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纳米氮化硅的光学性能及其线、薄膜力学行为的模拟研究
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纳米氮化硅的光学性能及其线、薄膜力学行为的模拟研究
论文目录
摘要
第1-5页
ABSTRACT
第5-14页
1 绪论
第14-21页
1.1 引言
第14页
1.2 纳米氮化硅合成方法研究现状
第14-17页
1.3 氮化硅第一性原理研究现状
第17页
1.4 氮化硅分子动力学研究现状
第17-19页
1.5 本文的研究目的与主要内容
第19-21页
1.5.1 本文的研究目的
第19-20页
1.5.2 本文的主要研究内容
第20-21页
2 第一性原理基础理论与方法
第21-27页
2.1 引言
第21页
2.2 密度泛函理论
第21-23页
2.2.1 Hohenberg-Kohn定理
第22页
2.2.2 Kohn-Sham定理
第22-23页
2.3 局域密度近似和广义梯度近似
第23页
2.4 赝势
第23-24页
2.5 物理量介绍
第24-25页
2.5.1 能带结构
第24页
2.5.2 态密度
第24页
2.5.3 光学性质
第24-25页
2.6 Materials Studio软件包
第25页
2.7 本章小结
第25-27页
3 氮化硅掺杂体系的电子结构和光学性能
第27-43页
3.1 引言
第27页
3.2 计算模型及方法
第27-29页
3.2.1 建立模型
第27-28页
3.2.2 计算方法
第28-29页
3.3 结果与讨论
第29-34页
3.3.1 晶体结构
第29-30页
3.3.2 电子结构
第30-32页
3.3.3 电荷分布
第32-34页
3.4 光学性能
第34-41页
3.4.1 介电常数
第35-36页
3.4.2 吸收系数
第36-38页
3.4.3 反射谱
第38-40页
3.4.4 能量损失函数
第40-41页
3.5 本章小结
第41-43页
4 氮化硅吸附体系的电子结构和光学性能
第43-61页
4.1 引言
第43页
4.2 计算方法
第43-45页
4.3 结果与讨论
第45-51页
4.3.1 吸附结构
第45-47页
4.3.2 电子结构和态密度
第47页
4.3.3 电荷分布
第47-51页
4.4 光学性能
第51-59页
4.4.1 介电常数
第51-53页
4.4.2 复折射率
第53页
4.4.3 吸收系数
第53-56页
4.4.4 反射谱
第56-57页
4.4.5 光电导率
第57页
4.4.6 能量损失函数
第57-59页
4.5 本章小结
第59-61页
5 分子动力学模拟方法概述
第61-72页
5.1 引言
第61-62页
5.2 分子动力学基本原理
第62-70页
5.2.1 牛顿运动方程组
第62页
5.2.2 数值求解方法
第62-64页
5.2.3 边界条件
第64-65页
5.2.4 时间步长的选取
第65页
5.2.5 原子间的势函数
第65-67页
5.2.6 系综原理
第67-69页
5.2.7 模拟性能简介
第69-70页
5.3 Lammps软件计算过程简介
第70-71页
5.4 本章小结
第71-72页
6 氮化硅纳米线不同应力状态下的力学行为
第72-87页
6.1 引言
第72页
6.2 势函数的选择和势表的建立
第72-74页
6.3 纳米线模型
第74-75页
6.4 势函数
第75页
6.5 力学行为
第75-85页
6.5.1 拉伸行为
第75-76页
6.5.2 压缩行为
第76-83页
6.5.3 抗弯行为
第83-85页
6.6 本章小结
第85-87页
7 氮化硅纳米薄膜的拉伸力学行为
第87-102页
7.1 引言
第87页
7.2 建立模型
第87页
7.3 拉伸行为
第87-92页
7.4 应变速率对拉伸行为的影响
第92-96页
7.5 温度对拉伸行为的影响
第96-101页
7.6 本章小结
第101-102页
8 结论与展望
第102-104页
8.1 结论
第102-103页
8.2 展望
第103-104页
参考文献
第104-110页
致谢
第110-111页
攻读学位期间取得的研究成果
第111-113页
本篇论文共
113
页,
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。
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