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光电子集成中的异质外延与新材料研究
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光电子集成中的异质外延与新材料研究
论文目录
内容摘要
第1-6 页
ABSTRACT
第6-9 页
目录
第9-11 页
第一章 绪论
第11-15 页
· 引言
第11 页
· 研究背景和意义
第11-13 页
· 本论文的结构安排
第13-14 页
参考文献
第14-15 页
第二章 基于低温缓冲层技术的InP/GaAs外延生长机理研究
第15-47 页
· 引言
第15 页
· 外延生长技术与测试技术简介
第15-26 页
· 金属有机化学气相沉积
第15-18 页
· 晶体生长质量的测试方法
第18-26 页
· 大失配异质外延基本理论模型
第26-28 页
· 低温InP的特殊表面形貌
第28-36 页
· 实验结果
第29-32 页
· 分析与讨论
第32-36 页
· 双低温缓冲层的力学形变效应
第36-41 页
· 实验结果
第36-38 页
· 分析与讨论
第38-41 页
· 本章小结
第41-42 页
参考文献
第42-47 页
第三章 InP/GaAs横向异质外延和生长模型研究
第47-65 页
· 引言
第47-48 页
· InP/GaAs的ELOG实验方案
第48-49 页
· 特殊表面形貌分析
第49-52 页
· Ⅴ/Ⅲ比和掩膜宽度的影响
第49-51 页
· 生长时间的影响
第51-52 页
· 生长动力学的数值模拟
第52-61 页
· 气相扩散生长速率
第53-56 页
· 表面迁移速率
第56-58 页
· 结论
第58-61 页
· 本章小结
第61-63 页
参考文献
第63-65 页
第四章 特殊Ⅲ-Ⅴ化合物的第一性原理研究
第65-95 页
· 引言
第65 页
· 第一性原理计算
第65-78 页
· BAs在Ⅲ-Ⅴ族中的特殊性
第78-82 页
· 半金属化合物:Ⅲ-Bi和Tl-Ⅴ
第82-90 页
· 本章小结
第90-91 页
参考文献
第91-95 页
第五章 GaAs基新合金材料的第一性原理研究
第95-110 页
· 引言
第95 页
· 模型与计算方法
第95-102 页
· 虚晶近似
第96-100 页
· 团簇近似
第100-102 页
· 结构和电学特性
第102-106 页
· 本章小结
第106-107 页
参考文献
第107-110 页
第六章 BGaAs化合物的LP-MOCVD生长实验
第110-123 页
· 引言
第110 页
· 硼源的选择
第110-113 页
· BGaAs生长方案
第113-114 页
· B组分的测量
第114-116 页
· 结果分析
第116-120 页
参考文献
第120-123 页
第七章 总结
第123-126 页
致谢
第126-127 页
攻读博士学位期间已经发表的学术论文
第127页
本篇论文共
127
页,
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