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部分相干光在同步辐射光束线中的传播及应用研究

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部分相干光在同步辐射光束线中的传播及应用研究
论文目录
 
摘要第1-6页
abstract第6-11页
第1章 引言第11-23页
  1.1 同步辐射的发展第11-14页
  1.2 上海光源简介第14-16页
  1.3 光束的相干性第16-17页
  1.4 相干性的应用第17-20页
    1.4.1 相干衍射成像(CDI)第17-18页
    1.4.2 X射线干涉光刻(XIL)第18-19页
    1.4.3 X射线光子关联谱(XPCS)第19-20页
  1.5 同步辐射光束线设计模型的发展第20-22页
  1.6 论文的研究内容及意义第22-23页
第2章 部分相干光的概念第23-40页
  2.1 引言第23-24页
  2.2 衍射理论第24-28页
    2.2.1 惠更斯-菲涅耳衍射第24-25页
    2.2.2 基尔霍夫衍射第25-27页
    2.2.3 夫琅禾费衍射第27-28页
  2.3 相干性的概念第28-30页
    2.3.1 光的干涉第28-29页
    2.3.2 时间相干性第29-30页
    2.3.3 空间相干性第30页
  2.4 部分相干光的传播第30-40页
    2.4.1 互相干函数第30-33页
    2.4.2 互强度和复相干度第33-35页
    2.4.3 互强度的传播第35-37页
    2.4.4 交叉频谱密度的传播第37页
    2.4.5 范泽西-泽尼克定理第37-40页
第3章 MOI模型的建立第40-69页
  3.1 引言第40-41页
  3.2 自由空间的互强度传播第41-44页
  3.3 菲涅耳积分数值计算第44-47页
  3.4 同步辐射光学元件第47-51页
  3.5 理想镜面的互强度传播第51-54页
  3.6 非理想镜面的互强度传播第54-63页
    3.6.1 镜子的面形第54-56页
    3.6.2 面形对相干性的影响第56-58页
    3.6.3 MOI模型、SRW和Hybrid的比较第58-61页
    3.6.4 相干性和通量的优化第61-63页
  3.7 干涉光刻的的互强度传播第63-69页
    3.7.1 干涉条纹强度分布第65-66页
    3.7.2 相干性对干涉条纹的影响第66-67页
    3.7.3 光栅的衍射效率第67-69页
第4章 MOI模型的应用研究第69-91页
  4.1 引言第69-70页
  4.2 上海光源软X射线谱学显微光束线站相干性分析第70-82页
    4.2.1 光束线站的建设目标第70-71页
    4.2.2 EPU设计第71-72页
    4.2.3 光学布局第72-74页
    4.2.4 SX700光栅单色器第74-75页
    4.2.5 高斯-谢尔光源模型第75-76页
    4.2.6 相干性经过光束线的传播第76-79页
    4.2.7 相干长度的测量第79-82页
  4.3 上海光源软X射线干涉光刻束线站相干性分析第82-91页
    4.3.1 光束线站的建设目标第82-83页
    4.3.2 光学布局第83-84页
    4.3.3 相干性经过光束线的传播第84-87页
    4.3.4 光束线通量和相干性优化第87-88页
    4.3.5 相干长度的测量第88-89页
    4.3.6 光刻胶宽度测量第89-91页
第5章 总结与展望第91-93页
参考文献第93-98页
致谢第98-99页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果第99-100页

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