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带式磁流变抛光关键技术研究
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带式磁流变抛光关键技术研究
论文目录
摘要
第1-7页
Abstract
第7-12页
第1章 绪论
第12-30页
1.1 课题研究背景及意义
第12-13页
1.2 光学加工常用技术与介绍
第13-22页
1.2.1 CCOS小磨头
第14-16页
1.2.2 应力盘加工技术
第16-17页
1.2.3 离子束修形技术
第17-19页
1.2.4 等离子体修形
第19-20页
1.2.5 磁流变抛光技术
第20-22页
1.3 带式磁流变抛光的研究现状
第22-28页
1.3.1 带式磁流变抛光的提出及其原理
第22-23页
1.3.2 带式磁流变设备的研究现状
第23-24页
1.3.3 带式磁流变磁盒及磁铁
第24-26页
1.3.4 带式磁流变去除函数研究现状
第26-28页
1.4 本论文的主要研究内容
第28-30页
第2章 带式磁流变抛光系统研发
第30-52页
2.1 概述
第30页
2.2 带式磁流变皮带传动系统
第30-39页
2.2.1 皮带传动结构及特点
第30-31页
2.2.2 皮带传动受力分析
第31-33页
2.2.3 提高皮带轮驱动能力
第33-35页
2.2.4 降低皮带摩擦的负载
第35-39页
2.3 带式磁流变循环回收系统
第39-44页
2.3.1 磁流变液供给
第39页
2.3.2 磁流变液回收
第39-42页
2.3.3 磁流变液温度及粘度控制
第42-44页
2.4 带式磁流变磁铁及磁场系统
第44-49页
2.4.1 磁场的基本要求
第44页
2.4.2 磁铁的选型与磁场仿真设计
第44-48页
2.4.3 磁盒的设计及磁场实测验证
第48-49页
2.5 本章小结
第49-52页
第3章 带式磁流变抛光去除机理研究
第52-78页
3.1 概述
第52页
3.2 磁流变去除函数分析
第52-57页
3.2.1 去除函数大小的分析
第52-53页
3.2.2 去除函数分布的分析
第53-55页
3.2.3 去除函数模型的研究
第55-57页
3.3 带式去除函数分布模型
第57-66页
3.3.1 抛光间隙及间隙斜率
第57-59页
3.3.2 虚拟缎带凸起理论
第59-62页
3.3.4 去除函数分布模型
第62-66页
3.4 去除函数分布模型的实验验证
第66-76页
3.4.1 间隙及其斜率标定
第66-68页
3.4.2 去除函数分布实验
第68-73页
3.4.3 去除函数模型参数讨论
第73-76页
3.5 本章小结
第76-78页
第4章 带式磁流变工艺研究
第78-98页
4.1 概述
第78页
4.2 各参数对去除函数的影响
第78-89页
4.2.1 抛光间隙及间隙斜率
第78-82页
4.2.2 皮带转速
第82-84页
4.2.3 磁盒气压
第84-85页
4.2.4 时间线性
第85-87页
4.2.5 时间稳定性
第87-89页
4.3 不同材料的去除函数
第89-93页
4.3.1 碳化硅和玻璃材料的特点分析
第89-90页
4.3.2 不同材料的去除效率
第90-92页
4.3.3 不同材料的粗糙度
第92-93页
4.4 不同磁盒的去除函数
第93-96页
4.5 本章小结
第96-98页
第5章 带式磁流变抛光应用研究
第98-116页
5.1 概述
第98页
5.2 Belt-MRF龙门机床加工中心
第98-103页
5.2.1 抛光系统紧凑性设计
第98-99页
5.2.2 Belt-MRF与2.5m龙门机床的集成
第99-102页
5.2.3 加工姿态的调整与控制
第102-103页
5.3 边缘效应的抑制
第103-108页
5.3.1 光学加工边缘效应
第103-104页
5.3.2 带式磁流变边缘去除函数
第104-107页
5.3.3 带式磁流变边缘效应的抑制
第107-108页
5.4 235mmSiC加工实例
第108-114页
5.4.1 工艺流程及加工策略
第108页
5.4.2 去除函数位置标定
第108-110页
5.4.3 加工轨迹优化
第110-111页
5.4.4 仿真及实际加工结果
第111-114页
5.5 本章小结
第114-116页
第6章 总结与展望
第116-120页
6.1 全文总结
第116-117页
6.2 论文创新点
第117页
6.3 工作展望
第117-120页
参考文献
第120-128页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果
第128-130页
致谢
第130页
本篇论文共
130
页,
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。
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