非晶材料磁圆二色性与拓扑缺陷致涡旋束的电子显微研究

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非晶材料磁圆二色性与拓扑缺陷致涡旋束的电子显微研究

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非晶材料磁圆二色性与拓扑缺陷致涡旋束的电子显微研究

论文目录
摘要	第1-4页
abstract	第4-7页
第1章引言	第7-27页
1.1 选题背景及意义	第7-8页
1.2 电子能量损失谱简介	第8-10页
1.3 电子能量损失磁手性二向色性(EMCD)技术简介	第10-15页
1.3.1 EMCD技术的创立	第10-11页
1.3.2 EMCD技术的原理	第11-13页
1.3.3 EMCD技术的加和定则	第13-14页
1.3.4 EMCD技术的样品局限	第14-15页
1.4 电子涡旋束简介	第15-21页
1.4.1 涡旋束的基本特点	第15-17页
1.4.2 电子涡旋束在EMCD技术中的应用	第17-18页
1.4.3 电子涡旋束的产生	第18-21页
1.5 ptychography重构成像技术简介	第21-25页
1.5.1 并行投影算法	第22页
1.5.2 扩展PIE算法	第22-24页
1.5.3 ptychography重构成像实验	第24-25页
1.6 研究目标和内容	第25-27页
第2章非晶材料EMCD测量方法	第27-39页
2.1 非晶材料EMCD实验设计	第27-28页
2.2 非晶样品体系	第28-32页
2.2.1 非晶样品的制备	第28-29页
2.2.2 非晶样品的成分表征	第29-30页
2.2.3 非晶样品的晶型结构表征	第30-31页
2.2.4 非晶样品的宏观磁性能表征	第31页
2.2.5 非晶样品的XMCD信号测量	第31-32页
2.3 非晶样品EMCD信号的获取及分析	第32-34页
2.3.1 非晶样品EMCD信号获取	第32-34页
2.3.2 非晶样品EMCD信号定量分析	第34页
2.4 非晶样品EMCD信号的理论计算	第34-38页
2.4.1 非晶样品EMCD信号的理论推导	第34-37页
2.4.2 非晶样品EMCD信号的计算结果	第37-38页
2.5 本章小结	第38-39页
第3章利用刃位错拓扑缺陷产生电子涡旋束	第39-52页
3.1 刃位错产生电子涡旋束的原理	第39-40页
3.2 电子束照明条件	第40-42页
3.3 NiO刃位错分析	第42-44页
3.3.1 NiO样品的制备方法	第42页
3.3.2 NiO刃位错表征	第42页
3.3.3 NiO刃位错的几何相位分析	第42-44页
3.4 利用NiO刃位错产生电子涡旋束的实验及模拟结果	第44-49页
3.4.1 刃位错的电子衍射	第44-46页
3.4.2 刃位错的连续扫描衍射图样及模拟结果	第46-49页
3.5 利用ptychography算法重构刃位错出射波	第49-51页
3.6 本章小结	第51-52页
第4章中锰钢回火阶段Mn元素的位错通道扩散	第52-57页
4.1 5Mn钢样品制备及实验方法	第52-53页
4.2 铁素体和渗碳体的Mn元素分布	第53-54页
4.3 回火期间位错处的Mn元素富集	第54-55页
4.4 回火期间Mn元素位错通道扩散的原位测定	第55-56页
4.5 本章小结	第56-57页
第5章结论	第57-58页
参考文献	第58-63页
致谢	第63-65页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果	第65页

本篇论文共65页，点击这进入下载页面。

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