微弧氧化膜层形成及其表面粗糙度的研究

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微弧氧化膜层形成及其表面粗糙度的研究

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微弧氧化膜层形成及其表面粗糙度的研究

论文目录
摘要	第1-6 页
Abstract	第6-14 页
第1章绪论	第14-28 页
· 微弧氧化技术简介	第14-16 页
· 微弧氧化技术发展	第14-15 页
· 微弧氧化技术基本原理	第15 页
· 微弧氧化技术特点	第15-16 页
· 微弧氧化技术发展现状及趋势	第16-25 页
· 国内外工艺研究现状	第16-18 页
· 膜层表面粗糙度工艺研究现状	第18-19 页
· 膜层形成过程研究现状	第19-23 页
· 微弧氧化技术应用进程	第23-25 页
· 课题研究的目的和意义	第25-26 页
· 本课题的主要研究内容	第26-28 页
第2章试验条件及研究方法	第28-35 页
· 微弧氧化试验设备	第28-32 页
· 微弧氧化电源	第28-31 页
· 温度控制系统	第31-32 页
· 试验材料	第32 页
· 工艺流程	第32 页
· 测试分析设备及方法	第32-34 页
· 表面粗糙度测试	第32-33 页
· 厚度检测	第33 页
· 硬度检测	第33 页
· 膜层微观形貌分析	第33-34 页
· 膜层表面耐磨性分析	第34 页
· 膜层表面耐腐蚀性分析	第34 页
· 本章小结	第34-35 页
第3章微弧氧化火花放电过程	第35-65 页
· 介质击穿理论	第35-39 页
· 气体介质击穿	第35-37 页
· 固体介质击穿	第37-39 页
· 微弧氧化火花放电特点	第39-47 页
· 微弧氧化处理过程中的现象分析	第39-45 页
· 处理方式对放电火花状态的影响	第45 页
· 火花放电特征	第45-46 页
· 火花形成条件	第46-47 页
· 单个火花放电机理探讨	第47-61 页
· 火花放电等离子源形成	第47-54 页
· 等离子体放电击穿膜层	第54-57 页
· 构成膜层的物质生成	第57-60 页
· 等离子体放电火花熄灭	第60-61 页
· 放电现象研究	第61-63 页
· 放电火花自动产生和消失的机制	第61-62 页
· 放电火花分布自动演化	第62-63 页
· 本章小结	第63-65 页
第4章微弧氧化膜层形成机制	第65-85 页
· 膜层生长机制分析	第65-76 页
· 膜层形成过程中的反应	第65-68 页
· 火花放电过程中膜层的生长	第68-70 页
· 膜层晶相变化分析	第70-71 页
· 膜层表面形貌的形成	第71-72 页
· 工艺参数对膜层形成的影响	第72-76 页
· 微弧氧化膜层形成过程试验研究	第76-84 页
· 膜层形成演化过程	第76-82 页
· 工艺参数对膜层表面形貌的影响	第82-84 页
· 本章小结	第84-85 页
第5章微弧氧化工艺参数优化	第85-96 页
· 试验方法	第85 页
· 数据分析方法	第85-87 页
· 支持向量机回归分析基本原理	第87-90 页
· 回归分析模型建立	第90-92 页
· 模型校验	第92-95 页
· 本章小结	第95-96 页
第6章膜层表面粗糙度工艺试验	第96-108 页
· 工艺研究方案	第96-99 页
· 溶液的选择	第97-98 页
· 工艺研究路线	第98-99 页
· 工艺参数优化	第99 页
· 处理方式对膜层表面粗糙度的影响	第99-102 页
· 能量控制方式的影响	第99-101 页
· 脉冲输出形式的影响	第101-102 页
· 基体材料的影响	第102-104 页
· 最小表面粗糙度值的膜层性能	第104-106 页
· 本章小结	第106-108 页
结论	第108-110 页
参考文献	第110-120 页
攻读博士学位期间发表的学术论文	第120-122 页
致谢	第122-123 页
个人简历	第123页

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