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Ⅲ-N半导体光电探测器的载流子输运和材料生长研究

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Ⅲ-N半导体光电探测器的载流子输运和材料生长研究
[博士论文]
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第一章 Ⅲ-N化合物半导体材料与器件第9-27页
  · 引言第9-10页
  · Ⅲ-N化合物半导体材料的物理性质第10-14页
    · 晶体结构和基本物理性质第10-13页
    · 能带结构第13-14页
  · Ⅲ-N化合物半导体中的极化效应第14-19页
    · 自发极化第14-15页
    · 压电极化第15-18页
    · 极化对InGaN/GaN量子阱能带的影响第18-19页
  · Ⅲ-N化合物半导体的外延制备方法第19-23页
    · Ⅲ-N半导体材料外延技术简介第19-20页
    · 分子束外延(MBE)第20-21页
    · 氢化物气相外延(HVPE)第21-22页
    · 金属有机化合物气相沉积(MOCVD)第22-23页
  · 基于Ⅲ-N材料的光电子器件第23-25页
    · 发光二极管第23-24页
    · 激光器第24-25页
    · 太阳能电池第25页
    · 光电探测器第25页
  · 本论文研究内容与安排第25-27页
第二章 MOCVD技术及薄膜测试表征手段第27-37页
  · MOCVD概述第27页
  · MOCVD反应原理第27-30页
  · MOCVD系统组成第30-31页
  · Veeco P125设备简介第31-32页
  · Veeco K465i第32-34页
  · 测试表征手段简介第34-36页
    · 高分辨率X射线衍射仪(HRXRD)第34-35页
    · 光致发光(PL)谱第35-36页
    · 霍尔(Hall)测量第36页
  · 本章小结第36-37页
第三章 Ⅲ-N化合物光电探测器参数与结构第37-47页
  · Ⅲ-N化合物光电探测器简介第37-40页
    · 概述第37-38页
    · 光吸收及吸收系数第38-39页
    · 光电导和光生伏特第39-40页
  · 探测器基本性能参数第40-41页
    · 量子效率和响应率第40页
    · 噪声等效功率与探测率第40-41页
    · 响应时间第41页
  · Ⅲ-N半导体探测器结构第41-46页
    · 光电导型第42-43页
    · 肖特基势垒型第43-44页
    · 金属-半导体-金属(MSM)型第44页
    · P-N结型和P-i-N型第44-46页
    · 雪崩二极管型(APD)第46页
    · 光电晶体管型第46页
  · 本章小结第46-47页
第四章 P-N结量子阱中载流子输运性质的研究第47-61页
  · 引言第47-48页
  · 实验过程第48-51页
  · P-i-N结构测试结果分析第51-56页
  · N-i-N结构测试结果分析第56-58页
  · 实验结果讨论第58-60页
  · 本章小结第60-61页
第五章 半面进气模式对AlGaN材料制备的影响第61-78页
  · 引言第61-63页
  · 传统进气模式简介第63-64页
  · 半面进气模式介绍第64-67页
  · 实验过程及结果分析第67-76页
    · 半面进气模式对GaN材料生长的影响第67-69页
    · 半面进气模式对AlGaN材料生长的影响第69-71页
    · 半面进气抑制预反应原理分析第71-73页
    · 半面进气模式获得的最优化AlGaN材料第73-76页
  · 本章小结第76-78页
结论第78-79页
参考文献第79-95页
个人简历及发表文章目录第95-97页
致谢第97-99页

本篇论文共99页,点击这进入下载页面
 
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