绪论第14-29页
  1.1 研究背景第14-15页
  1.2 ZnO压敏电阻电性能及其表征第15-17页
  1.3 ZnO压敏电阻基本理论模型第17-20页
  1.4 ZnO压敏陶瓷晶界特性第20-22页
  1.5 ZnO MLVs研究现状及发展趋势第22-26页
  1.6 贱金属内电极ZnO MLVs制备的关键科学问题第26-27页
  1.7 本论文的主要研究内容第27-29页
2 制备工艺及测试方法第29-38页
引言第29页
  2.1 样品制备工艺第29-31页
  2.2 测试及计算方法第31-35页
  2.3 实验所用原料、设备及测试仪器第35-37页
  2.4 本章小结第37-38页
3 ZnO在还原气氛中的分解及缺陷化学研究第38-70页
引言第38-39页
  3.1 传统ZnO-Bi_2O_3系压敏材料的抗还原特性研究第39-44页
  3.2 ZnO的抗还原改性研究第44-51页
  3.3 ZnO的第一性原理计算及BN对组分的还原抑制机理第51-57页
  3.4 ZnO-Bi_2O3-BN压敏陶瓷的再氧化及电性能研究第57-66页
  3.5 再氧化过程及机理研究第66-68页
  3.6 本章小结第68-70页
4 基于还原再氧化工艺的ZnO压敏材料改性研究第70-91页
引言第70页
  4.1 Sb_2O_3掺杂对微观结构及电性能的影响研究第70-78页
  4.2 Sb_2O_3对压敏陶瓷性能影响机理第78-81页
  4.3 过渡金属氧化物MnO_2、Co_2O_3掺杂改性研究第81-85页
  4.4 MnO_2、Co_2O_3改性机理及协同机制第85-89页
  4.5 本章小结第89-91页
5 片式ZnO压敏电阻及其与贱金属Ni内电极的共烧研究第91-114页
引言第91-92页
  5.1 Ni电极与ZnO压敏材料的共烧匹配及欧姆接触第92-95页
  5.2 ZnO MLVs压敏电压调控第95-103页
  5.3 再氧化过程对ZnO MLVs微观结构及电性能影响第103-109页
  5.4 烧结制程与再氧化条件分析第109-112页
  5.5 本章小结第112-114页
6 全文总结与展望第114-118页
  6.1 本文总结第114-116页
  6.2 展望第116-118页
致谢第118-120页
参考文献第120-133页
附录1 授权专利及发表论文第133-134页

本篇论文共134页,点击这进入下载页面
 
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