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镍钛合金表面a-C：F膜的制备与性能研究
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镍钛合金表面a-C：F膜的制备与性能研究
论文目录
 
摘要第1-6 页
Abstract第6-11 页
第1章 绪论第11-21 页
　　· 本文研究的背景及意义第11 页
　　· NiTi合金表面改性技术第11-13 页
　　· a-C:F膜的性能特点第13 页
　　· a-C:F膜的制备技术第13-18 页
　　　　· a-C:F膜气体源沉积技术第14-15 页
　　　　· a-C:F膜固体源沉积技术第15-18 页
　　· a-C:F膜的应用第18-19 页
　　　　· a-C:F膜在生物医用领域的应用第18-19 页
　　　　· a-C:F膜在超大规模集成电路领域的应用第19 页
　　· 本文的研究内容第19-21 页
第2章 a- C:F膜制备及表征方法第21-35 页
　　· a-C:F膜的制备方法第21-23 页
　　　　· 磁控溅射原理及特点第21-22 页
　　　　· 实验装置介绍第22-23 页
　　· a-C:F膜表征方法第23-34 页
　　　　· 傅立叶红外吸收光谱第24-26 页
　　　　· X射线光电子能谱第26-27 页
　　　　· Raman光谱第27-29 页
　　　　· X射线衍射分析第29 页
　　　　· 纳米压痕技术第29-32 页
　　　　· 原子力形貌分析第32-33 页
　　　　· 电化学分析第33-34 页
　　· 本章小结第34-35 页
第3章 a-C:F膜的制备实验第35-42 页
　　· 实验方案设计第35-39 页
　　　　· 溅射参数选定第35-38 页
　　　　· 溅射工艺制定第38-39 页
　　· a-C:F膜的制备过程第39-41 页
　　　　· 基片前处理第39 页
　　　　· 溅射过程第39-41 页
　　· 本章小结第41-42 页
第4章 a-C:F膜的结构和形貌表征第42-68 页
　　· a-C:F膜的红外光谱分析第42-46 页
　　　　· PTFE靶的红外光谱第43 页
　　　　· 射频功率的影响第43-45 页
　　　　· Ar流量的影响第45-46 页
　　　　· 沉积时间的影响第46 页
　　· a-C:F膜的X射线光电子能谱分析第46-55 页
　　　　· 射频功率的影响第48-53 页
　　　　· Ar流量的影响第53-55 页
　　· Raman光谱分析第55-59 页
　　　　· 射频功率的影响第55-57 页
　　　　· Ar流量的影响第57-59 页
　　· X射线衍射结构分析第59-61 页
　　· a-C:F膜表面形貌分析第61-66 页
　　　　· a-C:F膜原子力显微表面形貌分析第61-62 页
　　　　· 射频功率的影响第62-64 页
　　　　· Ar流量的影响第64-65 页
　　　　· 沉积时间的影响第65-66 页
　　· 本章小结第66-68 页
第5章 a-C:F膜的力学及腐蚀性能第68-82 页
　　· a-C:F膜的加载-卸载曲线第68-69 页
　　· 射频功率对a-C:F膜力学性能的影响第69-73 页
　　　　· 不同射频功率下a-C:F膜的加载卸载曲线特性第69-71 页
　　　　· 不同射频功率下a-C:F膜的划擦行为第71-73 页
　　· Ar流量对a-C:F膜力学性能的影响第73-75 页
　　　　· 不同Ar流量下a-C:F膜的加载卸载曲线特性第73-75 页
　　　　· 不同Ar流量下a-C:F膜的划擦行为第75 页
　　· 电化学分析第75-81 页
　　　　· 开路电位-时间曲线第76-78 页
　　　　· 极化曲线第78-81 页
　　· 本章小结第81-82 页
结论第82-83 页
参考文献第83-91 页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第91-92 页
致谢第92页

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