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小电流密度钛合金TC4微弧氧化膜制备研究

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小电流密度钛合金TC4微弧氧化膜制备研究
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-13页
  · 课题来源及研究意义和目的第9页
    · 课题来源第9页
    · 课题研究意义第9页
    · 课题研究目的第9页
  · 微弧氧化技术第9-12页
    · 微弧氧化技术第9-10页
    · 微弧氧化技术发展现状第10页
    · 微弧氧化机理第10页
    · 钛合金微弧氧化国内外研究现状第10-11页
    · 钛合金微弧氧化存在的问题第11-12页
  · 本课题研究的主要内容第12-13页
第2章 试验条件和试验方法第13-18页
  · 试验条件第13-16页
    · 试验设备第13-14页
    · 试验材料第14页
    · 试验试剂第14页
    · 测试方法第14-16页
  · 试验方法优化第16-17页
  · 本章小结第17-18页
第3章 小电流密度钛合金TC4 微弧氧化膜制备工艺的研究第18-48页
  · 三种电解液体系下工艺参数对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第18-21页
    · 磷酸盐体系对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第18-19页
    · 硅酸盐体系对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第19-20页
    · 铝酸盐体系对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第20-21页
  · 三种电解液体系下工艺参数的正交试验研究及分析第21-25页
    · 磷酸盐体系下正交试验研究及分析第22-23页
    · 硅酸盐体系下正交试验研究及分析第23-24页
    · 铝酸盐体系下正交试验研究及分析第24-25页
  · 三种电解液体系下电参数和时间对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第25-40页
    · 磷酸盐体系下电参数和时间对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第25-31页
    · 硅酸盐体系下电参数和时间对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第31-35页
    · 铝酸盐体系下电参数和时间对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第35-40页
  · 三种电解液体系下电参数和时间正交试验研究及分析第40-44页
    · 磷酸盐体系电参数和时间正交试验研究及分析第41-42页
    · 硅酸盐体系电参数和时间正交试验研究及分析第42-43页
    · 铝酸盐体系电参数和时间正交试验研究及分析第43-44页
  · 最优制备工艺方案的确定第44-45页
  · 电解液稳定性对微弧氧化膜的影响第45-47页
    · 电解液稳定性对膜层厚度的影响第45-46页
    · 电解液稳定性对膜层耐腐性的影响第46-47页
  · 本章小结第47-48页
第4章 纳米Al_20_3对钛合金TC4 微弧氧化膜改性的研究第48-64页
  · 纳米Al_20_3 添加剂对微弧氧化膜的影响第48-50页
    · 纳米Al_20_3 添加剂对微弧氧化膜表面形貌的影响第48页
    · 纳米Al_20_3 添加剂对微弧氧化膜厚度的影响第48-49页
    · 纳米Al_20_3 添加剂对微弧氧化膜耐腐性的影响第49-50页
  · 运用神经网络建立Al_20_3、电参数和时间对微弧氧化膜性能预测模型第50-55页
    · 试验方案的确定第50页
    · 试验结果第50-51页
    · 运用神经网络建立预测模型第51-55页
  · 计算膜层孔隙面积和比较膜层致密性方法的研究第55-60页
    · 膜层的电阻、疏松层和致密层电容随浸泡时间的变化规律第56-57页
    · 膜层的自腐蚀电流与膜层电阻、疏松层和致密层电容之间关系第57-58页
    · 膜层自腐蚀电流与膜层孔隙面积、疏松层和致密层致密性之间关系的研究第58-60页
  · 纳米Al_20_3 对提高微弧氧化膜层耐腐蚀性机理的研究第60-63页
  · 本章小结第63-64页
第5章 小电流密度钛合金TC4 微弧氧化反应的研究第64-75页
  · 不同电解液体系微弧氧化热力学反应的研究第64-70页
    · 磷酸盐体系微弧氧化热力学反应的研究第64-68页
    · 铝酸盐体系微弧氧化热力学反应机理的研究第68-69页
    · 硅酸盐体系微弧氧化热力学反应机理的研究第69-70页
  · 两种后处理方式对钛合金TC4 微弧氧化膜耐腐性能的研究第70-74页
    · 两种处理方式对钛合金TC4 微弧氧化膜耐腐性的影响第70-71页
    · 两种处理方式提高钛合金TC4 微弧氧化膜耐腐性机理的研究第71-74页
  · 本章小结第74-75页
结论第75-76页
参考文献第76-80页
攻读硕士学位期间所发表的学位论文第80-82页
致谢第82页

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