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光电子集成中的异质外延与新材料研究

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光电子集成中的异质外延与新材料研究
论文目录
 
内容摘要第1-6 页
ABSTRACT第6-9 页
目录第9-11 页
第一章 绪论第11-15 页
  · 引言第11 页
  · 研究背景和意义第11-13 页
  · 本论文的结构安排第13-14 页
  参考文献第14-15 页
第二章 基于低温缓冲层技术的InP/GaAs外延生长机理研究第15-47 页
  · 引言第15 页
  · 外延生长技术与测试技术简介第15-26 页
    · 金属有机化学气相沉积第15-18 页
    · 晶体生长质量的测试方法第18-26 页
  · 大失配异质外延基本理论模型第26-28 页
  · 低温InP的特殊表面形貌第28-36 页
    · 实验结果第29-32 页
    · 分析与讨论第32-36 页
  · 双低温缓冲层的力学形变效应第36-41 页
    · 实验结果第36-38 页
    · 分析与讨论第38-41 页
  · 本章小结第41-42 页
  参考文献第42-47 页
第三章 InP/GaAs横向异质外延和生长模型研究第47-65 页
  · 引言第47-48 页
  · InP/GaAs的ELOG实验方案第48-49 页
  · 特殊表面形貌分析第49-52 页
    · Ⅴ/Ⅲ比和掩膜宽度的影响第49-51 页
    · 生长时间的影响第51-52 页
  · 生长动力学的数值模拟第52-61 页
    · 气相扩散生长速率第53-56 页
    · 表面迁移速率第56-58 页
    · 结论第58-61 页
  · 本章小结第61-63 页
  参考文献第63-65 页
第四章 特殊Ⅲ-Ⅴ化合物的第一性原理研究第65-95 页
  · 引言第65 页
  · 第一性原理计算第65-78 页
  · BAs在Ⅲ-Ⅴ族中的特殊性第78-82 页
  · 半金属化合物:Ⅲ-Bi和Tl-Ⅴ第82-90 页
  · 本章小结第90-91 页
  参考文献第91-95 页
第五章 GaAs基新合金材料的第一性原理研究第95-110 页
  · 引言第95 页
  · 模型与计算方法第95-102 页
    · 虚晶近似第96-100 页
    · 团簇近似第100-102 页
  · 结构和电学特性第102-106 页
  · 本章小结第106-107 页
  参考文献第107-110 页
第六章 BGaAs化合物的LP-MOCVD生长实验第110-123 页
  · 引言第110 页
  · 硼源的选择第110-113 页
  · BGaAs生长方案第113-114 页
  · B组分的测量第114-116 页
  · 结果分析第116-120 页
  参考文献第120-123 页
第七章 总结第123-126 页
致谢第126-127 页
攻读博士学位期间已经发表的学术论文第127页

本篇论文共127页,点击这进入下载页面
 
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