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反应磁控溅射法制备TiO_2薄膜及其性能的研究

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反应磁控溅射法制备TiO_2薄膜及其性能的研究
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-10页
1 绪论第10-24页
  · 概述第10-12页
  · TiO_2薄膜晶体结构第12-14页
  · TiO_2薄膜光催化反应机理第14-16页
  · 影响TiO_2薄膜光催化活性的因素第16-19页
    · 晶型的影响第16-17页
    · 晶粒尺寸的影响第17页
    · 表面的影响第17页
    · 膜的厚度第17-18页
    · 表面羟基及氧空缺第18页
    · 光强第18页
    · 掺杂其它物质第18-19页
  · TiO_2薄膜的沉积方法第19-21页
    · 溶胶-凝胶法第19页
    · 化学气相沉积第19-20页
    · 磁控溅射镀膜法第20-21页
    · 液相沉积法第21页
    · 电子束蒸发法第21页
  · 二氧化钛的应用第21-22页
    · TiO_2在染料敏化太阳能电池中的应用第21-22页
    · TiO_2在污水处理中的应用第22页
    · TiO_2在空气净化上的应用第22页
    · 自清洁涂层第22页
  · 本论文的研究目的、内容及意义第22-24页
2 实验装置与表征方法第24-31页
  · 实验原理第24-27页
    · 原理第24-25页
    · 磁控溅射第25页
    · 实验装置第25-27页
  · 薄膜的表征方法第27-31页
    · X射线衍射第27-28页
    · 原子力显微镜第28-29页
    · 薄膜厚度第29页
    · 紫外分光光度计第29-30页
    · 光催化性能第30-31页
3 磁控溅射法沉积TiO_2薄膜第31-34页
  · TiO_2薄膜的沉积过程第31-32页
    · 基片制作与清洗第31页
    · 镀膜过程第31-32页
  · 实验方案设计第32-34页
    · 不同溅射气压下薄膜的工艺参数第32页
    · 不同溅射功率下薄膜的工艺参数第32-33页
    · 不同基底温度下薄膜的工艺参数第33页
    · 不同氩氧流量比下薄膜的工艺参数第33-34页
4 磁控溅射工艺参数对TiO_2薄膜结构和性质的影响第34-52页
  · 溅射气压对TiO_2薄膜性能的影响第34-38页
    · 溅射气压对TiO_2薄膜沉积速率的影响第34-35页
    · 溅射气压对TiO_2薄膜晶体结构的影响第35页
    · 溅射气压对TiO_2薄膜表面形貌的影响第35-37页
    · 溅射气压对TiO_2薄膜光催化性的影响第37-38页
  · 溅射功率对TiO_2薄膜性能的影响第38-42页
    · 溅射功率对沉积速率的影响第38-39页
    · 溅射功率对TiO_2薄膜晶体结构的影响第39-40页
    · 溅射功率对TiO_2薄膜表面形貌的影响第40-41页
    · 溅射功率对TiO_2薄膜光催化性的影响第41-42页
  · 基底温度对TiO_2薄膜性能的影响第42-46页
    · 基底温度对沉积速率的影响第42-43页
    · 基底温度对TiO_2薄膜晶体结构的影响第43-44页
    · 基底温度对TiO_2薄膜表面形貌的影响第44-45页
    · 基底温度对TiO_2薄膜光催化性能的影响第45-46页
  · 氧含量对TiO_2薄膜性能的影响第46-50页
    · 氧含量对沉积速率的影响第46-47页
    · 氧含量对TiO_2薄膜晶体结构的影响第47-48页
    · 氧含量对TiO_2薄膜表面形貌的影响第48-49页
    · 氧含量对TiO_2薄膜光催化活性的影响第49-50页
  · 本章小结第50-52页
5 二氧化钛薄膜的光学性质第52-54页
  · 不同衬底温度下TiO_2薄膜的光学性质讨论第52-53页
  · 本章小结第53-54页
结论第54-56页
参考文献第56-60页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第60-61页
致谢第61-62页

本篇论文共62页,点击这进入下载页面
 
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