论文目录 | |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-34页 |
| 1.1 前言 | 第12-15页 |
| 1.1.1 我国水环境污染现状 | 第12页 |
| 1.1.2 传统难降解有机物处理技术弊端 | 第12-14页 |
| 1.1.3 高级氧化技术 | 第14-15页 |
| 1.2 光催化技术及其在水环境污染控制中的应用 | 第15-24页 |
| 1.2.1 半导体光催化原理 | 第15-16页 |
| 1.2.2 半导体材料性能增强的方法和途径 | 第16-22页 |
| 1.2.3 半导体光催化材料在水环境污染治理中的应用 | 第22-24页 |
| 1.3 一维钒酸盐类半导体研究进展 | 第24-30页 |
| 1.3.1 一维钒酸盐类催化剂研究现状 | 第24-25页 |
| 1.3.2 钒酸铁的结构性能及其研究进展 | 第25-27页 |
| 1.3.3 钒酸铁的制备方法 | 第27-30页 |
| 1.4 离子液体在纳米材料合成中的应用 | 第30-32页 |
| 1.5 论文的选题依据和主要研究内容 | 第32-34页 |
| 第二章 离子液体中介孔FeVO_4纳米棒材料的合成及光催化性能研究 | 第34-54页 |
| 2.1 引言 | 第34-35页 |
| 2.2 实验部分 | 第35-38页 |
| 2.2.1 实验仪器 | 第35-36页 |
| 2.2.2 实验试剂 | 第36页 |
| 2.2.3 样品制备 | 第36-37页 |
| 2.2.4 光催化性能研究 | 第37页 |
| 2.2.5 电化学阻抗性能研究 | 第37-38页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第38-52页 |
| 2.3.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第38-39页 |
| 2.3.2 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第39-40页 |
| 2.3.3 红外光谱（FT-IR）分析 | 第40页 |
| 2.3.4 扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）和能谱（EDS）分析 | 第40-42页 |
| 2.3.5 比表面积和孔径分布分析 | 第42-43页 |
| 2.3.6 紫外-可见漫反射光谱（UV-Vis DRS）分析 | 第43-44页 |
| 2.3.7 电化学阻抗谱分析（EIS） | 第44-45页 |
| 2.3.8 光催化活性分析 | 第45-47页 |
| 2.3.9 活性物种分析 | 第47-48页 |
| 2.3.10 循环稳定性分析 | 第48-49页 |
| 2.3.11 光催化降解机理分析 | 第49-52页 |
| 2.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第三章 g-C_3N_4/FeVO_4复合材料的制备及其光催化性能研究 | 第54-70页 |
| 3.1 引言 | 第54-55页 |
| 3.2 实验部分 | 第55-57页 |
| 3.2.1 实验仪器 | 第55-56页 |
| 3.2.2 实验试剂 | 第56页 |
| 3.2.3 样品制备 | 第56-57页 |
| 3.2.4 光催化性能研究 | 第57页 |
| 3.2.5 电化学阻抗性能研究 | 第57页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第57-69页 |
| 3.3.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第57-58页 |
| 3.3.2 红外光谱（FT-IR）分析 | 第58-59页 |
| 3.3.3 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第59-61页 |
| 3.3.4 扫描电镜（SEM）和透射电镜（TEM）分析 | 第61页 |
| 3.3.5 紫外-可见漫反射光谱（UV-Vis DRS）分析 | 第61-62页 |
| 3.3.6 电化学阻抗谱（EIS）分析 | 第62-63页 |
| 3.3.7 荧光光谱（PL）分析 | 第63-64页 |
| 3.3.8 光催化活性分析 | 第64-66页 |
| 3.3.9 活性物种分析 | 第66页 |
| 3.3.10 循环稳定性分析 | 第66-68页 |
| 3.3.11 光催化降解机理分析 | 第68-69页 |
| 3.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 第四章 Ag_3VO_4/FeVO_4复合材料的制备及其光催化性能研究 | 第70-84页 |
| 4.1 引言 | 第70页 |
| 4.2 实验部分 | 第70-72页 |
| 4.2.1 实验仪器 | 第70-71页 |
| 4.2.2 实验试剂 | 第71-72页 |
| 4.2.3 样品制备 | 第72页 |
| 4.2.4 光催化性能研究 | 第72页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第72-82页 |
| 4.3.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第72-73页 |
| 4.3.2 红外光谱（FT-IR）分析 | 第73-74页 |
| 4.3.3 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第74-76页 |
| 4.3.4 扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）和分析 | 第76-77页 |
| 4.3.5 紫外-可见漫反射光谱（UV-Vis DRS）分析 | 第77页 |
| 4.3.6 荧光光谱（PL）分析 | 第77-78页 |
| 4.3.7 光催化活性分析 | 第78-80页 |
| 4.3.8 活性物种分析 | 第80页 |
| 4.3.9 循环稳定性分析 | 第80-81页 |
| 4.3.10 光催化降解机理分析 | 第81-82页 |
| 4.4 本章小结 | 第82-84页 |
| 第五章 结论与展望 | 第84-86页 |
| 5.1 结论 | 第84-85页 |
| 5.2 展望 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-97页 |
| 致谢 | 第97-98页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第98页 |
