论文目录 | |
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 1 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 超级电容器研究背景 | 第13页 |
| 1.2 超级电容器简介 | 第13-15页 |
| 1.3 石墨烯用于超级电容器电极材料 | 第15-23页 |
| 1.3.1 石墨烯结构设计的基本原理 | 第15-16页 |
| 1.3.2 石墨烯的制备及其结构设计 | 第16-23页 |
| 1.4 选题依据及主要研究内容 | 第23-25页 |
| 2 一价阳离子盐对水热还原氧化石墨烯三维凝胶结构的影响 | 第25-43页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 原料、装置及分析测试 | 第25-27页 |
| 2.2.1 原料 | 第25-26页 |
| 2.2.2 仪器设备 | 第26页 |
| 2.2.3 材料表征与性能测试 | 第26-27页 |
| 2.2.4 电极的制备与超级电容器的组装测试 | 第27页 |
| 2.3 还原氧化石墨的制备 | 第27-28页 |
| 2.3.1 氧化石墨烯的制备 | 第27-28页 |
| 2.3.2 盐辅助调控GO的聚集行为 | 第28页 |
| 2.3.3 盐辅助制备还原氧化石墨烯 | 第28页 |
| 2.4 不同浓度的氯化钠与GO混合溶液水热样品的研究 | 第28-38页 |
| 2.4.1 GO中加入氯化钠溶液的Zeta电位及激光粒度表征 | 第28-29页 |
| 2.4.2 石墨烯材料的光学图片 | 第29-30页 |
| 2.4.3 石墨烯材料的扫描电镜图 | 第30-31页 |
| 2.4.4 材料的X射线粉末衍射 | 第31-32页 |
| 2.4.5 材料的Raman光谱 | 第32页 |
| 2.4.6 材料的XPS表征 | 第32-33页 |
| 2.4.7 材料的比表面测试 | 第33-36页 |
| 2.4.8 材料的电化学性能测试 | 第36-38页 |
| 2.6 不同一价阳离子盐与GO混合溶液水热样品的研究 | 第38-40页 |
| 2.6.1 还原氧化石墨烯制备 | 第38页 |
| 2.6.2 材料的比表面积测试 | 第38-39页 |
| 2.6.3 材料的电化学性能 | 第39-40页 |
| 2.7 机理讨论 | 第40页 |
| 2.8 本章小结 | 第40-43页 |
| 3 不同价态阳离子盐对还原氧化石墨烯聚集结构的影响 | 第43-61页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 原料及装置 | 第43-44页 |
| 3.2.1 原料 | 第43页 |
| 3.2.2 仪器设备 | 第43-44页 |
| 3.3 还原氧化石墨的制备 | 第44页 |
| 3.3.1 氧化石墨的制备 | 第44页 |
| 3.3.2 氯化镁辅助调控GO聚集行为 | 第44页 |
| 3.3.3 氯化镁辅助制备还原氧化石墨烯 | 第44页 |
| 3.4 不同浓度氯化镁对水热还原制备RGO性能的影响研究 | 第44-53页 |
| 3.4.1 GO中加入氯化镁溶液的Zeta电位及激光粒度表征 | 第44-45页 |
| 3.4.2 水热还原后RGO样品的光学图片 | 第45-46页 |
| 3.4.3 材料的扫描图 | 第46-47页 |
| 3.4.4 材料的X射线粉末衍射 | 第47-48页 |
| 3.4.5 材料的拉曼表征 | 第48页 |
| 3.4.6 材料的XPS表征 | 第48-50页 |
| 3.4.7 材料的热重曲线 | 第50页 |
| 3.4.8 材料的比表面积及孔径分析 | 第50-51页 |
| 3.4.9 材料的电容性能表征 | 第51-53页 |
| 3.5 铝离子辅助水热还原制备石墨烯 | 第53页 |
| 3.5.1 铝离子调控GO的聚集行为 | 第53页 |
| 3.5.2 铝离子辅助还原氧化石墨烯的制备 | 第53页 |
| 3.6 不同浓度的铝离子辅助还原制备RGO的结构与性能研究 | 第53-56页 |
| 3.6.1 GO中加入氯化铝溶液的Zeta电位及激光粒度表征 | 第53页 |
| 3.6.2 材料的光学图片 | 第53-54页 |
| 3.6.3 材料的扫描图 | 第54-55页 |
| 3.6.4 材料的X射线粉末衍射 | 第55页 |
| 3.6.5 材料的电容性能 | 第55-56页 |
| 3.7 钠镁混合离子辅助调控氧化石墨烯的聚集行为 | 第56-57页 |
| 3.8 用自来水洗涤GO | 第57-59页 |
| 3.8.1 材料的制备 | 第58页 |
| 3.8.2 材料的电化学性能测试 | 第58-59页 |
| 3.9 本章小结 | 第59-61页 |
| 4 盐辅助喷雾干燥-热还原方法制备多孔石墨烯 | 第61-71页 |
| 4.1 引言 | 第61页 |
| 4.2 原料及仪器设备 | 第61-62页 |
| 4.2.1 原料 | 第61页 |
| 4.2.2 仪器设备 | 第61-62页 |
| 4.3 喷雾干燥法制备氧化石墨多孔微球 | 第62-63页 |
| 4.4 热还原法制备还原氧化石墨烯 | 第63-64页 |
| 4.5 用SD-1M样品探索温度条件 | 第64-66页 |
| 4.5.1 SD-1M不同温度处理样品的XRD图 | 第64页 |
| 4.5.2 材料比表面分析 | 第64-65页 |
| 4.5.3 材料电化学性能表征 | 第65-66页 |
| 4.6 不同盐浓度调控氧化石墨烯聚集结构 | 第66-70页 |
| 4.6.1 扫描电镜图 | 第66-67页 |
| 4.6.2 材料的松装密度 | 第67页 |
| 4.6.3 材料的X射线粉末衍射 | 第67-68页 |
| 4.6.4 材料的XPS分析 | 第68页 |
| 4.6.5 材料比表面测试 | 第68-69页 |
| 4.6.6 材料电容性能表征 | 第69-70页 |
| 4.7 本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
