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低温下非氧化物陶瓷的断裂机理、裂纹扩展与性能研究

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低温下非氧化物陶瓷的断裂机理、裂纹扩展与性能研究
论文目录
 
摘要第3-4页
Abstract第4-9页
第1章 引言第9-12页
  1.1 研究背景和意义第9-10页
  1.2 论文的内容与结构第10-11页
  1.3 主要创新成果第11-12页
第2章 文献综述第12-31页
  2.1 低温材料研究现状第12-26页
    2.1.1 低温金属材料研究进展第12-15页
    2.1.2 低温高分子复合材料研究进展第15-16页
    2.1.3 低温结构陶瓷研究进展第16-26页
  2.2 本课题研究的非氧化物陶瓷简介第26-28页
    2.2.1 氮化铝陶瓷第26-27页
    2.2.2 氮化硅陶瓷第27-28页
    2.2.3 碳化硅陶瓷第28页
  2.3 非氧化物陶瓷典型增韧机制第28-31页
第3章 实验方法第31-37页
  3.1 研究对象第31页
  3.2 陶瓷材料低温力学性能的测试第31-35页
    3.2.1 低温测试设备改造第32-33页
    3.2.2 抗弯强度第33页
    3.2.3 断裂韧性第33-35页
  3.3 分析表征方法第35-36页
  3.4 烧结设备第36-37页
第4章 低温下氮化铝陶瓷的断裂模式及力学性能研究第37-51页
  4.1 引言第37页
  4.2 实验和研究方法第37-38页
  4.3 低温下氮化铝陶瓷断裂模式第38-40页
  4.4 低温下氮化铝陶瓷力学性能第40-41页
  4.5 断裂模式与断裂表面能的关系第41-44页
  4.6 低温下断裂表面能变化的间接验证第44-45页
  4.7 低温下氮化铝陶瓷力学性能变化的解释第45-46页
  4.8 低温下氮化铝陶瓷断裂模式改变的解释第46-49页
  4.9 本章小结第49-51页
第5章 低温下氮化硅陶瓷的裂纹扩展与数值模拟计算第51-64页
  5.1 引言第51页
  5.2 实验和研究方法第51-52页
  5.3 不同温度下裂纹偏转的角度分布和穿晶断裂比例第52-55页
  5.4 氮化硅与氮化铝陶瓷低温断裂模式的对比第55-57页
  5.5 低温下裂纹扩展的数值模拟第57-62页
  5.6 本章小结第62-64页
第6章 低温环境对氮化硅陶瓷中桥接行为的影响第64-78页
  6.1 引言第64页
  6.2 实验和研究方法第64-67页
    6.2.1 裂纹扩展阻力曲线绘制第64-66页
    6.2.2 裂纹桥接的观察与统计第66页
    6.2.3 拉曼光谱的测定第66-67页
  6.3 氮化硅陶瓷低温和室温下的桥接现象第67-69页
  6.4 低温下氮化硅陶瓷的裂纹扩展阻力曲线第69-71页
  6.5 低温下氮化硅陶瓷断裂韧性增加的解释第71-72页
  6.6 低温下氮化硅陶瓷中裂纹桥接的形成概率第72-74页
  6.7 低温下氮化硅陶瓷中桥接应力的测定第74-76页
  6.8 本章小结第76-78页
第7章 烧结助剂对氮化硅陶瓷低温力学性能的影响第78-90页
  7.1 引言第78页
  7.2 实验和研究方法第78-80页
  7.3 烧结助剂对氮化硅陶瓷密度的影响第80-81页
  7.4 烧结助剂质量分数对氮化硅陶瓷低温力学性能的影响第81-84页
  7.5 氧化钇和氧化铝配比对氮化硅陶瓷低温力学性能的影响第84-88页
  7.6 本章小结第88-90页
第8章 气孔对无压烧结碳化硅陶瓷低温性能的影响第90-99页
  8.1 引言第90页
  8.2 实验和研究方法第90-91页
  8.3 低温下无压烧结碳化硅陶瓷抗弯强度的变化第91-94页
  8.4 气孔对无压烧结碳化硅陶瓷低温热导率的影响第94-97页
  8.5 本章小结第97-99页
第9章 结论第99-101页
参考文献第101-111页
致谢第111-113页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第113-114页

本篇论文共114页,点击这进入下载页面
 
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