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钛合金表面微弧氧化与溶胶凝胶法制备高发射率涂层

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钛合金表面微弧氧化与溶胶凝胶法制备高发射率涂层
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-20页
  · 课题背景和研究意义第9-11页
  · 高发射率辐射材料的应用及研究概况第11-13页
    · 红外辐射基本概念第11-12页
    · 高发射率材料的研究现状第12-13页
    · 高发射率材料的应用现状第13页
  · 高发射率涂层概况第13-18页
    · 高发射率涂层的研究现状第13-14页
    · 高发射率涂层的制备方法及存在问题第14-16页
    · 高发射率涂层的影响因素第16-17页
    · 提高涂层发射率的途径第17-18页
  · 微弧氧化技术研究概况第18-19页
    · 微弧氧化技术简介第18页
    · 微弧氧化技术的特点及优势第18-19页
  · 本课题主要研究内容第19-20页
第2章 实验材料及研究方法第20-27页
  · 实验材料及药品第20-21页
  · 实验设备第21-22页
    · 微弧氧化装置第21页
    · 微弧氧化电源第21-22页
    · 线切割机第22页
  · 试样的制备第22-23页
  · 膜层的表征分析手段第23-24页
    · 微弧氧化膜层厚度的测试第23页
    · XRD 测试分析第23页
    · 扫描电镜(SEM)表面形貌观察第23-24页
    · 膜层的能谱分析第24页
  · 膜层的性能测试分析第24-27页
    · 膜层的剪切强度分析第24-25页
    · 膜层的发射率测试第25-27页
第3章 钛合金微弧氧化膜层的制备及研究第27-38页
  · 钛合金微弧氧化涂层制备第27-30页
  · 微弧氧化陶瓷膜层微观组织及表面形貌第30-34页
    · 微弧氧化陶瓷膜层的物相分析第30-31页
    · 微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌分析第31-34页
  · 微弧氧化陶瓷膜层性能分析第34-37页
    · 微弧氧化陶瓷膜层的结合强度第34-35页
    · 微弧氧化陶瓷膜层的发射率测试第35-37页
  · 本章小结第37-38页
第4章 复合膜层的制备及研究第38-62页
  · 含过渡金属的溶胶及CCTO 溶胶粉体制备及研究第38-45页
    · 溶胶粉体的制备第38-39页
    · 溶胶粉体的物相分析第39-42页
    · 溶胶粉体的红外谱图分析第42-45页
  · 复合膜层制备方法及分析第45-52页
    · 复合膜层的制备方法第46-48页
    · 复合膜层的物相分析第48-50页
    · 复合膜层的表面形貌第50-52页
  · 复合膜层的性能分析第52-58页
    · 复合膜层的剪切强度测试第52-53页
    · 红外涂层剪切强度分析第53-55页
    · 复合膜层的发射率测试第55-58页
  · 红外涂层辐射机理分析第58-60页
    · 影响红外涂层发射率因素的理论分析第58-59页
    · 复合膜层声子辐射机制第59-60页
  · 本章小结第60-62页
结论第62-63页
参考文献第63-68页
致谢第68页

本篇论文共68页,点击这进入下载页面
 
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