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几种先进陶瓷及电子材料缺陷性质的计算机模拟研究

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几种先进陶瓷及电子材料缺陷性质的计算机模拟研究
论文目录
 
摘要第1-7页
abstract第7-12页
第一章 绪论第12-28页
  1.1 晶体缺陷的研究进展第12-17页
    1.1.1 晶体缺陷简介第12页
    1.1.2 三维材料晶体缺陷相关研究第12-14页
    1.1.3 二维材料晶体缺陷相关研究第14-17页
  1.2 几种先进陶瓷及电子材料的研究进展第17-25页
    1.2.1 α-Al_2O_3:C热释光及光释光陶瓷第17-20页
      1.2.1.1 热释光及光释光简介第17-18页
      1.2.1.2 α-Al_2O_3:C研究进展第18-20页
    1.2.2 MAX相陶瓷材料Ti_3AlC_2和Ti_3SiC_2第20-23页
    1.2.3 几种二维电子材料研究进展第23-25页
      1.2.3.1 单层GaSe电子材料第23-24页
      1.2.3.2 单层SnS_2和ZrS_2电子材料第24-25页
  1.3 研究目的和意义第25-26页
  1.4 本论文主要研究内容及创新点第26-28页
    1.4.1 主要研究内容第26-27页
    1.4.2 创新点第27-28页
第二章 研究方法及理论基础第28-34页
  2.1 多粒子体系近似方法第28页
  2.2 密度泛函理论第28-30页
    2.2.1 Kohn-Sham方程第29页
    2.2.2 交换相关势第29-30页
  2.3 布洛赫定理第30页
    2.3.1 布里渊区k点取样第30页
    2.3.2 平面波动能截断值第30页
  2.4 电子与核相互作用第30-32页
  2.5 从头算分子动力学第32-33页
  2.6 计算软件简介第33-34页
第三章 C杂质缺陷对 α-Al_2O_3晶体结构和电磁性质影响第34-50页
  3.1 引言第34页
  3.2 计算方法第34-35页
  3.3 结果与讨论第35-48页
    3.3.1 电中性C杂质缺陷第35-43页
      3.3.1.1 缺陷形成能第35-36页
      3.3.1.2 几何结构第36-38页
      3.3.1.3 电磁性质第38-43页
    3.3.2 带电荷C杂质缺陷第43-48页
      3.3.2.1 带电缺陷形成能第44-48页
      3.3.2.2 结果与讨论第48页
  3.4 本章小结第48-50页
第四章 MAX相陶瓷材料Ti_3AlC_2及Ti_3SiC_2低能位移反冲事件第50-67页
  4.1 引言第50页
  4.2 计算方法第50-51页
  4.3 结果与讨论第51-65页
  4.4 本章小结第65-67页
第五章 空位及元素掺杂对单层GaSe几何结构和电磁性质影响第67-80页
  5.1 引言第67页
  5.2 计算方法第67-68页
  5.3 结果与讨论第68-79页
    5.3.1 空位缺陷第68-71页
      5.3.1.1 空位形成能第68页
      5.3.1.2 局域几何结构第68-70页
      5.3.1.3 电磁性质第70-71页
    5.3.2 元素掺杂第71-79页
      5.3.2.1 Ga位掺杂第71-76页
      5.3.2.2 Se位掺杂第76-79页
  5.4 本章小结第79-80页
第六章 空位及元素掺杂对d~0二维材料几何结构和电磁性质影响第80-99页
  6.1 引言第80页
  6.2 计算方法第80-81页
  6.3 结果与讨论第81-98页
    6.3.1 空位缺陷第81-89页
    6.3.2 过渡金属元素掺杂第89-98页
      6.3.2.1 单原子掺杂第89-93页
      6.3.2.2 磁交换耦合第93-98页
  6.4 本章小结第98-99页
第七章 总结与展望第99-102页
  7.1 全文总结第99-100页
  7.2 展望第100-102页
致谢第102-103页
参考文献第103-114页
攻读博士学位期间取得的成果第114-115页

本篇论文共115页,点击这进入下载页面
 
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