论文目录 | |
致谢 | 第1-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-12页 |
1 引言 | 第12-24页 |
· 薄膜晶体管的应用 | 第12-14页 |
· 薄膜晶体管的发展历史 | 第14-15页 |
· 薄膜晶体管的研究现状 | 第15-17页 |
· 金属氧化物薄膜晶体管应用面临的挑战 | 第17-18页 |
· 本论文的选题依据及研究内容 | 第18-19页 |
参考文献 | 第19-24页 |
2 InZnO:Li TFTs的研制 | 第24-46页 |
· 引言 | 第24页 |
· InZnO:Li TFTs的制备 | 第24-27页 |
· InZnO:Li TFTs有源层厚度的优化 | 第27-31页 |
· InZnO:Li TFTs退火温度的优化 | 第31-36页 |
· InZnO:Li TFTs氧气流量的优化 | 第36-38页 |
· InZnO:Li TFTs的稳定性 | 第38-40页 |
· 本章小结 | 第40-41页 |
参考文献 | 第41-46页 |
3 Zn_(0.5)Sn_(0.5)O:Li TFTs的研制 | 第46-70页 |
· 引言 | 第46页 |
· Zn_(0.5)Sn_(0.5)O:Li TFTs的制备 | 第46-48页 |
· Zn_(0.5)Sn_(0.5)O:Li薄膜的结构和光学性质 | 第48-50页 |
· Zn_(0.5)Sn_(0.5)O:Li TFTs有源层厚度的优化 | 第50-54页 |
· Zn_(0.5)Sn_(0.5)O:Li TFTs退火温度的优化 | 第54-58页 |
· Zn_(0.5)Sn_(0.5)O:Li TFTs氧气流量的优化 | 第58-60页 |
· Zn_(0.5)Sn_(0.5)O:Li TFTs氩气流量的优化 | 第60-64页 |
· 本章小结 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-70页 |
4 Zn_(0.7)Sn_(0.3)O:Li TFTs的研制 | 第70-92页 |
· 引言 | 第70页 |
· Zn_(0.7)Sn_(0.3)O:Li TFTs的制备 | 第70-71页 |
· Zn_(0.7)Sn_(0.3)O:Li TFTs有源层厚度的优化 | 第71-76页 |
· Zn_(0.7)Sn_(0.3)O:Li TFTs退火温度的优化 | 第76-79页 |
· Zn_(0.7)Sn_(0.3)O:Li TFTs氧气流量的优化 | 第79-82页 |
· Zn_(0.7)Sn_(0.3)O:Li TFTs真空退火对其性能的影响 | 第82-84页 |
· Zn_(0.7)Sn_(0.3)O:Li TFTs整体退火对其性能的影响 | 第84-87页 |
· 本章小结 | 第87-88页 |
参考文献 | 第88-92页 |
5 Zn_(0.9)Sn_(0.1)O:Li TFTs的研制 | 第92-108页 |
· 引言 | 第92页 |
· Zn_(0.9)Sn_(0.1)O:Li TFTs的制备 | 第92-93页 |
· Zn_(0.9)Sn_(0.1)O:Li TFTs有源层厚度的优化 | 第93-97页 |
· Zn_(0.9)Sn_(0.1)O:Li TFTs氧气流量的优化 | 第97-98页 |
· Zn_(0.9)Sn_(0.1)O:Li TFTs退火温度的优化 | 第98-100页 |
· Zn_(0.9)Sn_(0.1)O:Li TFTs在空气中的稳定性 | 第100-102页 |
· ZnSnO:Li TFTs的不同Zn、Sn比例对其性能的影响 | 第102-104页 |
· 本章小结 | 第104-105页 |
参考文献 | 第105-108页 |
6 结论 | 第108-110页 |
作者简历及攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第110-114页 |
| 第114页 |