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氧化钼基阻变器件类神经突触特性的研究

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氧化钼基阻变器件类神经突触特性的研究
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论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-11页
第一章 绪论第11-35页
  · 引言第11-14页
  · 阻变器件简介第14-19页
    · 阻变器件的发展历史第14-17页
    · 阻变器件与忆阻器(memristor)第17-19页
    · 氧化物阻变器件的Ⅰ-Ⅴ特性第19页
  · 氧化物阻变器件的物理机制第19-25页
    · ECM机制第20-22页
    · VCM机制第22-24页
    · H_2O对阻变机制的影响第24-25页
  · 神经突触模拟器件研究进展第25-31页
    · 大脑的结构与突触可塑性第25-27页
    · 神经突触可塑性机制第27页
    · 两端阻变器件模拟突触可塑性的进展第27-30页
    · 利用三端阻变器件拟突触可塑性的进展第30-31页
  · α-MoO_3的基本物性第31-33页
  · 选题思路和内容安排第33-35页
    · 选题思路第33-34页
    · 论文内容安排第34-35页
第二章 器件的制备和表征第35-45页
  · 样品制备方法第35-36页
  · 样品表征方法第36-40页
  · 器件的加工第40-42页
  · 器件的电学性质表征第42-45页
第三章 Ag/α-MoO_3/FTO器件的阻变特性第45-67页
  · 前言第45页
  · 薄膜的制备和表征第45-47页
  · 器件ECM阻变特性和机制第47-51页
    · 器件ECM阻变特性第47-49页
    · 器件ECM阻变机制第49-51页
  · 器件VCM阻变特性第51-53页
  · 器件VCM阻变机制第53-64页
    · 不同环境气氛下器件的Ⅰ-Ⅴ特性第55-58页
    · 不同阻态器件的微区XPS分析第58-60页
    · 器件VCM阻变机制第60-64页
  · 小结第64-67页
第四章 应用Ag/α-MoO_3/FTO器件模拟神经突触可塑性第67-83页
  · 前言第67-68页
  · 器件电阻状态连续调控第68-71页
    · 电压扫描获得连续电阻状态第68-69页
    · 脉冲电压获得连续电阻状态第69-71页
  · 突触可塑性模拟第71-78页
    · 从短程记忆到长程记忆第72-75页
    · 激发频率依赖可塑性第75-76页
    · 激发时序依赖可塑性第76-78页
  · 器件突触可塑性机制第78-81页
    · 突触权重抑制过程第78-79页
    · 突触权重增强过程第79-81页
  · 小结第81-83页
第五章 基于准二维α-MoO_3的神经突触晶体管第83-99页
  · 前言第83-84页
  · 器件的制备和结构表征第84-87页
    · α-MoO_3单晶的制备和表征第84-85页
    · 二维α-MoO_3单晶薄片的制备第85-86页
    · 器件的加工第86-87页
  · 器件电性调控及其机制第87-92页
    · 器件的电学性质第87-88页
    · 器件电性调控的机制第88-92页
  · 器件的神经突触可塑性模拟第92-98页
    · EPSC行为第93-95页
    · 双脉冲易化效应第95-97页
    · 从短程记忆效应到长程记忆效应第97-98页
  · 小结第98-99页
第六章 结论和展望第99-101页
参考文献第101-117页
个人简历及发表文章目录第117-119页
致谢第119-121页

本篇论文共121页,点击这进入下载页面。
 
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